JPH0152413B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0152413B2 JPH0152413B2 JP56082359A JP8235981A JPH0152413B2 JP H0152413 B2 JPH0152413 B2 JP H0152413B2 JP 56082359 A JP56082359 A JP 56082359A JP 8235981 A JP8235981 A JP 8235981A JP H0152413 B2 JPH0152413 B2 JP H0152413B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet
- ultraviolet treatment
- treatment tank
- tank
- atmosphere
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は可とう性の被処理物、例えばプラスチ
ツク成形品であるシート、フイルム、電線などを
連続的に紫外線照射処理する連続式紫外線処理装
置に関するものである。
ツク成形品であるシート、フイルム、電線などを
連続的に紫外線照射処理する連続式紫外線処理装
置に関するものである。
従来、各種プラスチツクの表面改質を目的とし
て、これを紫外線処理することは公知とされてい
るが、この紫外線処理はこれを大気中で実施する
と空気中の酸素による架橋反応阻害作用のため、
また紫外線ランプと被処理物との間に存在する空
気などによるエネルギーロスのため、この処理効
果が不充分となつたり、処理時間が長くなるとい
う不利がある。したがつてこの紫外線処理はこれ
を真空下で行なうことがよく、例えば可塑剤など
の内部添加剤を含有する軟質塩化ビニル樹脂成型
品の紫外線処理に当つて、これに200nm以下の紫
外線を照射してその表面に架橋を作らせて可塑剤
などの滲出を防止する場合、これを真空下で行な
うとその処理時間を大気圧下での処理にくらべて
10分の１以下にすることができると報告されてい
る。しかし、これらはいずれもバツチ式のもので
あり、連続製品としてのシート、フイルム、電線
などを真空下に連続式に紫外線処理する方法、装
置は未間発とされている。
て、これを紫外線処理することは公知とされてい
るが、この紫外線処理はこれを大気中で実施する
と空気中の酸素による架橋反応阻害作用のため、
また紫外線ランプと被処理物との間に存在する空
気などによるエネルギーロスのため、この処理効
果が不充分となつたり、処理時間が長くなるとい
う不利がある。したがつてこの紫外線処理はこれ
を真空下で行なうことがよく、例えば可塑剤など
の内部添加剤を含有する軟質塩化ビニル樹脂成型
品の紫外線処理に当つて、これに200nm以下の紫
外線を照射してその表面に架橋を作らせて可塑剤
などの滲出を防止する場合、これを真空下で行な
うとその処理時間を大気圧下での処理にくらべて
10分の１以下にすることができると報告されてい
る。しかし、これらはいずれもバツチ式のもので
あり、連続製品としてのシート、フイルム、電線
などを真空下に連続式に紫外線処理する方法、装
置は未間発とされている。
また、この紫外線処理については、前記した空
気の悪影響を避けるために、この処理室内の空気
を窒素、アルゴンなどの不活性ガスで置換し、こ
の不活性ガス雰囲気で紫外線処理するという方法
も知られているが、これもバツチ式であるため生
産性が低く、これにはまたガス消費量が多くなる
という欠点がある。
気の悪影響を避けるために、この処理室内の空気
を窒素、アルゴンなどの不活性ガスで置換し、こ
の不活性ガス雰囲気で紫外線処理するという方法
も知られているが、これもバツチ式であるため生
産性が低く、これにはまたガス消費量が多くなる
という欠点がある。
本発明はこのような不利を解決した連続式紫外
線処理装置に関するものであり、これは紫外線処
理槽の前後に予備室を有する紫外線処理装置にお
いて、複数個配置した上下一対のシールロールと
該ロールを収納するハウジングとからなる予備室
を前記紫外線処理槽の前後にそれぞれ配置し、該
紫外線処理槽内にはガイドローラーに導かれて槽
内を曲折走行するプラスチツクフイルムを照射す
る紫外線ランプを多数配列し、プラスチツクフイ
ルムを大気中から前方予備室を経て紫外線処理槽
に導入し、紫外線処理後に後方予備室を経て大気
中に連続的に送り出ように構成したことを特徴と
する連続式紫外線処理装置に関するものである。
線処理装置に関するものであり、これは紫外線処
理槽の前後に予備室を有する紫外線処理装置にお
いて、複数個配置した上下一対のシールロールと
該ロールを収納するハウジングとからなる予備室
を前記紫外線処理槽の前後にそれぞれ配置し、該
紫外線処理槽内にはガイドローラーに導かれて槽
内を曲折走行するプラスチツクフイルムを照射す
る紫外線ランプを多数配列し、プラスチツクフイ
ルムを大気中から前方予備室を経て紫外線処理槽
に導入し、紫外線処理後に後方予備室を経て大気
中に連続的に送り出ように構成したことを特徴と
する連続式紫外線処理装置に関するものである。
つぎに本発明の一実施例を図面にもとづいて説
明すると、第１図はいずれも本発明の連続式紫外
線処理装置を示したものであり、図における紫外
線処理槽１はその内に複数個の紫外線ランプが並
列に配置されており、これにはその内部を任意の
雰囲気、例えば真空、不活性ガス雰囲気に保つた
めに、これを外気と遮断するためのシール機構を
備えた前方予備室２および後方予備室３が接合さ
れている。そして、この２つの予備室は被処理物
の搬送方向に複数個配置した上下一対のシールロ
ールとハウジングおよびシール機構とによつて形
成されており、この紫外線処理装置１と２つの予
備室２，３はこれに配設されている管５，７から
の排気または注気によつて真空または任意の不活
性雰囲気に保たれるようにされており、捲出装置
２２に装架された被処理物Ｆはこの前方予備室２
を経て紫外線処理槽１に導入され、こゝで紫外線
処理をされた被処理物Ｆは後方予備室３を経て捲
取装置２３に捲きとられる。
明すると、第１図はいずれも本発明の連続式紫外
線処理装置を示したものであり、図における紫外
線処理槽１はその内に複数個の紫外線ランプが並
列に配置されており、これにはその内部を任意の
雰囲気、例えば真空、不活性ガス雰囲気に保つた
めに、これを外気と遮断するためのシール機構を
備えた前方予備室２および後方予備室３が接合さ
れている。そして、この２つの予備室は被処理物
の搬送方向に複数個配置した上下一対のシールロ
ールとハウジングおよびシール機構とによつて形
成されており、この紫外線処理装置１と２つの予
備室２，３はこれに配設されている管５，７から
の排気または注気によつて真空または任意の不活
性雰囲気に保たれるようにされており、捲出装置
２２に装架された被処理物Ｆはこの前方予備室２
を経て紫外線処理槽１に導入され、こゝで紫外線
処理をされた被処理物Ｆは後方予備室３を経て捲
取装置２３に捲きとられる。
第２図は第１図における紫外線処理装置の雰囲
気調整のためのポンプ、配管を示す上面図であ
り、これに紫外線処理槽１を真空にするための真
空ポンプ４、この排気管５と、２つの予備室２，
３を真空にするための真空ポンプ６とその排気管
７が図示されている。
気調整のためのポンプ、配管を示す上面図であ
り、これに紫外線処理槽１を真空にするための真
空ポンプ４、この排気管５と、２つの予備室２，
３を真空にするための真空ポンプ６とその排気管
７が図示されている。
また、第３図、第４図は本発明の紫外線処理装
置の紫外線処理槽１の内における紫外線ランプの
配置例を示したもので、第３図における紫外線処
理槽１０１は回転ドラム１０２を内蔵しており、
ガイドロール１０３により回転ドラム上に導びか
れた被処理物に紫外線を照射するための紫外線ラ
ンプ１０４はこのドラムを囲む位置に並列に配置
されている。第４図はこれとは別の態様の紫外線
ランプ配置を示したもので、被処理体に紫外線を
照射するための紫外線ランプ１０４はガイドロー
ラー１０３に導かれて槽内に曲折走行する被処理
物の両面を照射するように縦列多段に配置されて
いる。なお、これらの各紫外線ランプ１０４は図
示されていない冷却用ジヤケツトによつて冷却さ
れており、これによつて処理効果を安定化させる
と共に被処理物の熱的変質を防止するようになつ
ている。
置の紫外線処理槽１の内における紫外線ランプの
配置例を示したもので、第３図における紫外線処
理槽１０１は回転ドラム１０２を内蔵しており、
ガイドロール１０３により回転ドラム上に導びか
れた被処理物に紫外線を照射するための紫外線ラ
ンプ１０４はこのドラムを囲む位置に並列に配置
されている。第４図はこれとは別の態様の紫外線
ランプ配置を示したもので、被処理体に紫外線を
照射するための紫外線ランプ１０４はガイドロー
ラー１０３に導かれて槽内に曲折走行する被処理
物の両面を照射するように縦列多段に配置されて
いる。なお、これらの各紫外線ランプ１０４は図
示されていない冷却用ジヤケツトによつて冷却さ
れており、これによつて処理効果を安定化させる
と共に被処理物の熱的変質を防止するようになつ
ている。
第５図、第６図は前記した予備室２，３を構成
するためのシール機構を説明するための要部拡大
部で、第５図はその側断面図、第６図はその−
線矢視図を示したものであり、これはその両端
面がサイドピース１１に回転自在に軸支され、表
面にゴムなどの弾性体１２が一体的に被着されて
いる上ロール１３と、同じくその両端側がサイド
ピース１１に回転自在に軸支され、表面にクロム
ニツケル層が施こされ、上ロール１３と対設され
た下ロール１４、およびこれらを覆う上ケース１
５、下ケース１６とから構成されており、これに
はまた上ケース１５、また下ケース１６の外周部
の一部と軸方向に沿つて連続的に対接する、ウレ
タンゴムのような弾性体で作られたリツプル部材
１７または１８が付設されており、これによつて
系内の雰囲気を保持しながら、被処理物を前方に
搬送するようになつている。
するためのシール機構を説明するための要部拡大
部で、第５図はその側断面図、第６図はその−
線矢視図を示したものであり、これはその両端
面がサイドピース１１に回転自在に軸支され、表
面にゴムなどの弾性体１２が一体的に被着されて
いる上ロール１３と、同じくその両端側がサイド
ピース１１に回転自在に軸支され、表面にクロム
ニツケル層が施こされ、上ロール１３と対設され
た下ロール１４、およびこれらを覆う上ケース１
５、下ケース１６とから構成されており、これに
はまた上ケース１５、また下ケース１６の外周部
の一部と軸方向に沿つて連続的に対接する、ウレ
タンゴムのような弾性体で作られたリツプル部材
１７または１８が付設されており、これによつて
系内の雰囲気を保持しながら、被処理物を前方に
搬送するようになつている。
本発明に係わる紫外線処理装置は、紫外線処理
槽と上記したシール機構をもつ２つの予備室とか
らなるものであり、これによれば被処理物を大気
中に曝露することなく連続式に紫外線処理できる
という利点が与えられる。そして、この紫外線処
理槽は必要に応じてこれを真空としたり、あるい
は真空としたのち、これに不活性ガスを導入して
この系内を不活性ガスで置換することができ、こ
れによれば対象とする被処理物の種類、その処理
目的に応じて任意にその処理雰囲気を選択できる
ので、広い範囲の対象物に対して効果的な紫外線
処理をすることができる。また、本発明の装置
は、紫外線処理槽の前後にシール機構をもつ予備
室が設けられており、この予備室の雰囲気も紫外
線処理槽と同様に任意に選択することができ、こ
れはまた必要に応じ紫外線処理槽と若干異なる雰
囲気としてこれを紫外線処理槽の雰囲気調整予備
室とすることもできるので、これによれば各種の
処理を段階的に変化させた連続的処理も可能とす
ることができ、これにはまたこの予備室のシール
機構が被処理物を前方に搬送するシールロールを
含むものとされているので、特にシート、フイル
ム、電線などの長尺連続体を連続的に確実に効率
よく処理することができる。
槽と上記したシール機構をもつ２つの予備室とか
らなるものであり、これによれば被処理物を大気
中に曝露することなく連続式に紫外線処理できる
という利点が与えられる。そして、この紫外線処
理槽は必要に応じてこれを真空としたり、あるい
は真空としたのち、これに不活性ガスを導入して
この系内を不活性ガスで置換することができ、こ
れによれば対象とする被処理物の種類、その処理
目的に応じて任意にその処理雰囲気を選択できる
ので、広い範囲の対象物に対して効果的な紫外線
処理をすることができる。また、本発明の装置
は、紫外線処理槽の前後にシール機構をもつ予備
室が設けられており、この予備室の雰囲気も紫外
線処理槽と同様に任意に選択することができ、こ
れはまた必要に応じ紫外線処理槽と若干異なる雰
囲気としてこれを紫外線処理槽の雰囲気調整予備
室とすることもできるので、これによれば各種の
処理を段階的に変化させた連続的処理も可能とす
ることができ、これにはまたこの予備室のシール
機構が被処理物を前方に搬送するシールロールを
含むものとされているので、特にシート、フイル
ム、電線などの長尺連続体を連続的に確実に効率
よく処理することができる。
第１図は本発明の紫外線処理装置の例を示す正
面図、第２図はその上面図、第３図および第４図
はその紫外線処理槽における紫外線ランプの配置
例を示す正面図であり、第５図および第６図はそ
の予備室のロールとケースおよびロール間のシー
ル機構を説明するための部分拡大図で、第５図は
その側断面図、第６図は第５図の−線矢視図
である。 １，１０１…紫外線処理槽、１０２…回転ドラ
ム、１０３…ガイドロール、１０４…紫外線ラン
プ、２，３…予備室、１１…サイドピース、１３
…上ロール、１４…下ロール、１７，１８…リツ
プル部材、２２…捲出装置、２３…捲取装置、Ｆ
…被処理物。
面図、第２図はその上面図、第３図および第４図
はその紫外線処理槽における紫外線ランプの配置
例を示す正面図であり、第５図および第６図はそ
の予備室のロールとケースおよびロール間のシー
ル機構を説明するための部分拡大図で、第５図は
その側断面図、第６図は第５図の−線矢視図
である。 １，１０１…紫外線処理槽、１０２…回転ドラ
ム、１０３…ガイドロール、１０４…紫外線ラン
プ、２，３…予備室、１１…サイドピース、１３
…上ロール、１４…下ロール、１７，１８…リツ
プル部材、２２…捲出装置、２３…捲取装置、Ｆ
…被処理物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 紫外線処理槽の前後に予備室を有する紫外線
処理装置において、複数個配置した上下一対のシ
ールロールと該ロールを収納するハウジングとか
らなる予備室を前記紫外線処理槽の前後にそれぞ
れ配置し、該紫外線処理槽内にはガイドローラー
に導かれて槽内を曲折走行するプラスチツクフイ
ルムを照射する紫外線ランプを多数配列し、プラ
スチツクフイルムを大気中から前方予備室を経て
紫外線処理槽に導入し、紫外線処理後に後方予備
室を経て大気中に連続的に送り出すように構成し
たことを特徴とする連続式紫外線処理装置。 ２ 紫外線ランプは冷却用ジヤケツトで冷却され
る構造のものである特許請求の範囲第１項記載の
連続式紫外線処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8235981A JPS57195755A (en) | 1981-05-29 | 1981-05-29 | Continuous ultraviolet treatment apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8235981A JPS57195755A (en) | 1981-05-29 | 1981-05-29 | Continuous ultraviolet treatment apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57195755A JPS57195755A (en) | 1982-12-01 |
| JPH0152413B2 true JPH0152413B2 (ja) | 1989-11-08 |
Family
ID=13772381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8235981A Granted JPS57195755A (en) | 1981-05-29 | 1981-05-29 | Continuous ultraviolet treatment apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57195755A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002069217A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-08 | Toppan Printing Co Ltd | 表面処理装置及びそれを搭載した塗工装置又はラミネート装置 |
| JP5600871B2 (ja) * | 2008-12-19 | 2014-10-08 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5113184B2 (ja) * | 1972-06-29 | 1976-04-26 | ||
| JPS5385741A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-28 | Nippon Steel Corp | Continuous evaporation plating method of steel band |
-
1981
- 1981-05-29 JP JP8235981A patent/JPS57195755A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57195755A (en) | 1982-12-01 |
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