JPH0155255B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、下記式(1) 但し式中、R¹は水素原子、低級アルキル基も
しくはフエニル基を示し、 R²は低級アルキル基、C₃〜C₉アルケニル基も
しくはフエニル基を示し、 ただし上記に於て、R¹及びR²が同時にフエニ
ル基を示すことはない、 又は、R¹及びR²は一緒になつて、（−CH₂）−₃、
（−CH₂）−₄もしくは

【式】を示 す、そして、R³は低級アルキル基を示し、R⁴は
低級アルキル基、基OR³、C₃−C₉アルケニル基、
もしくは低級アルコキシで置換されていてもよい
フエニル基を示すか、或は

【式】基を 示し、ここで、R³とR⁴は一緒になつて、（−CH₂
）−₄、

【式】もしくは

【式】を示すことができ、そして、 ｎは０もしくは１を示すが、 ここで、 式(3)化合物のR³とR⁴とが一緒になつて環を形
成している場合には、R⁴はその一緒になつたエ
ーテル結合を含む環を示し且ｎ＝０であり、式(3)
化合物がそれ以外の化合物の場合にはR⁴は前記
したと同義であり且つｎ＝１である、 で表わされる化合物の製法に関し、上記式(1)化合
物を、改善された容易な操作で、安価且つ入手容
易な原料を用いて、好収率で工業的に有利に製造
できる新しい合成径路による製法に関する。上記
式(1)で表わされるβ−アルコキシケトン類および
β−ケトアセタール類は香料、農業、医薬などの
分野における製造中間体として有用且つ重要な公
知化合物である。 更に詳しくは、本発明は、下記式(2) 但し式中、R¹は水素原子、低級アルキル基も
しくはフエニル基を示し、 R²は低級アルキル基、C₃〜C₉アルケニル基も
しくはフエニル基を示し、 ただし、上記に於て、R¹及びR²が同時にフエ
ニル基を示すことはない、 又は、R¹及びR²は一緒になつて、（−CH₂）−₃、
（−CH₂）−₄もしくは

【式】を示 す、そして、Ｘ及びＹは低級アルキル基もしくは
フエニル基を示し、またＸとＹは一緒になつて（−
CH₂）−₄、（−CH₂）−₅もしくは（−CH₂）−₂O（−CH₂
）−
_２を示す、 で表わされるエナミン化合物と、下記式(3) 但し式中、R³は低級アルキル基を示し、 R⁴は低級アルキル基、基OR³、C₃−C₉アルケ
ニル基、もしくは低級アルコキシで置換されてい
てもよいフエニル基を示すか、或は

【式】基を示し、ここで、R³とR⁴は一 緒になつて、（−CH₂）−₄、

【式】 もしくは

【式】を示すことができ る、 で表わされる化合物とを、ルイス酸の存在下に接
触せしめることを特徴とする前記式(1)化合物の製
法に関する。 従来、式(1)に包含されるβ−アルコキシケトン
類の合成法としては、α，β−不飽和カルボニル
化合物にアルコールを1.4付加する提案が知られ
ている。また、式(1)に包含されるβ−ケトアセタ
ール類の合成法としては、１・３−ジカルボニル
化合物を、該化合物の一方のカルボニル基のみを
選択的にアセタール化する提案が知られている。 しかしながら、これら従来提案に於ては、先ず
煩雑な多工程をへて原料α，β−不飽和カルボニ
ル化合物あるいは、１・３−ジカルボニル化合物
を合成する必要があり、更に、そのような煩雑な
多工程を経たのち、それぞれアルコールの1.4付
加反応あるいは選択的にモノアセタール化すると
いう工程上の不利益がある。更に又、後者におい
ては、副生成物としてビニルエーテルの生成が回
避し難度い欠点がある。 又、別の提案として、例えば、四塩化チタンの
存在下、シリルエノールエーテルとアセタールあ
るいはオルトギ酸トリメチルとの縮合反応によ
り、β−アルコキシケトン類およびβ−ケトアセ
タール類を合成する方法が知られている。 該方法は、反応に用いるシリルエノールエーテ
ルが非常に高価であり且つ又その合成が煩雑であ
つて工業的製法には適さない欠陥がある。加え
て、β−アルコキシケトン類およびβ−ケトアセ
タール製の収率が低い難点がある。 従来、β−アルコキシケトン類およびβ−ケト
アセタール類の製造に関しては、上述した従来提
案以外の製法については全く知られていず且つ
又、そのような他の製法による合成の可能性につ
いても全く示唆されたことが無い。 本発明者等は、上述のような従来提案の不利益
乃至欠陥を克服して工業的に有利に式(1)β−アル
コキシケトン類およびβ−ケトアセタール類を製
造できる新しい合成経路を開発すべく研究を行つ
てきた。 その結果、工業的に容易に合成でき且つ安価な
前記式(2)エナミン化合物と前記式(3)アセタールも
しくはオルトギ酸エステルとをルイス酸の存在下
に接触せしめるという新しい合成径路によつて、
容易な操作で且つ好収率をもつて式(1)化合物を工
業的に有利に製造できることを発見した。 従つて、本発明の目的は、新しい合成経路によ
つて式(1)化合物を工業的に有利に製造できる式(1)
化合物の製法を提供するにある。 本発明の上記目的及び更に多くの他の目的なら
びに利点は以下の記載から一層明らかとなるであ
ろう。 本発明方法によれば、前記式(2)エナミン化合物
と前記式(3)アセタールもしくはオルトギ酸トリア
ルキルを、ルイス酸の存在下に接触させることに
より一挙に式(1)目的化合物を形成することができ
る。該式(2)エナミン化合物は、対応するカルボニ
ル化合物とアミンとを触媒の存在下に常法に従つ
て反応させることにより容易に合成することがで
きる。 上記式(2)エナミン化合物形成工程を含めて、本
発明方法を図式的に示すと、以下のように示すこ
とができる。 上記に於て、R¹、R²、R³、R⁴、Ｘ、Ｙ及びｎ
は前記したと同義である。 上記例に於て、式(4)カルボニル化合物と式(5)ア
ミンとの反応は、それ自体公知のエナミン化合物
合成法に従つて（エナミン合成例文献：G.Stork
et al.、J.Am.Chem.Soc.、85、207（1963）；S.
Hunig et al.、O.S.、coll.、５、808（1973）．〕、
たとえば炭酸カリウム、ｐ−トルエンスルホン酸
などの如き触媒の存在下に、式(4)化合物と式(5)化
合物とを接触せしめることにより容易に行うこと
ができる。 例えば、シクロヘキサノン（1.5モル）、モルホ
リン（1.8モル）、およびｐ−トルエンスルホン酸
（1.5ｇ）のトルエン（300ml）の溶液を加熱還流
し、共沸する水を除去することにより、１−（Ｎ
−モルホリノ）−１−シクロヘキセンを約80％の
収率で得ることができる。 例えば上述のようにして得ることのできる式(2)
エナミン化合物に於て、R¹の低級アルキル基の
例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、などの如きC₁〜
C₄のアルキル基、とくにはメチル基を例示する
ことができる。又、R²の低級アルキル基として
は、上記R¹について例示したと同様なアルキル
基、とくにはC₃〜C₄アルキル基を例示できる。
R¹及びR²の低級アルキル基は直鎖もしくは分枝
のいずれのアルキル基であつてもよい。又、R²
のC₃〜C₉アルケニル基の例としては、１−プロ
ペニル、２−メチル−１−プロペニル、６−メチ
ル−５−ヘプテン−２−イル１−ノネニルの如き
直鎖もしくは分枝のアルケニル基を例示すること
ができる。又、R¹及びR²のフエニル基は、これ
らR¹及びR²の両者が同時にフエニル基を示すこ
とはない。更に、R¹及びR²は一緒になつて、（−
CH₂）−₃〔シクロペンテン〕、（−CH₂）−₄〔シクロヘ
キセン〕、

【式】〔３，４−ジ メチル−１，３−シクロヘキサジエン〕を示すこ
とができる。 このような式(2)化合物の例としては、たとえ
ば、１−（Ｎ−モルホリノ）−１−シクロヘキセ
ン、３，４−ジメチル−１−（Ｎ−モルホリノ）−
１，３−シクロヘキサジエン、１−（Ｎ−ピペリ
ジノ）−１−ヘキセン、５−メチル−２−（Ｎ−モ
ルホリノ）−２，４−ヘキサジエン、３−メチル
−１−（Ｎ−モルホリノ）−１−ブテン、β−（Ｎ
−ピペリジノ）スチレン、α−（Ｎ−モルホリノ）
スチレン、３，７−ジメチル−１−（Ｎ−モルホ
リノ）−１，６−オクタジエン、Ｎ−メチル−Ｎ
−（１−シクロヘキセニル）アニリン、１−（Ｎ−
モルホリノ）−１−シクロペンテン、１−（Ｎ−モ
ルホリノ）−１−ヘキセン、などを例示すること
ができる。 本発明方法によれば、上記の如き式(2)エナミン
化合物と、式(3)化合物とを、ルイス酸の存在下に
接触せしめて式(1)目的化合物を得ることができ
る。 上記反応は、好ましくはハロゲン化炭化水素溶
媒中で、ルイス酸の存在下に式(2)化合物と式(3)化
合物とを接触せしめることにより行うことができ
る。反応は室温でも進行するのでとくに加熱の必
要はないが、例えば約−60℃〜約40℃、より好ま
しくは約0゜〜約20℃の如き反応温度を例示でき
る。反応時間は適宜に選択でき、たとえば約0.5
時間〜約５時間、より好ましくは約１時間〜約２
時間の反応時間を例示することができる。 反応に際して、式(2)化合物に対する式(3)化合物
の使用量も適宜に選択でき、たとえば、式(2)化合
物１モルに対して約１〜約２モル程度の使用量を
例示することができる。更に、ルイス酸の使用量
も適宜に選択でき、たとえば、式(2)化合物１モル
に対して約0.1〜約２モル程度、より好ましくは
約１モル前後の使用量を例示することができる。 さらに、上記ハロゲン化炭化水素溶媒の例とし
ては、例えば、モノクロロメタン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、モノクロロエタ
ン、１，２−ジクロロエタン、これらの混合物等
を例示できる。これらの有機溶媒の使用量には、
特別の制約は無いが、式(2)化合物に対し、例えば
約２〜約10重量倍程度の範囲を例示できる。ま
た、ルイス酸の例としては、四塩化チタン、四塩
化スズ、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、三フツ化
ホウ素ジエチルエーテル錯体、三フツ化ホウ素酢
酸錯体、臭化亜鉛等を挙げることができる。反応
生成物は、溶媒を留去したのち、所望により減圧
蒸留等の手段で精製することができる。 上記(2)エナミン化合物との反応に用いる式(3)化
合物に於て、R³の低級アルキル基の例としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ペンチルなどの如きC₁−C₅ア
ルキル基、好ましくはC₁−C₄アルキル基を例示
することができる。R⁴の基OR³におけるR³につ
いても同様である。又、R⁴の低級アルキル基の
例としては、上記R³について例示した同様な低
級アルキル基を例示することができる。又、R⁴
のC₃−C₉アルケニル基の例としては、式(2)のR²
についてすでに例示したと同様なアルケニル基を
例示できる。又、R⁴のフエニル基は低級アルコ
キシ基で置換されていてもよく、C₁〜C₄アルコ
キシ基とくにはメトキシ基を例示できる。 更に式(3)化合物においてR³とR⁴は一緒になつ
て を示すことができる。このような式(3)化合物の例
としては、たとえば、オルトギ酸トリメチル、オ
ルトギ酸トリエチル、アセトアルデヒドジエチル
アセタール、アセトアルデヒド−ジｎ−ブチルア
セタール、ブタナールジエチルアセタール、３−
メチルブタナールジイソプロピルアセタール、ト
ランス−２−ブテナ−ルジメチルアセタール、ト
ランス−２−ヘキセナールジメチルアセタール、
３，７−ジメチル−６−オクテナールジエチルア
セタール、ベンツアルデヒドジエチルアセター
ル、フエニルアセトアルデヒドジエチルアセター
ル、ｐ−アニスアルデヒドジメチルアセタール、
ヘリオナールジメチルアセタール、２−エトキシ
−５−ペンチルテトラヒドロフラン、２−メトキ
シテトラヒドロピラン、２−メトキシ−４−メチ
ルテトラヒドロピラン等を例示することができ
る。 本発明によれば、前に示した下記式(1) 但し式中、R¹、R²、R³及びR⁴は前記したと同
義であり、ｎは０もしくは１を示すが、ここで、
式(3)化合物のR³とR⁴とが一緒になつて環を形成
している場合には、R⁴はその一緒になつた環を
示し且ｎ＝０であり、式(3)化合物がそれ以外の化
合物の場合にはR⁴は前記したと同義であり且つ
ｎ＝１である、 で表わされる化合物が、容易な操作で、安価且つ
入手容易な原料を用いて好収率で工業的に有利に
得られる。 上記式(1)におけるｎの定義に明らかなとおり、
式(3)化合物が３ケの基OR³を有する場合（すなわ
ちR⁴もOR³）には形成される式(1)化合物におけ
る基OR³の数は２ケであり、式(3)化合物が２ケの
基OR³を有する場合（すなわちR⁴はOR³以外の
基）には形成される式(1)化合物における基OR³の
数は１ケであり、式(3)化合物が１ケの基OR³を有
する場合（すなわちR³とR⁴とが一緒になつてエ
ーテル結合を含む環を形成している場合）には形
成される式(1)化合物における基OR³の数はゼロで
ある。 上述のようにして得られる式(1)化合物の例とし
ては、たとえば、以下の如き化合物を例示するこ
とができる。 例えば、２−ジエトキシメチルシクロヘキサ
ン、２−ジメトキシメチルシクロヘキサノン、２
−メトキシメチル−３，４−ジメチル−３−シク
ロヘキセノン、２−ジエトキシメチルヘキサナー
ル、３−ジメトキシメチル−５−メチル−４−ヘ
キセン−３−オンなどの如きβ−ケトアセタール
類；３−エトキシ−２−イソプロピルヘキサナー
ル、３−（４−メトキシフエニル）−２−イソプロ
ピル−３−メトキシプロパノール、２−ブチル−
３−エトキシブタナール２−ブチル−３−イソプ
ロポキシ−５−メチルヘキサナール、２−ブチル
−３−エトキシ−３−フエニルプロパノール、２
−（２−テトラヒドロピラニル）ヘキサナール、
２−（１−エトキシブチル）−３，７−ジメチル−
６−オクテナール、４−メトキシ−３−（２−メ
チル−１−プロペニル）−５−ヘプテン−２−オ
ン、４−エトキシ−３−（２−メチル−１−プロ
ペニル）−４−フエニル−２−ブタノン、２−（１
−エトキシエチル）シクロヘキサノン、２−（２
−ブトキシエチル）シクロヘキサノン、２−（１
−メトキシ−２−ブテニル）シクロヘキサノン、
２−（α−エトキシベンジル）シクロヘキサノン、
２−（２−テトラヒドロピラニル）シクロヘキサ
ノン、２−（１−メトキシ−２−ヘキセニル）シ
クロヘキサノン、２−（１−メトキシ−２−メチ
ル−３−（３，４−メチレンジオキシフエニル）
プロピル）シクロヘキサノン、２−（５−ペンチ
ル−２−テトラヒドロフラニル）シクロヘキサノ
ン、２−（１−エトキシエチル）シクロペンタノ
ン、２−（４−メチル−２−テトラヒドロピラニ
ル）シクロペンタノン、２−（１−エトキシ−３，
７−ジメチル−６−オクテニル）シクロペンタノ
ン、３−エトキシ−１−フエニル−１−ブタノ
ン、３−イソプロポキシ−５−メチル−２−フエ
ニルヘキサナールなどの如きβ−アルコキシケト
ン類。 次に、実施例により、本発明方法実施の数態様
を示す。 実施例 １ ２−ジエトキシメチルシクロヘキサノンの合
成： 乾燥ジクロルメタン50ml中に、0.05モル（8.4
ｇ）の１−（Ｎ−モルホリノ）−１−シクロヘキセ
ンと0.065モル（9.6ｇ）のオルトギ酸トリエチル
を仕込み、0.065モル（16.9ｇ）の四塩化スズを
約−40℃に於て、かくはん条件下、アルゴン雰囲
気下で添加する。添加後さらに約０℃で約１時間
かくはん条件下に反応させる。反応混合物中に水
50mlを添加し、さらに約１時間室温においてかく
はんする。有機層を分離し、食塩水で１回洗浄し
たのち、飽和重ソウ水で中和洗浄する。有機層
は、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのちジクロ
ルメタンを回収する。得られた粗製を減圧蒸留に
付して、沸点83〜84℃／２mmHgの留分として２
−ジエトキシメチルシクロヘキサノン9.0ｇ（収
率90％）を得た。 実施例 ２ ２−（α−エトキシベンジル）シクロヘキサノ
ンの合成： 乾燥ジクロルメタン50mlと0.065モル（11.7ｇ）
のベンツアルデヒドジエチルアセタールを仕込み
−30℃にかくはん冷却する。次に0.065モル（9.2
ｇ）の三フツ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を、
アルゴン雰囲気下添加し、約５分後0.05モル
（8.4ｇ）の１−（Ｎ−モルホリノ）−１−シクロヘ
キセンを同様に添加する。添加後さらに室温で約
２時間かくはん条件下に反応させる。反応混合物
中に水50mlを添加し、さらに約１時間室温に於て
かくはんする。有機層を分離し、食塩水で１回洗
浄したのち、飽和重ソウ水で中和洗浄する。有機
層は、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、ジ
クロルメタンを回収する。得られた粗製を減圧蒸
留に付して、沸点120−122℃／1.5mmHgの留分と
して２−（α−エトキシベンジル）シクロヘキサ
ノン10.3ｇ（収率89％）を得た。 実施例 ３〜28 前記実施例１〜２と同様にして、後掲表−１に
示した式(2)エナミン化合物、式(3)化合物およびル
イス酸を用いて各種のβ−ケトアセタール類およ
びβ−アルコキシケトン類を合成した。その結果
を表−１に示す。

【表】 〓ヘキセン エチル ズ^（Ｃ
） ヘキサナール

【表】
ヘキサノン

【表】 ピルアセタール
ヘキサナール

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記式(2) 但し式中、R¹は水素原子、低級アルキル基も
   しくはフエニル基を示し、 R²は低級アルキル基、C₃〜C₉アルケニル基も
   しくはフエニル基を示し、 ただし上記に於て、R¹及びR²が同時にフエニ
   ル基を示すことはない、 又は、R¹及びR²は一緒になつて、（−CH₂）−₃、
   （−CH₂）−₄もしくは【式】を示 す、そして、Ｘ及びＹは低級アルキルもしくはフ
   エニル基を示し、またＸとＹは一緒になつて（−
   CH₂）−₄、（−CH₂）−₅もしくは（−CH₂）−₂O（−CH₂
   ）−
   _２を示す、 で表わされるエナミン化合物と、下記式(3) 但し式中、R³は低級アルキル基を示し、R⁴は
   低級アルキル基、基OR³、C₃−C₉アルケニル基、
   もしくは低級アルコキシで置換されていてもよい
   フエニル基を示すか、或は【式】基を 示し、ここで、R³とR⁴は一緒になつて、（−CH₂
   ）−₄、【式】もしくは 【式】を示すことができる、 で表わされる化合物とを、ルイス酸の存在下に接
   触せしめることを特徴とする下記式(1) 但し式中、R¹、R²、R³及びR⁴は前記したと同
   義であり、ｎは０もしくは１を示すが、ここで、
   式(3)化合物のR³とR⁴とが一緒になつて環を形成
   している場合には、R⁴はその一緒になつたエー
   テル結合を含む環を示し且つｎ＝０であり、式(3)
   化合物がそれ以外の化合物の場合にはR⁴は前記
   したと同義であり且つｎ＝１である、 で表わされる化合物の製法。