JPH0158169B2 - - Google Patents
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- JPH0158169B2 JPH0158169B2 JP12342484A JP12342484A JPH0158169B2 JP H0158169 B2 JPH0158169 B2 JP H0158169B2 JP 12342484 A JP12342484 A JP 12342484A JP 12342484 A JP12342484 A JP 12342484A JP H0158169 B2 JPH0158169 B2 JP H0158169B2
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- Japan
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- terpene
- formula
- chloride
- tetramethylene
- compound
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般式
（式中Ｒは
化合物（）の製造方法として以下のものが公
知である。 (i) 一般式（′）で示されるケトンをジアセチ
レンと反応させて化合物（）としたのち水添
反応を行う方法（特開昭53−149904号公報参
照）。 〔式中R1は
知である。 (i) 一般式（′）で示されるケトンをジアセチ
レンと反応させて化合物（）としたのち水添
反応を行う方法（特開昭53−149904号公報参
照）。 〔式中R1は
【式】
【式】または
前記(i)の方法は原料ジアセチレンがアセチレン
製造時の副生成物であることを考慮するとその大
量供給には制限があり、またジアセチレンの使用
に際しては安全性に対しても十分な配慮が要求さ
れる。(ii)の法は比較的簡便な方法ではあるが、銅
触媒を用いるための廃水処理、ピリジン回収効率
などの問題を含んでおり、工業的に採用するには
更に改良が必要である。(iii)の法は触媒コストが高
く、経済的方法ではない。このため、化合物
（）の製造に関しては、経済性に優れているの
みならず、安全性が高く、かつ大量生産に適した
簡便な操作性を有する方法の開発が望まれてい
た。 なお、前記Daubenらの方法においては、次式
に示すように２，６，10，15，19，23―ヘキサメ
チルテトラコサー２，６，18，22―テトラエン―
10，15―ジオール（−２）を経由しているもの
と考えられるが、該ジオールについて言及されて
いないばかりでなく、スクワレンの収率が20％と
非常に低い。 しかして本発明の目的は、、スクワランの合成
中間体として有用な化合物（）を簡便かつ経済
的に製造する方法を提供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明によれば、上記の目的は一般式 （式中Ｒは前記定義のとおりである。） で示されるテルペンケトン〔以下、これをテルペ
ンケトン（）と記す。〕をテトラメチレンジマ
グネシウムクロライド〔ClMg（CH2）4MgCl〕の
テトラヒドロフラン溶液中に40〜80℃の温度で添
加して反応させることを特徴とする化合物（）
の製造方法によつて達成される。 本発明方法に用いるテルペンケトン（）とし
ては６，10―ジメチルウンデカー５，９―ジエン
―２―オン（ゲラニルアセトン）、６，10―ジメ
チルウンデカン―２―オン（ヘキサヒドロプソイ
ドヨノン）、６，10―ジメチルウンデカー６，９
―ジエン―２―オン、６，10―ジメチルウンデカ
ー５，10―ジエン―２―オンなどが例示される。
これらのテルペンケトンはいずれも工業的に大量
かつ安価に製造しうるものである（たとえば特開
昭49−7268号公報参照）。これらのテルペンケト
ンはそれぞれを単独使用してもよく、また２種以
上を混合使用してもよい。 テトラメチレンジマグネシウムクロライドは、
たとえば、テトラヒドロフラン溶媒中で還流下に
２モル当量の金属マグネシウムと１，４―ジクロ
ルブタンを反応させることにより調製できる。こ
の際の調製温度が30〜40℃の場合には４―クロル
ブチル―１―マグネシウムクロライドが主たる生
成物となり、効率良くテトラメチレンジマグネシ
ウムクロライドを得るには60〜70℃にて反応させ
るのが好ましい。金属マグネシウムの使用量は
１，４―ジクロルブタンに対し２モル当量が必要
であるが、通常は２〜３モル当量の範囲で少し過
剰に用いるのが好ましい。３モル当量以上に大過
剰使用することは反応自体には何ら悪影響を及ぼ
さないが、調製後の回収・再使用を考慮すれば経
済的には好ましいと言えない。 テトラメチレンジマグネシウムクロライドとテ
ルペンケトン（）の反応はテトラヒドロフラン
溶媒中10〜70℃の温度範囲、特に好ましくは20〜
60℃の温度範囲にてテルペンケトン（）を連続
的または断続的に添加する方式により行うのが良
い。 本反応における副生成物等に関し、テルペンケ
トン（）がヘキサヒドロプソイドヨノンである
場合を例にとつて以下に説明する。 化合物（）はテトラメチレンジマグネシウム
クロライドの調製が不十分な場合に生成する不純
物であり、上記調製方法によれば通常は無視でき
る程の微量しか生成しない。化合物（）はケト
ン（−１）がアルドール縮合した生成物であ
り、ケトン（−１）を化合物（−１）または
（）の塩化マグネシウム塩と作用させることに
よつても生成することが確認された。このことは
ケトン（−１）中へテトラメチレンジマグネシ
ウムクロライドを添加する方式では化合物（）
の生成を増大させるため不利であることを示唆
し、参考例３に示される実験によつても裏付けら
れた。ケント（−１）とテトラメチレンジマグ
ネシウムクロライドとの反応温度が10℃より低い
場合にも化合物（）の生成は増加し、逆に反応
温度が70℃よりも高温になると化合物（）が更
に脱水した化合物（）の生成が増加する傾向が
ある。化合物（）の生成機構は必ずしも明らか
ではないが、テトラメチレンジマグネシウムクロ
ライドの片側のみがグリニヤール反応して生成す
るだけでなく、ケトン（−１）のアルドール縮
合に際してメチルプロトンの引抜きによつても生
成するものと推察される。 本発明の方法において、原料のテルペンケトン
（）はテトラメチレンジマグネシウムクロライ
ドに対し理論的には２モル当量必要であるが、通
常は1.5〜2.5モル当量、好ましくは1.8〜2.2モル
当量用いられる。反応時間は反応温度により大き
く左右されるが、通常５時間以内で十分である。
なお、化合物（）のタイプの副生物は塩基性条
件下で処理すると逆アルドール反応を起こして原
料ケトン（）に戻すことができる。 〔作用〕 本発明の方法に従つてテトラメチレンジマグネ
シウムクロライドのテトラヒドロフラン溶液中に
テルペンケトンを添加して反応させる場合には、
テトラメチレンジマグネシウムクロライドに対し
て過剰量のテルペンケトンの存在がさけられるこ
とがテルペンケトンに由来するアルドール縮合物
およびその脱水物の副生を減少させ、このために
目的とするテルペンジオールが好収率で得られる
ものと推定される。 〔実施例〕 以下、本発明を実施例により説明するが、本発
明は実施例によつて制限を受けるものではない。 実施例 １ 三つ口フラスコにマグネシウム2.9gとテトラヒ
ドロフラン50mlを入れ、これに窒素雰囲気下に
１，４―ジクロルブタン（6.4g）のテトラヒドロ
フラン（20ml）溶液を滴下した。滴下終了後、２
時間加熱還流し、テトラメチレンジマグネシウム
クロライドのテトラヒドロフラン溶液を調製し
た。ついでこの溶液に、ゲラニルアセトン
（19.4g）のテトラヒドロフラン（20ml）溶液を50
℃において約40分間を要して滴下した。反応温合
物を氷冷下、濃度５重量％の希酢酸水溶液中に注
ぎ、ヘキサンで抽出し、ヘキサン層から溶媒を留
去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイー（展開液：酢酸エチルとヘキサン
の10対90の混合液）に付することにより２，６，
10，15，19，23―ヘキサメチルテトラコサー２，
６，18，22―テトラエン―10，15―ジオール
17.57g（収率78.9％）、５，９，13―トリメチルテ
トラデカー８，12―ジエン―５―オール1.17g、
２，６，12，16，20―ペンタメチルヘンエイコサ
ー２，６，11，15，19―ペンタエン―10―オン
1.3gおよび６，10―ジメチルウンデカー５，９―
ジエン―２―オン1.0gを得た。 実施例 ２ マグネシウム4.8gおよび１，４―ジクロルブタ
ン6.4gを用いた以外は実施例１と同様にしてテト
ラメチレンジマグネシウムクロライドのテトラヒ
ドロフラン溶液を調製した。これに窒素雰囲気下
50℃において６，10―ジメチルウンデカンー２―
オン（19.8g）のテトラヒドロフラン（20ml）溶
液を滴下した。ついで実施例１と同様に後処理す
ることにより２，６，10，15，19，23―ヘキサメ
チルテトラコサン―10，15―ジオール〔化合物
（−１）〕19.3g（収率85.0％）、５，９，13―ト
リメチルテトラデカン―５―オール〔化合物
（）〕1.8g、２，６，12，16，20―ペンタメチル
ヘンエイコサ―11―エン―10―オン〔化合物
（）〕0.9gおよび６，10―ジメチルウンデカンー
２―オン0.4gを得た。 ６，10―ジメチルウンデカン―２―オン添加時
の反応系の温度（滴下温度）を68℃、30℃および
10℃にかえた以外は上記と同様の実験を繰り返し
た。得られた結果を表１にまとめて示す。
製造時の副生成物であることを考慮するとその大
量供給には制限があり、またジアセチレンの使用
に際しては安全性に対しても十分な配慮が要求さ
れる。(ii)の法は比較的簡便な方法ではあるが、銅
触媒を用いるための廃水処理、ピリジン回収効率
などの問題を含んでおり、工業的に採用するには
更に改良が必要である。(iii)の法は触媒コストが高
く、経済的方法ではない。このため、化合物
（）の製造に関しては、経済性に優れているの
みならず、安全性が高く、かつ大量生産に適した
簡便な操作性を有する方法の開発が望まれてい
た。 なお、前記Daubenらの方法においては、次式
に示すように２，６，10，15，19，23―ヘキサメ
チルテトラコサー２，６，18，22―テトラエン―
10，15―ジオール（−２）を経由しているもの
と考えられるが、該ジオールについて言及されて
いないばかりでなく、スクワレンの収率が20％と
非常に低い。 しかして本発明の目的は、、スクワランの合成
中間体として有用な化合物（）を簡便かつ経済
的に製造する方法を提供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明によれば、上記の目的は一般式 （式中Ｒは前記定義のとおりである。） で示されるテルペンケトン〔以下、これをテルペ
ンケトン（）と記す。〕をテトラメチレンジマ
グネシウムクロライド〔ClMg（CH2）4MgCl〕の
テトラヒドロフラン溶液中に40〜80℃の温度で添
加して反応させることを特徴とする化合物（）
の製造方法によつて達成される。 本発明方法に用いるテルペンケトン（）とし
ては６，10―ジメチルウンデカー５，９―ジエン
―２―オン（ゲラニルアセトン）、６，10―ジメ
チルウンデカン―２―オン（ヘキサヒドロプソイ
ドヨノン）、６，10―ジメチルウンデカー６，９
―ジエン―２―オン、６，10―ジメチルウンデカ
ー５，10―ジエン―２―オンなどが例示される。
これらのテルペンケトンはいずれも工業的に大量
かつ安価に製造しうるものである（たとえば特開
昭49−7268号公報参照）。これらのテルペンケト
ンはそれぞれを単独使用してもよく、また２種以
上を混合使用してもよい。 テトラメチレンジマグネシウムクロライドは、
たとえば、テトラヒドロフラン溶媒中で還流下に
２モル当量の金属マグネシウムと１，４―ジクロ
ルブタンを反応させることにより調製できる。こ
の際の調製温度が30〜40℃の場合には４―クロル
ブチル―１―マグネシウムクロライドが主たる生
成物となり、効率良くテトラメチレンジマグネシ
ウムクロライドを得るには60〜70℃にて反応させ
るのが好ましい。金属マグネシウムの使用量は
１，４―ジクロルブタンに対し２モル当量が必要
であるが、通常は２〜３モル当量の範囲で少し過
剰に用いるのが好ましい。３モル当量以上に大過
剰使用することは反応自体には何ら悪影響を及ぼ
さないが、調製後の回収・再使用を考慮すれば経
済的には好ましいと言えない。 テトラメチレンジマグネシウムクロライドとテ
ルペンケトン（）の反応はテトラヒドロフラン
溶媒中10〜70℃の温度範囲、特に好ましくは20〜
60℃の温度範囲にてテルペンケトン（）を連続
的または断続的に添加する方式により行うのが良
い。 本反応における副生成物等に関し、テルペンケ
トン（）がヘキサヒドロプソイドヨノンである
場合を例にとつて以下に説明する。 化合物（）はテトラメチレンジマグネシウム
クロライドの調製が不十分な場合に生成する不純
物であり、上記調製方法によれば通常は無視でき
る程の微量しか生成しない。化合物（）はケト
ン（−１）がアルドール縮合した生成物であ
り、ケトン（−１）を化合物（−１）または
（）の塩化マグネシウム塩と作用させることに
よつても生成することが確認された。このことは
ケトン（−１）中へテトラメチレンジマグネシ
ウムクロライドを添加する方式では化合物（）
の生成を増大させるため不利であることを示唆
し、参考例３に示される実験によつても裏付けら
れた。ケント（−１）とテトラメチレンジマグ
ネシウムクロライドとの反応温度が10℃より低い
場合にも化合物（）の生成は増加し、逆に反応
温度が70℃よりも高温になると化合物（）が更
に脱水した化合物（）の生成が増加する傾向が
ある。化合物（）の生成機構は必ずしも明らか
ではないが、テトラメチレンジマグネシウムクロ
ライドの片側のみがグリニヤール反応して生成す
るだけでなく、ケトン（−１）のアルドール縮
合に際してメチルプロトンの引抜きによつても生
成するものと推察される。 本発明の方法において、原料のテルペンケトン
（）はテトラメチレンジマグネシウムクロライ
ドに対し理論的には２モル当量必要であるが、通
常は1.5〜2.5モル当量、好ましくは1.8〜2.2モル
当量用いられる。反応時間は反応温度により大き
く左右されるが、通常５時間以内で十分である。
なお、化合物（）のタイプの副生物は塩基性条
件下で処理すると逆アルドール反応を起こして原
料ケトン（）に戻すことができる。 〔作用〕 本発明の方法に従つてテトラメチレンジマグネ
シウムクロライドのテトラヒドロフラン溶液中に
テルペンケトンを添加して反応させる場合には、
テトラメチレンジマグネシウムクロライドに対し
て過剰量のテルペンケトンの存在がさけられるこ
とがテルペンケトンに由来するアルドール縮合物
およびその脱水物の副生を減少させ、このために
目的とするテルペンジオールが好収率で得られる
ものと推定される。 〔実施例〕 以下、本発明を実施例により説明するが、本発
明は実施例によつて制限を受けるものではない。 実施例 １ 三つ口フラスコにマグネシウム2.9gとテトラヒ
ドロフラン50mlを入れ、これに窒素雰囲気下に
１，４―ジクロルブタン（6.4g）のテトラヒドロ
フラン（20ml）溶液を滴下した。滴下終了後、２
時間加熱還流し、テトラメチレンジマグネシウム
クロライドのテトラヒドロフラン溶液を調製し
た。ついでこの溶液に、ゲラニルアセトン
（19.4g）のテトラヒドロフラン（20ml）溶液を50
℃において約40分間を要して滴下した。反応温合
物を氷冷下、濃度５重量％の希酢酸水溶液中に注
ぎ、ヘキサンで抽出し、ヘキサン層から溶媒を留
去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイー（展開液：酢酸エチルとヘキサン
の10対90の混合液）に付することにより２，６，
10，15，19，23―ヘキサメチルテトラコサー２，
６，18，22―テトラエン―10，15―ジオール
17.57g（収率78.9％）、５，９，13―トリメチルテ
トラデカー８，12―ジエン―５―オール1.17g、
２，６，12，16，20―ペンタメチルヘンエイコサ
ー２，６，11，15，19―ペンタエン―10―オン
1.3gおよび６，10―ジメチルウンデカー５，９―
ジエン―２―オン1.0gを得た。 実施例 ２ マグネシウム4.8gおよび１，４―ジクロルブタ
ン6.4gを用いた以外は実施例１と同様にしてテト
ラメチレンジマグネシウムクロライドのテトラヒ
ドロフラン溶液を調製した。これに窒素雰囲気下
50℃において６，10―ジメチルウンデカンー２―
オン（19.8g）のテトラヒドロフラン（20ml）溶
液を滴下した。ついで実施例１と同様に後処理す
ることにより２，６，10，15，19，23―ヘキサメ
チルテトラコサン―10，15―ジオール〔化合物
（−１）〕19.3g（収率85.0％）、５，９，13―ト
リメチルテトラデカン―５―オール〔化合物
（）〕1.8g、２，６，12，16，20―ペンタメチル
ヘンエイコサ―11―エン―10―オン〔化合物
（）〕0.9gおよび６，10―ジメチルウンデカンー
２―オン0.4gを得た。 ６，10―ジメチルウンデカン―２―オン添加時
の反応系の温度（滴下温度）を68℃、30℃および
10℃にかえた以外は上記と同様の実験を繰り返し
た。得られた結果を表１にまとめて示す。
本発明方法により化粧品基剤などとして用いら
れるスクワランの合成中間体として有用なテルペ
ンジオール（）を、工業的に大量に入手可能な
原料であるテルペンケトン（）および１，４―
ジクロブタンを用いて、簡便な操作により、かつ
経済的に製造することができる。
れるスクワランの合成中間体として有用なテルペ
ンジオール（）を、工業的に大量に入手可能な
原料であるテルペンケトン（）および１，４―
ジクロブタンを用いて、簡便な操作により、かつ
経済的に製造することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中Ｒは【式】なる炭素 骨格を有する飽和または不飽和の炭化水素基を表
わす。） で示されるテルペンケトンをテトラメチレンジマ
グネシウムクロライドのテトラヒドロフラン溶液
中に10〜70℃の温度で添加して反応させることを
特徴とする一般式 （式中Ｒは上記定義のとおりである。） で示されるテルペンジオールの製造方法。 ２ テルペンケトンが６，10―ジメチルウンデカ
ー５，９―ジエン―２―オン、６，10―ジメチル
ウンデカン―２―オンまたは６，10―ジメチルウ
ンデカー６，９―ジエン―２―オンである特許請
求の範囲第１項記載の製造方法。 ３ 反応温度が20〜60℃である特許請求の範囲第
１項または第２項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12342484A JPS611631A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | テルペンジオ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12342484A JPS611631A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | テルペンジオ−ルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS611631A JPS611631A (ja) | 1986-01-07 |
| JPH0158169B2 true JPH0158169B2 (ja) | 1989-12-11 |
Family
ID=14860212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12342484A Granted JPS611631A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | テルペンジオ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS611631A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03200075A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-02 | Ngk Insulators Ltd | 導通状態試験装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101891579B (zh) * | 2010-06-21 | 2013-06-19 | 上虞新和成生物化工有限公司 | 一种角鲨烯的合成方法 |
| CN115611694B (zh) * | 2021-07-15 | 2025-12-02 | 新发药业有限公司 | 一种角鲨烯的制备方法 |
-
1984
- 1984-06-14 JP JP12342484A patent/JPS611631A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03200075A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-02 | Ngk Insulators Ltd | 導通状態試験装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS611631A (ja) | 1986-01-07 |
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