JPH0315531Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0315531Y2 JPH0315531Y2 JP12900485U JP12900485U JPH0315531Y2 JP H0315531 Y2 JPH0315531 Y2 JP H0315531Y2 JP 12900485 U JP12900485 U JP 12900485U JP 12900485 U JP12900485 U JP 12900485U JP H0315531 Y2 JPH0315531 Y2 JP H0315531Y2
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- JP
- Japan
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- plasma
- vacuum chamber
- shower tube
- processing apparatus
- chamber
- Prior art date
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- Expired
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Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本考案は樹脂成形品のプラズマ処理装置に関す
る。 〔従来の技術〕 ポリプロピレン、ポリエチレンなどのオレフイ
ン系樹脂の成形品はその無極性などの性質に起因
して塗膜密着性などに劣るものである。 そのため、これら樹脂成形品に、マイクロ波で
空気、酸素、アルゴン、ヘリウムなどのガスを励
起してえられる、いわゆるコールドプラズマを照
射して、樹脂成形品に表面改質を施すことが行な
われている。 前記プラズマ処理はチヤンバ内に被処理物を収
容し、チヤンバ内を減圧状態にし、プラズマ発生
器からのプラズマをチヤンバ内に導入し、被処理
物に照射することによつて行なわれるが、被処理
物をチヤンバ内に定置した状態で行なうと処理が
不均一となるという問題があつた。 そのため、(1)複数のプラズマシヤワー管を設置
し多方向よりプラズマの照射を行なう方法、(2)複
数の排気管を設置し排気側の吸引力によりプラズ
マ照射の拡散を行なう方法、(3)被処理物を適宜の
架合に装架し、該被処理物をチヤンバ内で公転お
よび（または）自転させながらプラズマを照射す
る方法（特開昭58−208326号公報参照）および(4)
チヤンバ内にフアンを設け、該フアンにりプラズ
マを拡散する方法などが堤案されている。 （考案が解決しようとする問題点） しかしながら、前記方法のうち(1)複数のプラズ
マのシヤワー管を設置する方法および(2)複数の排
気管を設置する方法はそれぞれ配管が複雑になる
という問題があり、また(3)被処理物を回転させる
方法は回転用の駆動装置を必要とし、装置が複雑
化するという問題があり、さらに(4)フアンにより
プラズマを拡散させる方法はフアンにプラズマが
衝突するため、プラズマが死活するという問題が
ある。 本考案は、前記の点に鑑み、簡易な構成により
被処理物を均一に処理することのできるプラズマ
処理装置を堤供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本考案は、真空チヤンバ内に収容した樹脂成形
品にプラズマを照射して表面改質するためのプラ
ズマ処理装置において、真空チヤンバ内に乱気流
を発生させる回転式のプラズマシヤワー管を設け
たことを特徴とするプラズマ処理装置に関する。 〔実施例〕 つぎに図面に基づき本考案の装置を説明する。 第１図は本考案のプラズマ処理装置の一実施例
を示す概略説明図、第２図は第１図のＸ−Ｘ線拡
大断面図、第３図は本考案のプラズマ処理装置に
用いられる回転式プラズマシヤワー管の一実施例
の平面図である。 第１図において、１は被処理物を処理するため
の真空チヤンバである。３は空気、酸素、アルゴ
ン、ヘリウムなどのガスボンベであり、ガスはボ
ンベ３から配管４を通してプラズマ発生器５に送
られ、そこでマイクロ波発生器６からのマイクロ
波によつて励起されてプラズマ状態とされ、生成
したプラズマは回転しているプラズマシヤワー管
７のプラズマ吐出口８からチヤンバ内に導入さ
れ、被処理物９に照射される。１０は真空チヤン
バ１に設けられた排気口であり、チヤンバ１内を
所定の真空度に維持するための真空ポンプに接続
される。２はプラズマシヤワー管７を回転させる
ための駆動装置である。 前記プラズマ処理装置において、プラズマは真
空チヤンバー１内上部に設けられた回転式プラズ
マシヤワー管７より照射される。その際、プラズ
マシヤワー管７の回転により真空チヤンバ１内に
乱気流が発生しプラズマを拡散させるため、被処
理物は均一に照射される。このことは、プラズマ
シヤワー管７と対向する位置に排気口１０を設
け、真空チヤンバー１を横断するような気流を発
生させることによりいつそう効果的となる。 プラズマシヤワー管７は一方向に回転してもよ
いし、また正転、反転を交互に繰返すように回転
してもよい。乱気流を起こすための回転条件はプ
ラズマ吐出口８の位置および個数などによつて異
なるが、60〜80回／分が概ねの目安である。また
プラズマシヤワー管７の先端部分の分岐の数は、
第３図に示される４分岐タイプ以外に３分岐タイ
プ、５分岐タイプなどを適宜用いることができ
る。 つぎに本考案の装置を用いてプラズマ処理を行
なつた被処理物に塗装をし、えられた塗膜の密着
性に関し試験をした結果を示す。 実施例 断面略コ字状のバンパカバーをポリプロピレン
で成形し、これを第１図に示される装置でプラズ
マ処理した。処理条件はつぎのとおりである。 プラズマシヤワー管の分岐管数：４分岐 １分岐管のプラズマ吐出口の数：５ 真空チヤンバ圧力：1.0Torr ガス：O2 ガス流量：400〜600ml／分 マイクロ波発生出力：0.5KW 処理時間：10sec プラズマ処理したバンパカバーの外表面にウレ
タン系塗料（日本ビーケミカル(株)製Ｒ−263）を
塗装し、80℃×１時間で焼付けて厚さ35μｍの塗
膜を形成した。 えられた塗膜の密着性をゴバン目剥離試験
（JIS Ｋ 5400）によつて調べた。 結果を第１表に示す。第１表において前面、上
側面および下側面はそれぞれ断面略コ字状のバン
パカバーの前面、上側面および下側面を意味す
る。 比較例 実施例において、プラズマシヤワー管７を回転
させなかつたほかは実施例と同様にしてプラズマ
処理を行ない、ついで塗装を行ない、えられた塗
膜について密着性を調べた。結果を第１表に示
す。
る。 〔従来の技術〕 ポリプロピレン、ポリエチレンなどのオレフイ
ン系樹脂の成形品はその無極性などの性質に起因
して塗膜密着性などに劣るものである。 そのため、これら樹脂成形品に、マイクロ波で
空気、酸素、アルゴン、ヘリウムなどのガスを励
起してえられる、いわゆるコールドプラズマを照
射して、樹脂成形品に表面改質を施すことが行な
われている。 前記プラズマ処理はチヤンバ内に被処理物を収
容し、チヤンバ内を減圧状態にし、プラズマ発生
器からのプラズマをチヤンバ内に導入し、被処理
物に照射することによつて行なわれるが、被処理
物をチヤンバ内に定置した状態で行なうと処理が
不均一となるという問題があつた。 そのため、(1)複数のプラズマシヤワー管を設置
し多方向よりプラズマの照射を行なう方法、(2)複
数の排気管を設置し排気側の吸引力によりプラズ
マ照射の拡散を行なう方法、(3)被処理物を適宜の
架合に装架し、該被処理物をチヤンバ内で公転お
よび（または）自転させながらプラズマを照射す
る方法（特開昭58−208326号公報参照）および(4)
チヤンバ内にフアンを設け、該フアンにりプラズ
マを拡散する方法などが堤案されている。 （考案が解決しようとする問題点） しかしながら、前記方法のうち(1)複数のプラズ
マのシヤワー管を設置する方法および(2)複数の排
気管を設置する方法はそれぞれ配管が複雑になる
という問題があり、また(3)被処理物を回転させる
方法は回転用の駆動装置を必要とし、装置が複雑
化するという問題があり、さらに(4)フアンにより
プラズマを拡散させる方法はフアンにプラズマが
衝突するため、プラズマが死活するという問題が
ある。 本考案は、前記の点に鑑み、簡易な構成により
被処理物を均一に処理することのできるプラズマ
処理装置を堤供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本考案は、真空チヤンバ内に収容した樹脂成形
品にプラズマを照射して表面改質するためのプラ
ズマ処理装置において、真空チヤンバ内に乱気流
を発生させる回転式のプラズマシヤワー管を設け
たことを特徴とするプラズマ処理装置に関する。 〔実施例〕 つぎに図面に基づき本考案の装置を説明する。 第１図は本考案のプラズマ処理装置の一実施例
を示す概略説明図、第２図は第１図のＸ−Ｘ線拡
大断面図、第３図は本考案のプラズマ処理装置に
用いられる回転式プラズマシヤワー管の一実施例
の平面図である。 第１図において、１は被処理物を処理するため
の真空チヤンバである。３は空気、酸素、アルゴ
ン、ヘリウムなどのガスボンベであり、ガスはボ
ンベ３から配管４を通してプラズマ発生器５に送
られ、そこでマイクロ波発生器６からのマイクロ
波によつて励起されてプラズマ状態とされ、生成
したプラズマは回転しているプラズマシヤワー管
７のプラズマ吐出口８からチヤンバ内に導入さ
れ、被処理物９に照射される。１０は真空チヤン
バ１に設けられた排気口であり、チヤンバ１内を
所定の真空度に維持するための真空ポンプに接続
される。２はプラズマシヤワー管７を回転させる
ための駆動装置である。 前記プラズマ処理装置において、プラズマは真
空チヤンバー１内上部に設けられた回転式プラズ
マシヤワー管７より照射される。その際、プラズ
マシヤワー管７の回転により真空チヤンバ１内に
乱気流が発生しプラズマを拡散させるため、被処
理物は均一に照射される。このことは、プラズマ
シヤワー管７と対向する位置に排気口１０を設
け、真空チヤンバー１を横断するような気流を発
生させることによりいつそう効果的となる。 プラズマシヤワー管７は一方向に回転してもよ
いし、また正転、反転を交互に繰返すように回転
してもよい。乱気流を起こすための回転条件はプ
ラズマ吐出口８の位置および個数などによつて異
なるが、60〜80回／分が概ねの目安である。また
プラズマシヤワー管７の先端部分の分岐の数は、
第３図に示される４分岐タイプ以外に３分岐タイ
プ、５分岐タイプなどを適宜用いることができ
る。 つぎに本考案の装置を用いてプラズマ処理を行
なつた被処理物に塗装をし、えられた塗膜の密着
性に関し試験をした結果を示す。 実施例 断面略コ字状のバンパカバーをポリプロピレン
で成形し、これを第１図に示される装置でプラズ
マ処理した。処理条件はつぎのとおりである。 プラズマシヤワー管の分岐管数：４分岐 １分岐管のプラズマ吐出口の数：５ 真空チヤンバ圧力：1.0Torr ガス：O2 ガス流量：400〜600ml／分 マイクロ波発生出力：0.5KW 処理時間：10sec プラズマ処理したバンパカバーの外表面にウレ
タン系塗料（日本ビーケミカル(株)製Ｒ−263）を
塗装し、80℃×１時間で焼付けて厚さ35μｍの塗
膜を形成した。 えられた塗膜の密着性をゴバン目剥離試験
（JIS Ｋ 5400）によつて調べた。 結果を第１表に示す。第１表において前面、上
側面および下側面はそれぞれ断面略コ字状のバン
パカバーの前面、上側面および下側面を意味す
る。 比較例 実施例において、プラズマシヤワー管７を回転
させなかつたほかは実施例と同様にしてプラズマ
処理を行ない、ついで塗装を行ない、えられた塗
膜について密着性を調べた。結果を第１表に示
す。
本考案は以上説明したとおり、プラズマシヤワ
ー管の回転によつて生じた乱気流により被処理物
が均一に処理されるという効果がある。
ー管の回転によつて生じた乱気流により被処理物
が均一に処理されるという効果がある。
第１図は本考案のプラズマ処理装置の一実施例
を示す概略説明図、第２図は第１図のＸ−Ｘ線拡
大断面図、第３図は本考案のプラズマ処理装置に
用いられる回転式プラズマシヤワー管の一実施例
の平面図である。 図面の主要符号、１：真空チヤンバ、２：駆動
装置、５：プラズマ発生器、７：プラズマシヤワ
ー管、９：被処理物、１０：排気口。
を示す概略説明図、第２図は第１図のＸ−Ｘ線拡
大断面図、第３図は本考案のプラズマ処理装置に
用いられる回転式プラズマシヤワー管の一実施例
の平面図である。 図面の主要符号、１：真空チヤンバ、２：駆動
装置、５：プラズマ発生器、７：プラズマシヤワ
ー管、９：被処理物、１０：排気口。
Claims (1)
- 真空チヤンバ内に収容した樹脂成形品にプラズ
マを照射して表面改質するためのプラズマ処理装
置において、真空チヤンバ内に乱気流を発生させ
る回転式のプラズマシヤワー管を設けたことと特
徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12900485U JPH0315531Y2 (ja) | 1985-08-24 | 1985-08-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12900485U JPH0315531Y2 (ja) | 1985-08-24 | 1985-08-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6237054U JPS6237054U (ja) | 1987-03-05 |
| JPH0315531Y2 true JPH0315531Y2 (ja) | 1991-04-04 |
Family
ID=31025188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12900485U Expired JPH0315531Y2 (ja) | 1985-08-24 | 1985-08-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0315531Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-08-24 JP JP12900485U patent/JPH0315531Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6237054U (ja) | 1987-03-05 |
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