JPH0153294B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0153294B2 JPH0153294B2 JP56082360A JP8236081A JPH0153294B2 JP H0153294 B2 JPH0153294 B2 JP H0153294B2 JP 56082360 A JP56082360 A JP 56082360A JP 8236081 A JP8236081 A JP 8236081A JP H0153294 B2 JPH0153294 B2 JP H0153294B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- vacuum processing
- roll
- sealing mechanism
- vacuum chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は可とう性の被処理物質、例えばプラス
チツク成形品を真空処理槽でプラズマ、イオンプ
レーテイング、スパツタリング、真空蒸着、真空
紫外線処理するための真空連続処理装置に関する
ものである。
チツク成形品を真空処理槽でプラズマ、イオンプ
レーテイング、スパツタリング、真空蒸着、真空
紫外線処理するための真空連続処理装置に関する
ものである。
従来、各種プラスチツク類の改質を目的とし
て、プラスチツク成形品に真空処理槽中で真空連
続処理を行なうことは知られているが、しかしこ
れは被処理物を処理するための真空処理槽が一個
とされているため、被処理物に２種または２種以
上の処理を行なつたり、あるいは被処理物を２種
の異なる雰囲気下で連続して処理することができ
ないという欠点があつた。
て、プラスチツク成形品に真空処理槽中で真空連
続処理を行なうことは知られているが、しかしこ
れは被処理物を処理するための真空処理槽が一個
とされているため、被処理物に２種または２種以
上の処理を行なつたり、あるいは被処理物を２種
の異なる雰囲気下で連続して処理することができ
ないという欠点があつた。
本発明はこのような問題点を解決するために複
数個の真空処理槽を設け、しかも被処理物の表面
処理を大気に曝露することなく連続処理するため
の装置に関するもので、これは真空処理槽の前後
に予備真空室を設け、被処理物を大気中から前方
処理室を経て真空処理槽に導入して真空処理した
後、後方予備真空室を経てこれを大気中に送り出
す機構を有する真空連続処理装置において、前記
真空処理槽を複数個として、この真空処理槽相互
間をシール機構で遮断し、前記シール機構は被処
理物をピンチして送り出す弾性体ロールと剛性体
ロールの組合せよりなる上下一対のシールロー
ル、該ロールの外周面の一部にその軸方向に連続
して対接するリツプル部材およびハウジングによ
つて構成されてなることを特徴とするものであ
る。
数個の真空処理槽を設け、しかも被処理物の表面
処理を大気に曝露することなく連続処理するため
の装置に関するもので、これは真空処理槽の前後
に予備真空室を設け、被処理物を大気中から前方
処理室を経て真空処理槽に導入して真空処理した
後、後方予備真空室を経てこれを大気中に送り出
す機構を有する真空連続処理装置において、前記
真空処理槽を複数個として、この真空処理槽相互
間をシール機構で遮断し、前記シール機構は被処
理物をピンチして送り出す弾性体ロールと剛性体
ロールの組合せよりなる上下一対のシールロー
ル、該ロールの外周面の一部にその軸方向に連続
して対接するリツプル部材およびハウジングによ
つて構成されてなることを特徴とするものであ
る。
すなわち、本発明の真空連続処理装置は、複数
個設けられた真空処理槽間をシール機構で遮断す
ることによつて、被処理物に各々の真空処理槽で
異種の処理を行なうことができるようにしたこと
を特徴とするものである。
個設けられた真空処理槽間をシール機構で遮断す
ることによつて、被処理物に各々の真空処理槽で
異種の処理を行なうことができるようにしたこと
を特徴とするものである。
つぎに本発明の一実施例を図面により説明す
る。
る。
第１図はプラスチツク成形品などの可とう性の
被処理物Ｆに真空状態で連続式にプラズマ処理な
どを行なう真空処理槽１０１，１０２と、その前
後に設けられた前方予備真空室２、後方予備真空
室３および真空処理槽１０１と１０２とを遮断す
るシール機構４とからなる真空連続処理装置が示
されている。この真空処理槽１０１，１０２には
目的とする処理に必要な処理装置、例えばプラズ
マ処理用の陽極、陰極、ガス導入口などが内蔵さ
れており、これは図示されていない真空ポンプに
より所定の真空度に保持されるように排気管６を
介して真空排気される。そして、この真空処理槽
にはその前方側に被処理物の搬送方向に上下一対
のシールロールを複数個配置することによつて形
成された前方予備真空室２が、また、その後方側
には被処理物の搬送方向に上下一対のシールロー
ルを複数個配置することによつて形成された後方
予備真空室３が設けられており、これらは図示さ
れていない真空ポンプによつて排気管７を介して
真空排気される。
被処理物Ｆに真空状態で連続式にプラズマ処理な
どを行なう真空処理槽１０１，１０２と、その前
後に設けられた前方予備真空室２、後方予備真空
室３および真空処理槽１０１と１０２とを遮断す
るシール機構４とからなる真空連続処理装置が示
されている。この真空処理槽１０１，１０２には
目的とする処理に必要な処理装置、例えばプラズ
マ処理用の陽極、陰極、ガス導入口などが内蔵さ
れており、これは図示されていない真空ポンプに
より所定の真空度に保持されるように排気管６を
介して真空排気される。そして、この真空処理槽
にはその前方側に被処理物の搬送方向に上下一対
のシールロールを複数個配置することによつて形
成された前方予備真空室２が、また、その後方側
には被処理物の搬送方向に上下一対のシールロー
ルを複数個配置することによつて形成された後方
予備真空室３が設けられており、これらは図示さ
れていない真空ポンプによつて排気管７を介して
真空排気される。
つぎにこの作用をプラスチツクフイルムのプラ
ズマによる表面処理について説明すると、例えば
塩化ビニル樹脂から作つたプラスチツクフイルム
（被処理物Ｆ）は捲出装置８から前方予備真空室
２を経て真空処理槽１０１に送られ、ここで圧力
10-2〜10-1トールの範囲でのアルゴンガス雰囲気
中で数ＫHz〜数百ＭHzの高周波電力印加により発
生するプラズマに曝されたのち、シール機構４を
経て真空処理槽１０２に送られ、ここでアミン、
ピリジン、アクリル系モノマー、メチルシランな
どの有機ガス存在下で再度プラズマ処理されてか
ら後方予備真空室３を経て巻取装置９に巻取られ
る。
ズマによる表面処理について説明すると、例えば
塩化ビニル樹脂から作つたプラスチツクフイルム
（被処理物Ｆ）は捲出装置８から前方予備真空室
２を経て真空処理槽１０１に送られ、ここで圧力
10-2〜10-1トールの範囲でのアルゴンガス雰囲気
中で数ＫHz〜数百ＭHzの高周波電力印加により発
生するプラズマに曝されたのち、シール機構４を
経て真空処理槽１０２に送られ、ここでアミン、
ピリジン、アクリル系モノマー、メチルシランな
どの有機ガス存在下で再度プラズマ処理されてか
ら後方予備真空室３を経て巻取装置９に巻取られ
る。
この場合、真空処理槽１０１と１０２の間の遮
断は被処理物をピンチして送り出す弾性体ロール
と剛性体ロールの組合せよりなる上下一対のシー
ルロール、該ロールの外周面の一部にその軸方向
に連続して対接するリツプル部材およびハウジン
グによつて構成されてなるシール機構で行なわれ
るが、このシール機構はこのように構成されてい
るので、真空シール効果が大きくなり、コンダク
タンスが小さくなるという有利性をもつものであ
る。これは第２図に示すように被処理物の搬送方
向に該シール機構を複数個設けて真空室１０を形
成させ、この真空室を図示していない真空ポンプ
でその排気管５から真空排気させればよりよい効
果を得ることができる。
断は被処理物をピンチして送り出す弾性体ロール
と剛性体ロールの組合せよりなる上下一対のシー
ルロール、該ロールの外周面の一部にその軸方向
に連続して対接するリツプル部材およびハウジン
グによつて構成されてなるシール機構で行なわれ
るが、このシール機構はこのように構成されてい
るので、真空シール効果が大きくなり、コンダク
タンスが小さくなるという有利性をもつものであ
る。これは第２図に示すように被処理物の搬送方
向に該シール機構を複数個設けて真空室１０を形
成させ、この真空室を図示していない真空ポンプ
でその排気管５から真空排気させればよりよい効
果を得ることができる。
また、第３図は他の実施例を示すもので、これ
は真空処理槽１０１で処理された被処理物Ｆを大
気に曝露する前に熱処理するための装置であり、
真空処理槽１０１で例えばプラズマ処理された被
処理物Ｆはシール機構４を経て例えば並列に配置
された赤外線ランプを内蔵する真空処理槽１０３
に導入され、こゝで加熱処理されたのち後方予備
真空室３を経て捲取装置９に捲きとられる。
は真空処理槽１０１で処理された被処理物Ｆを大
気に曝露する前に熱処理するための装置であり、
真空処理槽１０１で例えばプラズマ処理された被
処理物Ｆはシール機構４を経て例えば並列に配置
された赤外線ランプを内蔵する真空処理槽１０３
に導入され、こゝで加熱処理されたのち後方予備
真空室３を経て捲取装置９に捲きとられる。
第４図、第５図は前記した予備真空室２，３お
よび複数個の真空処理槽相互間を遮断するために
設置される真空室を構成する上記した弾性体ロー
ルと剛性体ロールの組合せよりなる上下一対のシ
ールロール、リツプル部材およびハウジングから
なるシール機構を説明するための要部拡大図で、
第４図はその側断面図、第５図はそのＶ―Ｖ線矢
視図を示したものであり、これはその両側面がサ
イドピース１１に回転自在に軸支され、表面にゴ
ムなどの弾性体が被着されている上ロール１３
と、同じくその両側側が、サイドピース１１に回
転自在に軸支され、表面にクロムニツケル層が施
こされ、上ロール１３と対設されている下ロール
１４、およびこれらを覆う上ケース１５、下ケー
ス１６とから構成されており、これにはまた上ケ
ース１５、下ケース１６の外周部の一部と軸方向
に沿つて連続的に対接する、ウレタンゴムのよう
な弾性体で作られたリツプル部材１７または１８
が付設されており、これによつて系内の真空を保
ちながら、被処理物を前方に搬入するようになつ
ている。
よび複数個の真空処理槽相互間を遮断するために
設置される真空室を構成する上記した弾性体ロー
ルと剛性体ロールの組合せよりなる上下一対のシ
ールロール、リツプル部材およびハウジングから
なるシール機構を説明するための要部拡大図で、
第４図はその側断面図、第５図はそのＶ―Ｖ線矢
視図を示したものであり、これはその両側面がサ
イドピース１１に回転自在に軸支され、表面にゴ
ムなどの弾性体が被着されている上ロール１３
と、同じくその両側側が、サイドピース１１に回
転自在に軸支され、表面にクロムニツケル層が施
こされ、上ロール１３と対設されている下ロール
１４、およびこれらを覆う上ケース１５、下ケー
ス１６とから構成されており、これにはまた上ケ
ース１５、下ケース１６の外周部の一部と軸方向
に沿つて連続的に対接する、ウレタンゴムのよう
な弾性体で作られたリツプル部材１７または１８
が付設されており、これによつて系内の真空を保
ちながら、被処理物を前方に搬入するようになつ
ている。
本発明の真空連続処理装置は上述したように複
数個の真空処理槽を有し、しかもこれらの真空処
理槽はシール機構によつて相互に遮断され、さら
にこの真空処理槽群の前後に予備真空室を設けた
ものであるから、これによれば従来装置ではその
処理が困難であつた各種の真空処理を容易に行な
うことができる。
数個の真空処理槽を有し、しかもこれらの真空処
理槽はシール機構によつて相互に遮断され、さら
にこの真空処理槽群の前後に予備真空室を設けた
ものであるから、これによれば従来装置ではその
処理が困難であつた各種の真空処理を容易に行な
うことができる。
例えば、この真空処理槽を使用するプラスチツ
ク物質のプラズマによる表面処理については、プ
ラズマ処理後の物品を大気中に曝露するとプラズ
マ処理で生じた表活性点が空気酸化などによつて
劣化する現象があるが、これを防止するためにプ
ラズマ処理後、これを大気に曝露する前に塩素、
水素などの活性ガスで反応処理したり、あるいは
熱処理によつてこの活性点を不活性とする処理が
必要とされるのであるが、本発明の装置では複数
の真空処理槽がシール機構で遮断されており、
個々の真空処理槽の雰囲気変更なども容易に行え
るので、これによればかゝるプラズマ処理を効率
よく行なうことができる。また、このプラズマ処
理品については、この活性点を利用してこれに重
合性有機ガスを反応させ、表面にグラフト重合層
を形成させることもできるし、あるいは異種のガ
スを利用して連続的にプラズマ重合を行なつて、
被処理物の表面に多層の重合層を形成させること
も可能となる。
ク物質のプラズマによる表面処理については、プ
ラズマ処理後の物品を大気中に曝露するとプラズ
マ処理で生じた表活性点が空気酸化などによつて
劣化する現象があるが、これを防止するためにプ
ラズマ処理後、これを大気に曝露する前に塩素、
水素などの活性ガスで反応処理したり、あるいは
熱処理によつてこの活性点を不活性とする処理が
必要とされるのであるが、本発明の装置では複数
の真空処理槽がシール機構で遮断されており、
個々の真空処理槽の雰囲気変更なども容易に行え
るので、これによればかゝるプラズマ処理を効率
よく行なうことができる。また、このプラズマ処
理品については、この活性点を利用してこれに重
合性有機ガスを反応させ、表面にグラフト重合層
を形成させることもできるし、あるいは異種のガ
スを利用して連続的にプラズマ重合を行なつて、
被処理物の表面に多層の重合層を形成させること
も可能となる。
なお、このプラスチツクのプラズマによる表面
処理については、第１段の真空処理槽で酸素プラ
ズマによるクリーニングを行なつたり、あるいは
熱処理による被処理物の成形歪み除去を行なつた
のち、次段以降の真空処理槽で上記処理を行なつ
てもよく、これによればより良好な成形品を得る
ことができる。
処理については、第１段の真空処理槽で酸素プラ
ズマによるクリーニングを行なつたり、あるいは
熱処理による被処理物の成形歪み除去を行なつた
のち、次段以降の真空処理槽で上記処理を行なつ
てもよく、これによればより良好な成形品を得る
ことができる。
また、本発明の真空連続処理装置によれば、イ
オンプレーライング、スパツタリング、真空蒸着
などによる被処理物への薄膜形成に当つて、シー
ル機構で遮断された各真空処理槽で異種の材料を
使用すれば被処理物の表面に多層の薄膜を形成す
ることができ、さらにはそれらの処理に先立つて
シール機構で遮断された前段の真空処理槽で被処
理物の表面をプラズマ処理、真空紫外線処理すれ
ば、これによつて被処理物表面と前記薄膜の密着
性を高めることができる。
オンプレーライング、スパツタリング、真空蒸着
などによる被処理物への薄膜形成に当つて、シー
ル機構で遮断された各真空処理槽で異種の材料を
使用すれば被処理物の表面に多層の薄膜を形成す
ることができ、さらにはそれらの処理に先立つて
シール機構で遮断された前段の真空処理槽で被処
理物の表面をプラズマ処理、真空紫外線処理すれ
ば、これによつて被処理物表面と前記薄膜の密着
性を高めることができる。
以上に記述したように、本発明が提案するシー
ル機構で遮断した複数個の真空処理槽よりなる真
空連続処理装置は、被処理品表面への異種の多層
膜の形成、被処理物と薄膜層の密着性、改質層の
安定性の向上、グラフト重合膜の形成、外観の改
善などに有効な工業的に有利な手段を提供するも
のである。
ル機構で遮断した複数個の真空処理槽よりなる真
空連続処理装置は、被処理品表面への異種の多層
膜の形成、被処理物と薄膜層の密着性、改質層の
安定性の向上、グラフト重合膜の形成、外観の改
善などに有効な工業的に有利な手段を提供するも
のである。
第１図、第２図および第３図は本発明による真
空連続処理装置の例を示す正面図、第４図および
第５図は本発明の真空連続処理装置における予備
真空室および真空処理槽相互間に設置される真空
室を構成するシール機構を説明するための部分拡
大図で、第４図は側断面図、第５図はそのＶ―Ｖ
線矢視図を示したものである。 １０１，１０２，１０３…真空処理槽、２，３
…予備真空室、４…シール機構、８…捲出装置、
９…捲取装置、１１…サイドピース、１３…上ロ
ール、１４…下ロール、１７，１８…リツプル部
材、Ｆ…被処理物。
空連続処理装置の例を示す正面図、第４図および
第５図は本発明の真空連続処理装置における予備
真空室および真空処理槽相互間に設置される真空
室を構成するシール機構を説明するための部分拡
大図で、第４図は側断面図、第５図はそのＶ―Ｖ
線矢視図を示したものである。 １０１，１０２，１０３…真空処理槽、２，３
…予備真空室、４…シール機構、８…捲出装置、
９…捲取装置、１１…サイドピース、１３…上ロ
ール、１４…下ロール、１７，１８…リツプル部
材、Ｆ…被処理物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 真空処理槽の前後に予備真空室を設け、被処
理物を大気中から前方予備真空室を経て真空処理
槽に導入して真空処理をした後、後方予備真空室
を経てこれを大気中に連続的に送り出す機構を有
する真空連続処理装置において、前記真空処理槽
を複数個として、この真空処理槽相互間をシール
機構で遮断し、前記シール機構は被処理物をピン
チして送り出す弾性体ロールと剛性体ロールの組
合せよりなる上下一対のシールロール、該ロール
の外周面の一部にその軸方向に連続して対接する
リツプル部材およびハウジングによつて構成され
ていることを特徴とする真空連続処理装置。 ２ 前記各真空処理槽の間を、被処理物の搬送方
向に前記シール機構を複数個配置することによつ
て形成する真空室で遮断し、該真空室を必要に応
じ真空排気することを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の真空連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8236081A JPS57195754A (en) | 1981-05-29 | 1981-05-29 | Continuous vacuum treatment apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8236081A JPS57195754A (en) | 1981-05-29 | 1981-05-29 | Continuous vacuum treatment apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57195754A JPS57195754A (en) | 1982-12-01 |
| JPH0153294B2 true JPH0153294B2 (ja) | 1989-11-13 |
Family
ID=13772406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8236081A Granted JPS57195754A (en) | 1981-05-29 | 1981-05-29 | Continuous vacuum treatment apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57195754A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60224780A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-09 | Kuraray Co Ltd | シ−ト状物の真空連続処理装置におけるシ−ル装置 |
| JPS6112867A (ja) * | 1984-06-27 | 1986-01-21 | Hitachi Ltd | ロール式シール装置 |
| US4763601A (en) * | 1987-09-02 | 1988-08-16 | Nippon Steel Corporation | Continuous composite coating apparatus for coating strip |
| KR100880352B1 (ko) | 2007-06-01 | 2009-01-23 | (주) 에이알티 | 가스 유입 방지가 가능한 플렉시블필름의 금속증착처리장치 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50161475A (ja) * | 1974-06-20 | 1975-12-27 | ||
| JPS5773025A (en) * | 1980-10-27 | 1982-05-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Apparatus for continuous vacuum treatment |
| JPS5730733A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Device for continuous plasma treatment |
-
1981
- 1981-05-29 JP JP8236081A patent/JPS57195754A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57195754A (en) | 1982-12-01 |
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