JPH0158189B2 - - Google Patents
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- JPH0158189B2 JPH0158189B2 JP56044854A JP4485481A JPH0158189B2 JP H0158189 B2 JPH0158189 B2 JP H0158189B2 JP 56044854 A JP56044854 A JP 56044854A JP 4485481 A JP4485481 A JP 4485481A JP H0158189 B2 JPH0158189 B2 JP H0158189B2
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- singlet
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- carboxylic acid
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は微生物の培養によつて得られるセフア
マイシンＣすなわち7β―（Ｄ―５―アミノ―５
―カルボキシバレルアミド―7α―メトキシ―３
―セフエム―４―カルボン酸の７位側鎖アミノ基
を保護し、３位をＳ―ヘテロ環に、又カルボキシ
ル基をハロゲン原子を有するか有しないフエナシ
ルエステルに誘導した化合物を原料として、７位
側鎖を目的とするアシル基に変換する方法に関す
るものである。
マイシンＣすなわち7β―（Ｄ―５―アミノ―５
―カルボキシバレルアミド―7α―メトキシ―３
―セフエム―４―カルボン酸の７位側鎖アミノ基
を保護し、３位をＳ―ヘテロ環に、又カルボキシ
ル基をハロゲン原子を有するか有しないフエナシ
ルエステルに誘導した化合物を原料として、７位
側鎖を目的とするアシル基に変換する方法に関す
るものである。
このような方法の従来法としてはゼオライトを
触媒に用いてアシル交換する方法（特開昭50―
105687号）、シリル化を行つた後アシル交換する
方法（特開昭50―85386号）、又このようなシリル
化又は触媒を使用しない方法として特開昭55―
20723号等がある。このような方法でアシル交換
を行い、より有効な抗菌剤又はその中間体を製造
する際、工業的に問題になるのは、その収率であ
る。本発明者等はセフアマイシン誘導体に関して
７位側鎖のアミノ基の保護基の種類、３位の置換
基の種類、４位カルボキシル基の保護基の種類に
より収率が大きく左右される事を基にして、この
組合せについて種々検討した結果、７位側鎖のア
ミノ基の保護基が電子吸引性の基であり、３位が
ヘテロ環Ｓ―メチル基であり、７位側鎖のカルボ
ン酸および４位カルボン酸の保護基としてはハロ
ゲン原子を有するか有しないフエナシルエステル
である場合に極めて高収率でアシル交換反応が進
行する事を見出し本発明を完成した。すなわち本
発明は 一般式 式中、R1はベンゼンスルホニルアミノ基を示
し、R2は水素原子またはハロゲン原子を示し、
R3は１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル
基を示す。）で表わされる化合物をハロゲン化炭
化水素系溶媒中 式 R4−Ｘ （） （式中、R4はクロロアセチル基またはシアノ
メチルチオアセチル基を示し、Ｘはハロゲン原子
を示す。）で表わされる化合物と反応させる事を
特徴とする一般式 （式中、R2，R3およびR4は前述したものと同
意義を有する。）で表わされるセフアマイシン誘
導体の製法に関する。
触媒に用いてアシル交換する方法（特開昭50―
105687号）、シリル化を行つた後アシル交換する
方法（特開昭50―85386号）、又このようなシリル
化又は触媒を使用しない方法として特開昭55―
20723号等がある。このような方法でアシル交換
を行い、より有効な抗菌剤又はその中間体を製造
する際、工業的に問題になるのは、その収率であ
る。本発明者等はセフアマイシン誘導体に関して
７位側鎖のアミノ基の保護基の種類、３位の置換
基の種類、４位カルボキシル基の保護基の種類に
より収率が大きく左右される事を基にして、この
組合せについて種々検討した結果、７位側鎖のア
ミノ基の保護基が電子吸引性の基であり、３位が
ヘテロ環Ｓ―メチル基であり、７位側鎖のカルボ
ン酸および４位カルボン酸の保護基としてはハロ
ゲン原子を有するか有しないフエナシルエステル
である場合に極めて高収率でアシル交換反応が進
行する事を見出し本発明を完成した。すなわち本
発明は 一般式 式中、R1はベンゼンスルホニルアミノ基を示
し、R2は水素原子またはハロゲン原子を示し、
R3は１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル
基を示す。）で表わされる化合物をハロゲン化炭
化水素系溶媒中 式 R4−Ｘ （） （式中、R4はクロロアセチル基またはシアノ
メチルチオアセチル基を示し、Ｘはハロゲン原子
を示す。）で表わされる化合物と反応させる事を
特徴とする一般式 （式中、R2，R3およびR4は前述したものと同
意義を有する。）で表わされるセフアマイシン誘
導体の製法に関する。
本発明の原料として使用される一般式（）を
有する化合物は、セフアマイシンＣの７位側鎖の
アミノ基を保護し、３位のカルバモイルオキシメ
チル基をヘテロ環チオメチル基に変換し、７位側
鎖のカルボキシル基及び４位のカルボキシル基を
ハロゲン原子を有するか、有しないフエナシルエ
ステル化する事により得られる。本発明の方法を
用いれば微生物の培養によつて得られるセフアマ
イシンＣの３位及び７位を連続して目的とする基
に変換する事ができ、より抗菌力の強い化合物を
製造し得て、工業的に極めて有用な方法を提供す
るものである。
有する化合物は、セフアマイシンＣの７位側鎖の
アミノ基を保護し、３位のカルバモイルオキシメ
チル基をヘテロ環チオメチル基に変換し、７位側
鎖のカルボキシル基及び４位のカルボキシル基を
ハロゲン原子を有するか、有しないフエナシルエ
ステル化する事により得られる。本発明の方法を
用いれば微生物の培養によつて得られるセフアマ
イシンＣの３位及び７位を連続して目的とする基
に変換する事ができ、より抗菌力の強い化合物を
製造し得て、工業的に極めて有用な方法を提供す
るものである。
本発明の方法に於て７位アシル基交換反応は前
記一般式（）を有する化合物と前記一般式
（）を有する化合物をハロゲン化炭化水素系溶
媒中接触させる事により容易に実施することが出
来る。このようなハロゲン化炭化水素系溶媒とし
てはジクロロメタン，クロロホルム，トリクレン
があげられるが、１，２―ジクロロエタンが最も
好ましい。前記一般式（）に於ける×で示され
るハロゲン原子としてはクロルまたはブロムがあ
げられる。カルボン酸ハライド（）の使用量は
化合物（）に対して１〜10モル比であるが、５
〜10モル比が好ましい。反応温度は通常50〜100
℃である。反応の進行状況は薄層クロマトグラフ
イーによつて追跡する事ができる。反応に要する
時間は数十分乃至10時間である。
記一般式（）を有する化合物と前記一般式
（）を有する化合物をハロゲン化炭化水素系溶
媒中接触させる事により容易に実施することが出
来る。このようなハロゲン化炭化水素系溶媒とし
てはジクロロメタン，クロロホルム，トリクレン
があげられるが、１，２―ジクロロエタンが最も
好ましい。前記一般式（）に於ける×で示され
るハロゲン原子としてはクロルまたはブロムがあ
げられる。カルボン酸ハライド（）の使用量は
化合物（）に対して１〜10モル比であるが、５
〜10モル比が好ましい。反応温度は通常50〜100
℃である。反応の進行状況は薄層クロマトグラフ
イーによつて追跡する事ができる。反応に要する
時間は数十分乃至10時間である。
なお、本アシル交換反応は脱酸剤の存在下にお
いて好適に実施することができるが、ここで使用
される脱酸剤としてはプロピレンオキサイド，ブ
チレンオキサイド，スチレンオキサイド，フエニ
ルグリシジルエーテル等があげられる。
いて好適に実施することができるが、ここで使用
される脱酸剤としてはプロピレンオキサイド，ブ
チレンオキサイド，スチレンオキサイド，フエニ
ルグリシジルエーテル等があげられる。
本反応によつて得られる前記一般式（）を有
する目的化合物は常法により採取する事が出来
る。反応混合物から溶媒を留去し残留物にイソプ
ロピルエーテルを加え、粉末として採取するか、
又はクロマトグラフイーにより精製採取する事が
出来る。
する目的化合物は常法により採取する事が出来
る。反応混合物から溶媒を留去し残留物にイソプ
ロピルエーテルを加え、粉末として採取するか、
又はクロマトグラフイーにより精製採取する事が
出来る。
本発明の方法によつて得られる前記一般式
（）で表わされる化合物は不活性溶媒中、亜鉛
と鉱酸若しくはスルホン酸と反応させることによ
つて一般式 （式中、R3およびR4は前述したものと同意義
を有する。）で表わされるセフアマイシン誘導体
およびその薬理上許容される塩を製造することが
でき、化合物（）は優れた抗菌作用を有する医
薬として有用な化合物である。
（）で表わされる化合物は不活性溶媒中、亜鉛
と鉱酸若しくはスルホン酸と反応させることによ
つて一般式 （式中、R3およびR4は前述したものと同意義
を有する。）で表わされるセフアマイシン誘導体
およびその薬理上許容される塩を製造することが
でき、化合物（）は優れた抗菌作用を有する医
薬として有用な化合物である。
次に実施例および参考例をあげて本発明を更に
具体的に説明する。
具体的に説明する。
実施例 １
(a) 7β―（Ｄ―５―ベンゼンスルホニルアミノ
―５―カルボキシバレルアミド）―７―α―メ
トキシ―３―カルバモイルオキシメチル―３―
セフエム―４―カルボン酸70ｇ（純度85％）に
１―メチル―５―メルカプトテトラゾール175
ｇ、水12ml及びアセトン３mlを加え、内温65〜
75℃で20分間加熱撹拌する。この際時々減圧に
して、水、アセトンを少量ずつ留去する。つい
で水200ml及び酢酸エチル500mlを加え、塩酸で
水層のPHを1.5とする、食塩50ｇを加えよくか
きまぜ、酢酸エチル層を分離し、水層を100ml
の酢酸エチルで２回抽出し、先の酢酸エチル層
と合し減圧濃縮乾固する。これにイソプロピル
エーテル1.6を加え、よくかきまぜるとアメ
状物が粉末化するので、これを集しイソプロ
ピルエーテルで洗浄する。これを500mlのエタ
ノールに溶解し、ジシクロヘキシルアミン43.2
ｇを加え、氷水浴中１時間放置すると白色結晶
が析出する。これを集しエタノール洗浄、乾
燥すると、76.4ｇの7β―（Ｄ―５―ベンゼンス
ルホニルアミノ―５―カルボキシバレルアミ
ド）―7α―メトキシ―３―（１―メチルテト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸・ジージシクロヘキシルア
ミン塩が得られた。この母液を更に濃縮乾固
し、少量のエタノールを加え数日（約６日）放
置すると更に結晶が析出するので同様に集乾
燥すると、8.2ｇの同結晶が得られた。合計収
量84.6ｇ、収率83.0％このようにして得られた
結晶１ｇをとり５mlのメタノールに溶解し、シ
ロツプ状になるまで減圧濃縮し、５mlのエタノ
ールを加え、放置すると純品が得られた。
―５―カルボキシバレルアミド）―７―α―メ
トキシ―３―カルバモイルオキシメチル―３―
セフエム―４―カルボン酸70ｇ（純度85％）に
１―メチル―５―メルカプトテトラゾール175
ｇ、水12ml及びアセトン３mlを加え、内温65〜
75℃で20分間加熱撹拌する。この際時々減圧に
して、水、アセトンを少量ずつ留去する。つい
で水200ml及び酢酸エチル500mlを加え、塩酸で
水層のPHを1.5とする、食塩50ｇを加えよくか
きまぜ、酢酸エチル層を分離し、水層を100ml
の酢酸エチルで２回抽出し、先の酢酸エチル層
と合し減圧濃縮乾固する。これにイソプロピル
エーテル1.6を加え、よくかきまぜるとアメ
状物が粉末化するので、これを集しイソプロ
ピルエーテルで洗浄する。これを500mlのエタ
ノールに溶解し、ジシクロヘキシルアミン43.2
ｇを加え、氷水浴中１時間放置すると白色結晶
が析出する。これを集しエタノール洗浄、乾
燥すると、76.4ｇの7β―（Ｄ―５―ベンゼンス
ルホニルアミノ―５―カルボキシバレルアミ
ド）―7α―メトキシ―３―（１―メチルテト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸・ジージシクロヘキシルア
ミン塩が得られた。この母液を更に濃縮乾固
し、少量のエタノールを加え数日（約６日）放
置すると更に結晶が析出するので同様に集乾
燥すると、8.2ｇの同結晶が得られた。合計収
量84.6ｇ、収率83.0％このようにして得られた
結晶１ｇをとり５mlのメタノールに溶解し、シ
ロツプ状になるまで減圧濃縮し、５mlのエタノ
ールを加え、放置すると純品が得られた。
融点 143〜145℃（分解）
元素分析 C23H27N7O9S3・2C12H23N
実験値Ｃ；55.94，Ｈ；7.45，Ｎ；12.39，
Ｓ；9.33
計算値Ｃ；56.21，Ｈ；7.33，Ｎ；12.56，
Ｓ；9.58
(b) 7β―（Ｄ―５―ベンゼンスルホニルアミノ
―５―カルボキシバレルアミド）―7α―メト
キシ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸・ジ―ジシクロヘキシルアミン塩
〔純度96％（HPLCによる）〕10ｇを、ジメチル
ホルムアミド50ml中にフエナシルブロマイド
4.4ｇをとかした溶液中に０〜５℃で少量ずつ
加える、（10分）その後室温で30分撹拌し、酢
酸エチル200mlを加え不溶物（ジ―シクロヘキ
シルアミン・臭化水素酸塩）を去し、少量の
酢酸エチルで洗浄し、酢酸エチル層を50mlの水
で２回洗浄する。酢酸エチル層を減圧で濃縮す
ると、泡状固形物として相当するジフエナシル
エステル9.2ｇが得られた。
―５―カルボキシバレルアミド）―7α―メト
キシ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸・ジ―ジシクロヘキシルアミン塩
〔純度96％（HPLCによる）〕10ｇを、ジメチル
ホルムアミド50ml中にフエナシルブロマイド
4.4ｇをとかした溶液中に０〜５℃で少量ずつ
加える、（10分）その後室温で30分撹拌し、酢
酸エチル200mlを加え不溶物（ジ―シクロヘキ
シルアミン・臭化水素酸塩）を去し、少量の
酢酸エチルで洗浄し、酢酸エチル層を50mlの水
で２回洗浄する。酢酸エチル層を減圧で濃縮す
ると、泡状固形物として相当するジフエナシル
エステル9.2ｇが得られた。
nmr δ ppm（CDCl3）
1.50〜2.95（多重線 7H）
3.43 （一重線 3H）
3.58 （ブロード一重線 2H）
3.78 （一重線 3H）
4.38 （一重線 2H）
5.00 （一重線 1H）
5.07 （一重線 2H）
5.45 （ブロード一重線 2H）
6.0 〜6.15（二重線 1H）
7.22〜8.02（多重線 15H）
これに１，２―ジクロロエタン200ml及びモノ
クロロアセチルクロライド10.0mlを加え撹拌しな
がら４時間還流する。ついで溶媒を減圧留去し、
残留物にイソプロピルエーテル100mlを加えよく
かきまぜ得られた粉末状物質を集すると、
11.04ｇの7β―モノクロロアセタミド―7α―メト
キシ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール―
５―イルチオメチル）―３―セフエム―４―カル
ボン酸フエナシルエステルの粗製物が得られた。
純度44.7％、純度換算収率93％これをシリカゲル
カラムクロマトに付しベンゼン：酢酸エチル３：
１で展開、分離精製すると純品が得られた。
クロロアセチルクロライド10.0mlを加え撹拌しな
がら４時間還流する。ついで溶媒を減圧留去し、
残留物にイソプロピルエーテル100mlを加えよく
かきまぜ得られた粉末状物質を集すると、
11.04ｇの7β―モノクロロアセタミド―7α―メト
キシ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール―
５―イルチオメチル）―３―セフエム―４―カル
ボン酸フエナシルエステルの粗製物が得られた。
純度44.7％、純度換算収率93％これをシリカゲル
カラムクロマトに付しベンゼン：酢酸エチル３：
１で展開、分離精製すると純品が得られた。
nmr δppm（CDCl3）
3.57 （3H）一重線
3.68 （2H） 〃
3.92 （3H） 〃
4.13 （2H） 〃
4.50 （2H） 〃 （ブロート）
5.08 （1H） 〃
5.55 （2H） 〃
7.25〜8.07（5H）多重線
実施例 ２
実施例１と同様に7β―（Ｄ―５―ベンゼンス
ルホニルアミノ―５―カルボキシバレルアミド）
―7α―メトキシ―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール）―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸ジ―ジシクロヘキシルアミン
塩10ｇよりそのジフエナシルエステルを合成し、
モノクロロアセチルクロライドの代りにシアノメ
チルチオアセチルクロライド8.5ｇを使用し６時
間撹拌しつゝ還流せしめ、同様に操作すると、
12.1ｇの7β―シアノメチルチオアセタミド―7α―
メトキシ―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イルチオメチル）―３―セフエム―４―
カルボン酸フエナシルエステルの粗製物が得られ
た。純度38.0％純度換算収率78.0％これをシリカ
ゲルカラムクロマトに附し、クロロホルム：酢酸
エチル２：１で展開分離精製すると純品が得られ
た。
ルホニルアミノ―５―カルボキシバレルアミド）
―7α―メトキシ―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール）―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸ジ―ジシクロヘキシルアミン
塩10ｇよりそのジフエナシルエステルを合成し、
モノクロロアセチルクロライドの代りにシアノメ
チルチオアセチルクロライド8.5ｇを使用し６時
間撹拌しつゝ還流せしめ、同様に操作すると、
12.1ｇの7β―シアノメチルチオアセタミド―7α―
メトキシ―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イルチオメチル）―３―セフエム―４―
カルボン酸フエナシルエステルの粗製物が得られ
た。純度38.0％純度換算収率78.0％これをシリカ
ゲルカラムクロマトに附し、クロロホルム：酢酸
エチル２：１で展開分離精製すると純品が得られ
た。
nmr δppm（重アセトン）
3.53 （3H） 一重線
3.60 （2H） 一重線
3.73 （4H） 多重線
3.96 （3H） 一重線
4.50 （2H） ブロード 一重線
5.15 （1H） 一重線
5.63 （2H） 一重線
7.46〜8.2（5H） 多重線
8.58 （1H） ブロード 一重線
参考例 １
7β―シアノメチルチオアセタミド―7α―メト
キシ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール―
５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カル
ボン酸フエナシルエステル（HPLCによる純度
88.7％）1.0ｇにアセトン20mlおよび水２mlを加
えて溶解せしめ、−30℃に冷却する。これにモノ
エチル硫酸5.0mlおよび亜鉛末1.0ｇを加え−30゜〜
−25℃で2.5時間撹拌する。ついで水50mlおよび
酢酸エチル50mlを加え、よく振盪し酢酸エチル層
を分液する。水層を酢酸エチル30mlで２回抽出
し、先の酢酸エチル層と合し、飽和食塩水で洗浄
後、溶媒を減圧で留去すると、0.847ｇの7β―シ
アノメチルチオアセタミド―7α―メトキシ―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸が得
られた。（HPLCによる純度73.7％）純度換算収
率88.0％ nmrスペクトルδppm（重アセトン） 3.50 （一重線、3H） 3.60 （一重線、2H） 3.5 〜3.7 （四重線、2H） 3.70 （一重線、2H） 3.90 （一重線、3H） 4.3 〜4.6 （四重線、2H） 5.10 （一重線、1H） 参考例 ２ 7β―クロルアセタミド―7α―メトキシ―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸フエナ
シルエステル（HPLCによる純度90.1％）1.0ｇを
アセトン20mlおよび水１mlを加えてとかし、参考
例１の如くモノエチル硫酸および亜鉛末を用いて
反応させ同様に処理すると、0.857ｇの7β―クロ
ルアセタミド―7α―メトキシ―３―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
―３―セフエム―４―カルボン酸が得られた。
（HPLCによる純度70.3％）純度換算収率85％ nmrスペクトル δppm（重アセトン） 3.5 （一重線、3H） 3.67 （一重線、2H） 3.98 （一重線、3H） 4.42 （ブロード一重線、2H） 5.08 （一重線、1H）
キシ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール―
５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カル
ボン酸フエナシルエステル（HPLCによる純度
88.7％）1.0ｇにアセトン20mlおよび水２mlを加
えて溶解せしめ、−30℃に冷却する。これにモノ
エチル硫酸5.0mlおよび亜鉛末1.0ｇを加え−30゜〜
−25℃で2.5時間撹拌する。ついで水50mlおよび
酢酸エチル50mlを加え、よく振盪し酢酸エチル層
を分液する。水層を酢酸エチル30mlで２回抽出
し、先の酢酸エチル層と合し、飽和食塩水で洗浄
後、溶媒を減圧で留去すると、0.847ｇの7β―シ
アノメチルチオアセタミド―7α―メトキシ―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸が得
られた。（HPLCによる純度73.7％）純度換算収
率88.0％ nmrスペクトルδppm（重アセトン） 3.50 （一重線、3H） 3.60 （一重線、2H） 3.5 〜3.7 （四重線、2H） 3.70 （一重線、2H） 3.90 （一重線、3H） 4.3 〜4.6 （四重線、2H） 5.10 （一重線、1H） 参考例 ２ 7β―クロルアセタミド―7α―メトキシ―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸フエナ
シルエステル（HPLCによる純度90.1％）1.0ｇを
アセトン20mlおよび水１mlを加えてとかし、参考
例１の如くモノエチル硫酸および亜鉛末を用いて
反応させ同様に処理すると、0.857ｇの7β―クロ
ルアセタミド―7α―メトキシ―３―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
―３―セフエム―４―カルボン酸が得られた。
（HPLCによる純度70.3％）純度換算収率85％ nmrスペクトル δppm（重アセトン） 3.5 （一重線、3H） 3.67 （一重線、2H） 3.98 （一重線、3H） 4.42 （ブロード一重線、2H） 5.08 （一重線、1H）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R1はベンゼンスルホニルアミノ基を
示し、R2は水素原子またはハロゲン原子を示し、
R3は１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル
基を示す。）で表わされる化合物をハロゲン化炭
化水素溶媒中 一般式 R4X （式中、R4はクロロアセチル基またはシアノ
メチルチオアセチル基を示し、Ｘはハロゲン原子
を示す。）で表わされる化合物とを反応させるこ
とを特徴とする 一般式 （式中、R2，R3およびR4は前述したものと同
意義を有する。）で表わされるセフアマイシン誘
導体の製法。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4485481A JPS57159789A (en) | 1981-03-27 | 1981-03-27 | Preparation of cephamycin derivative |
| CH108282A CH646977A5 (en) | 1981-02-23 | 1982-02-22 | Process for the preparation of derivatives of beta-lactam antibiotics |
| SE8201087A SE452620B (sv) | 1981-02-23 | 1982-02-22 | Forfarande for framstellning av derivat av beta-laktamantibiotika |
| DK075582A DK162603C (da) | 1981-02-23 | 1982-02-22 | Fremgangsmaade til fremstilling af beta-lactam-antibiotica |
| FI820582A FI72521C (fi) | 1981-02-23 | 1982-02-23 | Foerfarande foer framstaellning av cefalosporinderivat. |
| CA000396796A CA1194470A (en) | 1981-02-23 | 1982-02-23 | PROCESS FOR PREPARING DERIVATIVES OF .beta.-LACTAM ANTI- BIOTICS |
| NL8200708A NL8200708A (nl) | 1981-02-23 | 1982-02-23 | Werkwijze voor de bereiding van beta-lactamantibioticaverbindingen. |
| ES509837A ES8305362A1 (es) | 1981-02-23 | 1982-02-23 | Un procedimiento para preparar derivados de antibioticos-lactamicos. |
| IT67194/82A IT1157951B (it) | 1981-02-23 | 1982-02-23 | Procedimento per la preparazione di antibiotici betalattamici |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4485481A JPS57159789A (en) | 1981-03-27 | 1981-03-27 | Preparation of cephamycin derivative |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57159789A JPS57159789A (en) | 1982-10-01 |
| JPH0158189B2 true JPH0158189B2 (ja) | 1989-12-11 |
Family
ID=12703064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4485481A Granted JPS57159789A (en) | 1981-02-23 | 1981-03-27 | Preparation of cephamycin derivative |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57159789A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5520723A (en) * | 1978-08-02 | 1980-02-14 | Nippon Kayaku Co Ltd | Preparation of cephalosporin compound |
-
1981
- 1981-03-27 JP JP4485481A patent/JPS57159789A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57159789A (en) | 1982-10-01 |
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