JPS595133A - β−アルコキシケトン類およびβ−ケトアセタ−ル類の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、下記式＜１１ Ｒ冨 但し式中、ＲＩは水素原子、低級アルキル基もしくはフ
ェニル基ケ示し、 Ｒ１は低級アルキル基、Ｃ３〜Ｃ。

アルケニル基もしくはフェニル基 全示し、 ただし上記に於て、ノシ１及びＲ１ が同時にフェニル基を示すことは ない、 又は、Ｒ１及びｉｔ″は一緒になっ て、＋ＣＨ，すｓ　、＋ＣＨｔ＋ａもしくＣＨ，ＣＨ。

七９ ＩｔＪ＋）ｆｔｌ／ｚアルキル基を示し、Ｒ４は低級ア
ルキル基、基υＲ３、 Ｃ，−Ｃ，アルケニル基、もしく は低級アルコキンで藏換烙れてい てもよいフェニル６に示すか、或 で、Ｒｓ　とノシ４は一緒になって、 千ｃｉノ、±４　、＋ＣＨ＊＋Ｔ−ＣＨＣＨ２−ＣＢ８ もしくは十ＣＨ，七、ＣＨ−ヶ示す ＣうＨ■ ことができ、そして、 ｔＬはＯもしくはｌｉ示すが、 ここで、 式（３）化は物のＨｓとＲ４とが−緒 になって環を形）Ｌしている場合に は、Ｒ４はその一緒になったニー チル結＠會含む環全示し且ｎ二〇 であジ、式（３）化合物がそれ以外の 化合物の場付にはＲ４は前記した と同義であり且つｎ＝１である、 で表わされる化合物の製法に関し、上記式（１１化合物
會、改善された容易な操作で、安価且つ入手容易な原料
音用いて、好収率で工業的に有利に製造できる新しい合
成径路による製法に関する。上記式（１１で表わされる
β−アルコキシケト７類およびβ−ケトアセタール類は
香料、農業、医薬などの分野における製造中間体として
有用且っ軍閥な公知化合物である。

更に詳しくは、本発明は、上記式（２）但し式中、Ｒ′
は水素原子、低級アルキル基もしくはフェニル基を示し
、 Ｒ２は低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ。

アルケニル基もシく（ハフェニル基 を示し、 ただしＬ記に於て、ｌＣ１及び１＜！ が同時にフェニル＄孕示すことは ない、 又１１、Ｒ’　　及びＲ”は−緒になって・　＋ＣＢ、
す島・＋ｃｔｉ、す４　もしくＣ；ｌｉ、ＣＨ。

て、Ｘ及びＹは低級アルキル基も しくはフェニル基を示し、゛またＸ とＹは一蛯になって＋ＣＨ，す４、 ±Ｃ１１ｔ　＋　ｓもしくは＋ＣＨ！七ｒ”＋ＣＨ！す
！を示す− で表わされるエナミン化合物と、下肥式（３）但し式中
、Ｒｓは低級アルキル基を示し、ＩＣ４は低級アルキル
基、基ＯＲ”、 Ｃ１Ｃ，アルケニル基、もしくは 低級アルコキシで置南されていて も工いフェニルｌｋケ示すか、或は ＲＩＩとＲ４は一緒になって、 ＋ＣＨ，す、　、＋ＣＨ，＋Ｙ−ｃ１１−ＣＨ，−・ ＣＢ。

もしく　ｉｊ　＋　ＣＨｚ七「Ｃｌノー會示すこにｌ　
、　０．１ とができる、 で表わきれる化合物とを、ルイス酸の存在下に接触せし
めること？％敵とする前記式（１１化は物の製法に関す
る。

従来、式（１）に包含されるβ−アルコキシケトン類の
合成法としては、α、β−不や和カルボニル化合物にア
ルコール會１．４付加する提案が知られている。また、
式（１）に包含さｒするβ−ケトアセタール類の合成法
としては、ｌ・３−ノカルボニル化付物ケ、該化合物の
一方のカルビニル基のみ會４択的にアセタール化する提
案が知られている。

しかしながら、こｔｌら従来提案に於ては、先ず煩雑な
多工程をへて原料ｃｔ、β−不飽和カルビニル化合物あ
るいは、ｌ・３−ツカルビニル化合物を合成する必要が
あり、更に、そのような煩雑な多工程２経たのち、七ｎ
それアルコールの１．４付加反応あるいは選択的にモノ
アセタール化するという工程、ヒの不利益がある。更に
又、後者においては、副生ｊＡ物としてビニルエーテル
の生成が回避しｍｌすい欠点がある。

父、別の提−婆として、例えば、四塩化チタンの存在下
、シリルエノールエーテルとアセタールあるいはオルト
ギ酸トリメチルとの縮合反応にエリ、β−アルコキシケ
ト７類お工びβ−ケトアセタール頌ケ合成する方法が知
られている。

該方法は、反応に用いるシリルエノールエーテルが非常
に高価であり且つ又その合成が煩雑であって工業的書法
には適さない欠陥がある。〃口えて、β−アルコキシケ
トン類お工びβ−ケトアセタール製の収率が低い難点が
ある。

従来、β−アルコキシケトン類お工びβ−ケトアセター
ル類の製造に関しては、１述した従来提案以外の製法に
ついては全く知られていす且つ又、そのような他の製法
による合成の可能性についても全く示唆さｔ′したこと
が無い。

本発明者等は、上述のような従来提案の不利益乃至欠陥
全克服して工業的に有利に式（１）β−アルコキシケト
ン類お工びβ−ケトアセタール類會製造できる新しい合
成経路會開発すべく研究を行ってきた。

その結果、工業的に容易に合成でき且つ安価な前記式（
２）エナミン化合物と前記式（３）アセタールもしくは
オルトギ酸エステルと會ルイス酸の存在下に接触せしめ
るという新しい合成径路によって、容易な操作で且つ好
収率をもって式（１）化合物を工業的に有利に仰造でき
ることケ発見した。

従って、本発明の目的は、新しい合成経路によって武（
１）化合物全工業的に有利に製造でき６式（１）化合物
の裏法ケ提供するにある。

本発明の上記目的及び更に多くの他の目的ならびに利点
は以下の記載から−Ｉｌｌ明らかとなるであろう。

本発明方法によハば、前記式（２）エナミン化合物と前
記式（３）アセタールもしくはオルトギ酸トリアルキル
を、ルイス酸の存在下に接触させることにより一挙に式
（１）目的化合物を形成することができる。練武（２）
エナミン化合物は、対応するカルボニル化合物とアミン
とを触媒の存在下に常法に従って反応させることにより
容易に合成することができる。

上記式（２）エナミン化合物形成工程を含めて、本発明
方法全図式的に示すと、以下のように示すことができる
。

ルイス酸　　　　　　　　　（ｌ 上記Ｋｉ　て、Ｒ１％Ｒ”、Ｒ”％Ｒ’、Ｘ％Ｙ及びｎ
は前記したと同義である。

Ｆ起倒に於て、式（４）カルがニル化合物と式（５）ア
ミンとの反応は、それ自体公知のエナミン化付物合成法
に従って（エナミン合成例文献二〇。

５ｔｏｒｋ　　ｅｔ　　ａｌ、、Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、
Ｓｏｃ、。

８５、２０７　（１９６３）　：Ｓ、　１ｉｕｒｒ、ｉ
ｇ　ｇｔ　ａｌ、。

υ・　Ｓ、、ｃｏｉｌ・、上、８０８（１９７３）、］
、たとえば炭酸カリウム、ｐ−トルエンスルホン酸など
の如き触媒の存在下に、式（４）化合物と式（５）化合
物と？接触せしめることにより容易に行うことができる
。

例えは、シクロヘキサノン（ｔ、Ｓモル）、モルホリン
（１，８モル）、およＵｐ−トルエンスルホン酸（１，
５、？　）のトルエン（３００ｍ）の溶液を加熱還流し
、共沸する水音除去することにより、１−（Ｎ−モルホ
リノ）−１−シクロヘキセンヲ約８０％の収率で得るこ
とができる。

例えば上述のようにして得ることのできる式（２）エナ
ミン化合物に於て、Ｒ１の低級アルキル基の例としては
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、などのｖ口きＣ１〜Ｃ４のアルキル基、と
くにはメチル基を例示することができる。又、Ｒ１の低
級アルギル基としては、上記Ｒ′について例示したと同
様なアルキル基、とくにはＣｓ−、−Ｃ４アルキル基ケ
例示できる。

Ｒ１及びＲ１の低級アルキル基は直鎖もしくは分校のい
ずれのアルキル基であってもよい。父、Ｒ１のＣＩ−Ｃ
，アルケニル基の例としてｔま、ｌ−グロペニル、２−
メチル−１−７”ロペニル、ｅ−メチル−５−へブテン
−２−イルｌ−ノネニルの如き直鎖もしくは分枝のアル
ケニル基を例示することができる。又、Ｒ１及びＲ２の
フェニル基は、これらＲ１及びＲ１の両者が同時にフェ
ニル基會示すことはない。更に、／＜’及びＲｔ＆は一
緒になって、±ｃ、Ｈ，辷「〔シクロｄ　７テン〕、＋
ｃＲ２＋−ｒＵＨ，ＣＭ。

し３　、４−−／メチルー１，３−シクロへキサツエン
〕？示すことができる。

このような式（２）化合物の例としては、たとえば、１
−（Ｎ−モルホリノ）−１−シクロヘキセン、３．４−
ツメチル−１−（Ｎ−モルホリノ）−１，３−シクロヘ
キサツエン、１−（Ｎ−ビにリッツ）−１−ヘキセン、
５−、メチル−２−（Ｎ−モルホリノｌ−２，４−ヘキ
サツエン、３−メチル−ｔ−Ｂｖ−モルホリノ）−１−
ブテン、β−（Ｎ−ピペリソノ］スチレン、α−（Ｎ−
モルホリノ）スチレン、３，７−ヅメチル−１−（＃−
モルホリノＪ−１，６−オクタソエン、Ｎ−メチ”−Ｎ
−（１−シクロへキセニル）アニｌｌｙ、１−（Ｎ−モ
ルホリノ）−１−シクロペンテン、１−（Ｎ−モル、ホ
リン）−１−ヘキセン、なトを例示することができる。

本発明方法によれば、上記の如き式（２）エナミン化合
物と、式（３）化合物とを、ルイス＾ｌの存在下に接触
せしめて式（１）目的化合物を得ることがで弯る。

上記反応は、好ましくはハロゲン化炭化水素溶媒中で、
ルイス酸の存在下に式（２）化合物と式（３）化合物と
を接触せしめることにより行うことができる。反応は室
温でも進行するのでとくに加熱の必要はないが、例えは
約−６０℃〜約４０℃、より好゛ましくは約０°〜約２
０℃の如き反応温度全例示できる。反応時間は適宜に選
択でき、たとえば約０．５時間〜約５時間、より好オし
くけ約１時間〜約２時間の反応時間を例示することがで
きる。

反応に際し′Ｕ、式（２）化合物に対する式（３）化合
物の使用量も適宜に選択でき、たとえば、式（２）化合
−二−１−− ゛　　　　物１モルに対して約１〜約２モル程度の使用
量全例示することができる。更に、ルイス酸の使用量も
適宜に司択でき、たとえば、式（２）化合物１モルに対
して約０．１〜約２モル程度、より好ましくは約１モル
前後の使用量會例示することができる。

さらに、上記ハロゲン化炭化水素溶媒の例としては、例
えは、モノクロロメタン、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、モノクロロエタン、ｌ、２−ジクロロ
メタン、これらの混合物等を例示できる。これらの有機
溶媒の使用数には、特別の制約は無いが、式（２）化合
物に対し、例えば約２〜約１０３附倍程度の範囲全例示
できる。また、ルイス酸の例としては、四塩化チタン、
四塩臭化亜鉛等を挙げることができる。反応生成９Ｊｔ
よ、溶媒を留去したのち、所望により減圧蒸留等の手段
で精製することができる。

上記（２）エナミン化合物との反応に用いる式（３）化
合物に於て、Ｒ３の低級アルキル基の例としては、メチ
ル、エチル、グロビル、イングロビル、ブチル、インブ
チル、ダンチルなどの如きＣ，−Ｃ。

アルキル基、好ましくはＣ１−Ｃ４アルキル基を例示す
ることができる。Ｒ４の基Ｏノー３におけるＲ３につい
ても同様である。又、ノビ４の低級アルキル基の例とし
ては、上記Ｒ３について例示した同様な低級アルキル蒸
上例示することができる。

父、Ｒ４のＣ３−Ｃ・アルケニル基の例としては、式（
２）のＲ２について丁でに例示したと同様なアルケニル
基を例示できる。父、Ｒ４のフェニル基ハ低級アルコキ
シ基で置換されていて％、よく、Ｃ８〜Ｃ４アルコキシ
基とくにはメトキシ基を例示できる。

更に式（３）化合物においてノア８　とＲ’Ｖｉ−緒に
なとができゐ。このような式（３）化合物の例としては
、たとえは、オルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエ
チル、アセトアルデヒドジエチルアセタール、アセトア
ルデヒド−ジル−ブチルアセタール、プタナールソエテ
ルアセタール、３−メチルブタナールヅイノプロピルア
セタール、トランス−２−プテナールソメチルアセター
ル、トランス−２−ルー６−オクｆ−ｆ−ルジエチルア
セタール、ペンツアルデヒドノエチルアセタール、フェ
ニルアセトアルデヒドソエチルアセタール、ｐ−アニス
アルデヒドツメチルアセタール、ヘリ方ナールツメチル
アセタール、２−エトキシ−５−ベンハルテトラヒドロ
フラン、２−メトキシテトラヒドロピラン、２−メトヤ
シ−４−メチルテトラヒドロピラン等を例示することが
できる。

本発明方法に、［１，ば、前に示したＦ記式（１）但し
式中、Ｒ１、Ｒ”　、Ｒ１１及びノア４は前記したと同
義であり、ｎは０もしくは１’（［示すが、ここで、式
（３）化合物のノビ３と８４とが一緒になって環會１杉
成１〜ている場合には、ノア４はその一緒になった壇を
示し且ｎ＝０であり、式（３）化合物がそれ以外の化合
物の揚台に゛はＲ４Ｖま前記したと回りであり且つｎ＝
ｌである、で表わされる化合物が、容易な操作で、安価
且つ入手容易な原料を用いて好収率で工業的に有利に得
ら第１る。

上記式＋１１におけるｎの定義に明らかなとおり、式（
３）化合物が３ケ霧の基ＯＲ”ｆ肩する場合（すなわち
ｌｉ′　もＯＲ３）には形成される式（１）１ヒ合物に
おける阜ｏｔｔｓの数は２ケであり、式（３）化合物が
２ケの基ＯＲ”？＋１−有する場合（すなわちＲ４はＯ
Ｒ’以外の羞］には形成さｉする式（１）化合物におけ
る基ｏＲｓの数は１ケであり、式（３）化合物が１ケの
−ＪｉＯＲ”ｌ廟する場合（すなわち１１とＩ＋！４と
が一緒になってエーテル結＠會含む環を形成している場
合］にｔま形成される式（１）化合物における基ＯＲ”
の数はゼロである。

上述のようにして得られる式＋１１化合物の例としては
、たとえば、以下の如き化合物を例示することができる
。

例えば、２−ヅエトキシメチルシクロヘキサン、２−ジ
メトキシメチルシクロヘキサノン、２−メトキシメチル
−３１，４−ツメチル−３−シクロヘキセノン　２−ジ
ェトキシメチルヘキサナール、３−ジメトキシメチル−
５−メチル−４−ヘキセン−３−オンなどの如きβ−ケ
トアセタール類；３−エトキシ−２−イソグロビルヘキ
サナール、３−（４−メトキシフェニルｌ　−２−１ソ
プロビル−３−メトキシグロパナール、２−ブチル−３
−エトキシブタナール２−ブチル−３−イソプロポキシ
−５−メチルヘキサナール、２−ブチル−３−エトキシ
−３−フェニルグロノ９ナール、２−（２−テトラヒド
ロピラニル］ヘキサナール、２−（’ｉ−エトキ７ブチ
ル）−３，７−ジメチル−６−オクテナール、４−メト
キシ−３−（２−メチル−１−グロベニル）−５−ヘク
テンー’２−、ｔン、４−エトキシ−３−（２−メチル
−１−グロペニル）−４−フェニル−２−ブタノン、２
−（１−エトキシエチル）シクロヘキサノン、２−（２
−ブトキシエチルンシクロヘキサノン、２−（ｌ−メト
キシ−２−ブテニル）シクロヘキサノン、２−（ｄ−エ
トキシペンヅル］シクロヘキサ／ｙ、２−（２−テトラ
ヒドロフラニルｌシクロヘキサノン、２−（１−メトキ
シ−２−へキセニルｉシクロヘキサノン、２−（１−メ
トキシ−２−メチル−３−（３，４−メチレンジオキシ
フェニル）７’口ビル】シクロヘキサノン、２−（５−
ペンチル−２−テトラヒドロフラニルｌシクロヘキサノ
ン、２−（１−エトキシエチル）シクロペンタノン、２
−（４−メチル−２−テトラヒドロぎラニル）シクロペ
ンタノン、２−（１−エトキシ−３，７−ｆ／メチル−
６−オクテニル）シクロペンタノン、３−エトキシ−１
−フェニル−１−ブタノン、３−イソプロポキシ　５−
メチル−２−フェニルヘキサナールなどの如きβ−アル
コキ実施例　１ ２−ジェトキシメチルシクロヘキサノンの合成：乾燥ジ
クロルメタン５〇−中に、０．０５モル（８，４１１）
の１−（Ｎ−モルホリノ）−１−シクロヘキセンド０．
０６５モル（９，６１りのオルトギ酸トリエチル會仕込
み、０．０６５モル（１６，９ｇ＋の四塩化スズを約−
４０℃に於て、かくはん条件Ｆ、アルゴン雰囲気下で添
加する。添加酸さらに約０℃で約１時間かくはん条件下
に反応させる。

反応混合物中に水５０＋ｄ１に添加し、さらに約１時間
室温においてかくはんする。４１機ｒ＊ｖ分離し、食塩
水で１回洗浄したのち、飽、ｔＯ塩ソウ水で中和洗浄す
る。有４１１＃Ｉ−は、無水硫酸マグネシウムで乾燥゛
したのちジクロルメタンを回収する。得られた粗製全減
圧蒸留に付して、沸点８３〜８４℃／２ｍｘＨσの留分
として２−ンエトキシメチルシクロへキサノン９．０ｇ
（収率９０％）を得た。

実施例　２ ２−（α−エトキシペンツル）シクロヘキサノンの合成
： 乾燥ジクロルメタン５０７Ｉと０．０６５モル（１１，
７ｇ）のインツアルデヒドジエチルアセタールケ仕込み
−３０“Ｃにかくはん冷却する。次に０、０６５モル（
９，２９３の三フッ化ホウ素ソエチルエーテル錯体ケ、
アルゴン雰囲気下添加し、約５分醍０．０５モル（８，
４，９）の１−（Ｎ−モルホリノ）−１−シクロヘキセ
ンケ同様に添加スる。

添加後さらに室温で約２時間かくはん条件下に反応させ
る。反応混合物中に水５０ｍｅｆ添加し、さらに約１時
間室温に於てかくはんする。、有機層を分離し、食塩水
で１回洗浄したのち、飽和本ノウ水で中和洗浄する。有
機層は、無水硫酸マグネシウムで乾燥シたのち、ソクロ
ルメタン會回収する。

得られた粗製を減圧蒸留に付して、沸点１２〇−１２２
℃／１．５峨１１Ｑの留分として２−（α−エトキシペ
ンシルクシクロヘキサノン１０．３＃（収率８９％）會
得た。

実施例　３〜２９ 前記実施例１〜２と同様にして、後掲表−１に示した式
（２）エナミン化合物、式（３）化合物およびルイスｌ
Ｗ’に用いて各種のβ−ケトアセタール毫自およびβ−
アルコキシケトン類を合成し友。その結果會表−１に示
す。

表　−１ 実施例　　式（２）エナミン化付物　　　　　　式（３
）化合物　　　　　　ルイス階トｈ ：う　　１−（Ｎ−モルホリノ）−オルトギ酸トリメ　
　　　三フッ化ホウ素チル ４　３．４−ツメデル−１−オルトギ酸トリメ　　　四
塩化チタン０（Ｎ−モルホリノ）−ｉ、　　　　チル３
−シクロヘキサツエン ５　　１−（Ｎ−ピペリソノｉ−オルトギ嘴トリエ　　
　四堪化ス栢０１−ヘキ七ン　　　　　　　　　チル ６　５−メチル−２−（Ｎ−モ　　　オルトギ閾メトメ
　　　　　Ｃルホリノｌ−２，４−ヘキ　　　チル サジエン ７　３−メチル−１−（Ｎ−モ　　　プタナールジエチ
　　　　　Ａルホリノ）−１−ブテン　　　　ル了セタ
ール８　３−メチル−１−（Ｎ−モ　　　ｐ−了ニスア
ルデ　　　　　Ｂルホリノ）−ｔ−ブテン　　　　ヒト
ツメチルアセタール ９　　１−ｔ／Ｖ−ピペリソノ）−アセトアルデヒド　
　　　　Ａ１−ヘキセン　　　　　　　　　　ジエデル
アセター生成物　　収率　帥　点 （％ｒ　　ｔ℃／＊言Ｈｑ） ２−ソメトキシメチルシ　　８５　８０／３クロヘキサ
ノン ２−ジメトキシメチル−８０７６−７９１０，７３，４
−＋／メチルー３− シクロヘキセノン ２−ジメトキシメチルへ　　８５　８３／３キサナール ３−ジメトキシメチル−７８９３−９４／９５−メチル
−４−ヘキセ ノー２−オン ３−エトキシ−２−イソ　　７３　９０−９４／１４グ
ロビルヘキサナール ３−（４−メトキシフエ　　８０　１２（１−１２３／
２ニル）−２−イングロビ ルー３−メトキシクロ／＃ ナール ２−ブチル−３−エトキ　　７５　８６／１３シプタナ
ール １０　　１−（Ａ／−ビＫＩＪジノ）−３−メチルブタ
ナ　　　　　　Ａｌ−ヘキセン　　　　　　　　　　−
ルジイソプ′ロピルアセタール １１　　１−（Ｎ−ピ々リッツ）−ペンツアルデヒド　
　　　　Ａ１−ヘキセン　　　　　　　　　ジエチルア
セタール １２　　１−１７Ｖ−ピペリジノ）−２−メトキシテト
　　　　　Ｂｌ−ヘキセン　　　　　　　　　ラヒドロ
ピラン１３　　３．７−シフチルーｌ−プタナールソエ
チ　　　　　Ａ（Ｎ−モルホリノ］−１，ルア上タール
６−オクタゾエン ＋４　　５−メチル−２−（Ｎ−モ　　　トランス−２
−ブ　　　　　ＡルホリノＩ−２，４−へキ　　　テナ
ールジメチルサソエン　　　　　　　　　　　　ｒセタ
ール１５　　５−メチル−２−（Ｎ−モ　　　ペンツア
ルデヒド　　　　　Ｂルホリノ）　２．４−ヘキ　　　
ジエチルアセターサソエン　　　　　　　　ル １６　　１−（Ｎ−モルホリノ］−アセトアルデヒド　
　　　　Ｂｌ−シクロへギセン　　　　　　ジエチルア
セタール １７　　１−１／Ｖ−モルホリノＪ−アセトアルデヒド
　　　　　Ａ１−シクロヘキセン　　　　　　ジエチル
アセター２−ブチル−３−イノグ　　７６　９２−９３
／１０ロポキシー５−メチルへ Φナール ２−ブチル−３−エトキ　　７８　１０５−１１０７２
シー３−フェニルグロノ臂 ナール ２−（２−テトラヒトＯ８１８６−８８／２ピラニル）
ヘキサナール ２−（１−エトキシブチ　　ｅｓ　　１１１−１１２／
１．５ル）−３，７−Ｃ／メチル− ６−オクテナール ４−メトキシ−３−（２７５９０−９３／２−メチル−
１−グロペニ ル）−５−へブテン−２ 一オン ４−エトキシ−３−（＄１　　　８１　　１１８−１１
９／１−メチル−１−グロペニ ル）−４−フェニル−２ 一ブタノン ２−（ｌ−エトキシエチ　　８３　９７−９８／１３ル
ｉシクロへ午すノン ２−（ｌ−プトキシエチ　　９１　９０−９５／１ルｉ
シクロヘキサノン １８　　１−（／ｙ−モルホリノ２−　　　トランス−
２−プ　　　　　Ａ１−７タロヘキセン　　　　　　テ
ナールジメチルアセタール １９　　１−（Ｎ−モルホリノ）−２−メトキシテト　
　　　　Ｂｌ−シクロヘキセン　　　　　　ラヒドロビ
ラン２０　Ｎ−メチル−Ｎ−（１−シ　　　トランス＝
２−へ　　　　　ＡクロヘギセニルＪ−ｒニリン　　　
ギセナールジメブルアセタール ２１　７Ｖ−メチル−Ｎ−１１−シ　　　ヘキサナール
ジメ　　　　　Ａクロヘキセニルノアニリン　　　チル
アヒタール２２　　１−（Ｎ−ピロリソノ）シ　　　２
−エトキシ−５ＡクロへＡセン　　　　　　　　　　−
ペンチルテトラヒドロフラン ２３　　１−１７Ｖ−モルホリノＪ−アセトアルデヒド
　　　　　Ａｌ−７りａ−２ノテン　　　　　　ソエチ
ルーｒ辷タール ２４　　／■−ジエチルーＮ−（１−アセトアルデヒド
　　　　　Ａシクロへキセニルｌ　−ｒノン　　　ツメ
チルアセタール 一２７３＝ ２−（１−メトキシ−２８２１００−１０３／２−プテ
ニｌ−７クロヘキサ ノン ２−（２−テトラヒドロ　　？２　９１−９５／２ピラ
ニル）シクロヘキサ ノン ２−（１−メトキシ−２６５１０９−１１１／２−へキ
モニル１シクロヘ キサノン ２−（１−メトキシ−２６０１５２−１５６，１０，２
−メチル−３−（３，４ 一メチレンジオキシフェ ニル）クロビル」シフａ ヘキサナール ２−（５−ペンテルー２　　６８　１１３−１１６７２
−テトラヒドロフラニル） シクロヘキザノン ２−（１−エトキシエチ　　７１　８０−８２／１Ｇル
２シクロ浸ンタノン ２−（１−メトキシエチ　　７４９３〜９６／１２ル）
シク口ヘキサノン ドロビラン ルソエチルアセタ ール ピルアセタール シクロペンタノン ノン 特許出願人　長谷川香料株式会社 手続補正書 昭和５７年　７月２９日 特許庁長官　　若　杉　和　夫　殿 ｌ事件の表示 昭和５７年特許願第１１１６００号 ２、発明の名称 β−アルコキシケトン類およびβ−ケトアセタール類の
製法３補ｒ［をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所　　　東京都中央区日本橋本町四丁目九贅地４、
代　理　人〒１０７ （ほか１名） （１）明細書第２８頁の表中、実施′ｖＡＪＡ６（Ｄ式
（３）化合物の欄に１．「オルトギ酸メトメチル」とあ
る金。

ｒ　オルトギ酸トリメチル　」 と訂正する。

（２）　　明細曹第２９頁の表中、実施例Ａ１２の沸点
（υ／１１１１１７）の欄に、　ｒ　８６−８８／２Ｊ
とある金。

ｒ　　８０−８１／Ｉ　　Ｊ と訂正する。

（３）　　明細書第２９頁の表中、実施例巡１５の沸点
（ｔ７／朋Ｈｒｔ）の欄に、　ｒ　１１８−１１９／Ｉ
Ｊとあるを。

ｒ　　１０Ｂ−１０６１０，８Ｊ と訂正する。

（４）明細誉第３０頁の表中、実施例＆１８の沸点（Ｃ
／ｗｍＨｙ）の欄に、ｒ　ｌ　ＯＯ−１０３／　２　Ｊ
とあるを、 ｒ　　７９−８４／２　　Ｊ と訂正する。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式（２） 但し式中、Ｒ′は水素原子、低級アルキル基もしくはフ
   ェニル基孕示し、 Ｒ１は低級アルキル基、ｃ、−Ｃ。 アルケニル基もしくはフェニル基 會示し、 たたし上記に於て、Ｒ１及びＲ１ が同時にフェニル４ヶ示すことに ない、 父は、Ｒ１及びＲ２は一緒になっ て、十〇Ｈ１＋−ｆ％＋ＣＢ、六も ＣＨ，ＣＨｓ そして、Ｘ及びＹは低級アルキル もしくはフェニル基會示し、また ＸとＹは一純になって＋Ｃツノｔ＋Ｔ、−Ｈｃｔ−ｉ、
   す１−もしくは −４−Ｃ：Ｉｉ２すｗｃ）ｒｃＨ＊＋Ｔ會示す、で表わ
   されるエナミン化＠物と、下記式（３）但し式中、Ｒ”
   は低級゛ｒルキル基を示し、Ｒ４は低級アルキル基１，
   １ＪＩｊ　Ｏノビ３、Ｃ３−Ｃ，アルケニル基、もしく ｔま低級アルコキシで置換さ；ｔ’Ｌ−’Ｃいてもよい
   フェニル基ケ示すか、或 Ｒ１１とＲ４は一緒になって、 ＋ＣＢ！す４、千ＣＨ、＋−ｙ−Ｃノ１−ＣＢ、−ＣＨ
   。 もしくは ＋ＣＨ１＋−７Ｃツノーを示すことが Ｃ，ｌｉｔｍ で籾る、 で表わされる化合物とを、ルイスｒｅの存在下に接触せ
   しめることを特徴とするＦ記式＋１１１旦し式中、ＲＩ
   　％／＜”　、Ｒ３及ヒＲ’　ｄ前記したと同義であり
   、ｎばＯもしくはｌｋ示すが、ここで、式（３）化合物
   のＲ８と８４とが一緒になって＋ｆＪを形成している場
   合には、Ｒ４はその一緒になったエーテル結合な含む壌
   欠示し且つｎ＝６であり、式（３）化合物がそれ以外の
   化合物の場合にはｌｌ’Ｆ１＠記したと同義であり且つ
   ｎ＝１である、 で衣わさ才する化合物の製法。