JPH0158201B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0158201B2 JPH0158201B2 JP54011756A JP1175679A JPH0158201B2 JP H0158201 B2 JPH0158201 B2 JP H0158201B2 JP 54011756 A JP54011756 A JP 54011756A JP 1175679 A JP1175679 A JP 1175679A JP H0158201 B2 JPH0158201 B2 JP H0158201B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- resin
- sandblasting
- protective film
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はサンドブラストにより基材表面に図柄
を形成する際に用いるサンドブラストレジストを
形成するに好適な感光性樹脂組成物に関するもの
である。従来、サンドブラストにより基材表面に
図柄を作成する方法として、紙、ゴム等を基材に
貼りつけカツターナイフ等で切り抜き、これをサ
ンドブラストレジスト（保護膜）としてサンドブ
ラストする方法が知られている。
を形成する際に用いるサンドブラストレジストを
形成するに好適な感光性樹脂組成物に関するもの
である。従来、サンドブラストにより基材表面に
図柄を作成する方法として、紙、ゴム等を基材に
貼りつけカツターナイフ等で切り抜き、これをサ
ンドブラストレジスト（保護膜）としてサンドブ
ラストする方法が知られている。
しかしこれらの方法は保護膜を人手により作成
するのが通常であり、模様が複雑で細い場合は保
護膜の形成に多大の時間と労力を必要とする。
するのが通常であり、模様が複雑で細い場合は保
護膜の形成に多大の時間と労力を必要とする。
近年これらの問題点を解決するために感光性樹
脂を用いて写真的手法により保護膜を基材上に形
成し、サンドブラストする方法（特公昭46−
35681）、あるいはスクリーン印刷により保護膜を
形成しサンドブラストする方法が提案されてい
る。前者の方法では基材上に直接樹脂を塗布し図
柄を有するフイルムを通して露光し、未感光部分
の樹脂を溶解除去しなければならず、手間がかか
り大きな基材に模様をつける場合作業が大変面倒
である。また後者の方法では用いるインキが溶剤
乾燥型であつたり、二液混合の反応硬化するもの
であつたりしてしばしばスクリーンの目づまりを
起し、十分な厚みの完全な図柄が出来にくい等の
作業性に難点を有していた。また保護膜の剥離も
困難であつた。
脂を用いて写真的手法により保護膜を基材上に形
成し、サンドブラストする方法（特公昭46−
35681）、あるいはスクリーン印刷により保護膜を
形成しサンドブラストする方法が提案されてい
る。前者の方法では基材上に直接樹脂を塗布し図
柄を有するフイルムを通して露光し、未感光部分
の樹脂を溶解除去しなければならず、手間がかか
り大きな基材に模様をつける場合作業が大変面倒
である。また後者の方法では用いるインキが溶剤
乾燥型であつたり、二液混合の反応硬化するもの
であつたりしてしばしばスクリーンの目づまりを
起し、十分な厚みの完全な図柄が出来にくい等の
作業性に難点を有していた。また保護膜の剥離も
困難であつた。
本発明者らは先に感光性樹脂をインク化しスク
リーン印刷により基材上に図柄を形成し、サンド
ブラストの保護膜とする新しい方法を提案した。
この方法により保護膜の形成は非常に簡便にな
り、スクリーンの目づまりもなく大量生産が可能
になつたが、サンドブラスト後保護膜を剥離した
い時に剥がしにくいあるいは剥離に時間がかかる
といつた問題点を有していた。
リーン印刷により基材上に図柄を形成し、サンド
ブラストの保護膜とする新しい方法を提案した。
この方法により保護膜の形成は非常に簡便にな
り、スクリーンの目づまりもなく大量生産が可能
になつたが、サンドブラスト後保護膜を剥離した
い時に剥がしにくいあるいは剥離に時間がかかる
といつた問題点を有していた。
本発明者らはこの点を改良するために多くの樹
脂組成を鋭意検討した結果サンドブラストする時
には十分に基材に密着し、しかもサンドブラスト
後は容易に基材から剥離することができる保護膜
を形成する感光性樹脂組成物を見出した。すなわ
ち、エチレングリコールまたはその縮合体と無水
マレイン酸およびフタル酸から得られた不飽和ポ
リエステルと２―ヒドロキシエチルメタクリレー
トおよびポリビニルピロリドンまたはポリエチレ
ングリコールジメタクリレートと光重合開始剤を
必須成分とするサンドブラストレジスト用感光性
樹脂組成物を提供するものである。
脂組成を鋭意検討した結果サンドブラストする時
には十分に基材に密着し、しかもサンドブラスト
後は容易に基材から剥離することができる保護膜
を形成する感光性樹脂組成物を見出した。すなわ
ち、エチレングリコールまたはその縮合体と無水
マレイン酸およびフタル酸から得られた不飽和ポ
リエステルと２―ヒドロキシエチルメタクリレー
トおよびポリビニルピロリドンまたはポリエチレ
ングリコールジメタクリレートと光重合開始剤を
必須成分とするサンドブラストレジスト用感光性
樹脂組成物を提供するものである。
本発明でいう基材とは硝子、金属、ポリメチル
メタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニー
ル、フエノール樹脂、尿素―ホルマリン樹脂、メ
ラミン樹脂等の合成樹脂、石、皮革、木材で成る
成形物をいう。またこれら基材の表面にアルキツ
ド樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などより成
る塗料層や銀、銅、アルミニウムなどによりなる
金属薄膜層等の塗膜を有しているものを含むもの
とする。
メタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニー
ル、フエノール樹脂、尿素―ホルマリン樹脂、メ
ラミン樹脂等の合成樹脂、石、皮革、木材で成る
成形物をいう。またこれら基材の表面にアルキツ
ド樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などより成
る塗料層や銀、銅、アルミニウムなどによりなる
金属薄膜層等の塗膜を有しているものを含むもの
とする。
本発明の感光性樹脂組成物はスクリーン印刷可
能な液状品が望ましい。溶剤等の稀釈剤を混合し
て液状にしてもよい。更に本発明の感光性樹脂組
成物はスクリーン印刷後、活性光線の照射により
硬化し基材に密着してサンドブラストに耐える保
護膜を形成する。この活性光線の光源としては紫
外線螢光灯、水銀灯、カーボンアーク灯、太陽光
等が用いられる。照射は空気中でもできるが、表
面のタツクをなくすため、またできるだけ短時間
で硬化させるために不活性ガス、例えば窒素、ア
ルゴンあるいは炭酸ガスの雰囲気中で照射するの
が望ましい。
能な液状品が望ましい。溶剤等の稀釈剤を混合し
て液状にしてもよい。更に本発明の感光性樹脂組
成物はスクリーン印刷後、活性光線の照射により
硬化し基材に密着してサンドブラストに耐える保
護膜を形成する。この活性光線の光源としては紫
外線螢光灯、水銀灯、カーボンアーク灯、太陽光
等が用いられる。照射は空気中でもできるが、表
面のタツクをなくすため、またできるだけ短時間
で硬化させるために不活性ガス、例えば窒素、ア
ルゴンあるいは炭酸ガスの雰囲気中で照射するの
が望ましい。
不飽和ポリエステルとしてはエチレングリコー
ルまたはその縮合体と無水マレイン酸およびフタ
ル酸から得られた不飽和ポリエステルを使用す
る。さらに、活性光線の照射、ブラスト後、水に
浸漬して基材からの剥離を容易にするため２―ヒ
ドロキシエチルメタクリレートとポリビニルピロ
リドンまたはポリエチレングリコールジメタクリ
レートを組合わせて不飽和ポリエステルに添加し
て使用する。この化合物の添加量は、ブラスト
後、水に浸漬して剥離を容易にするために３重量
％以上、好ましくは５重量％以上添加する。一
方、基材との密着性およびサンドブラストに耐え
るための強度を持たせるために90重量％以下であ
ることが望ましい。光重合開始剤としては、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル等のベンゾインエーテル類、アントラキノ
ン、２―メチルアントラキノン等ののアントラキ
ノン類、ベンゾフエノン、ベンジル、ジフエニル
ジスルフイド、ジアセチル等従来公知のものが用
いられる。
ルまたはその縮合体と無水マレイン酸およびフタ
ル酸から得られた不飽和ポリエステルを使用す
る。さらに、活性光線の照射、ブラスト後、水に
浸漬して基材からの剥離を容易にするため２―ヒ
ドロキシエチルメタクリレートとポリビニルピロ
リドンまたはポリエチレングリコールジメタクリ
レートを組合わせて不飽和ポリエステルに添加し
て使用する。この化合物の添加量は、ブラスト
後、水に浸漬して剥離を容易にするために３重量
％以上、好ましくは５重量％以上添加する。一
方、基材との密着性およびサンドブラストに耐え
るための強度を持たせるために90重量％以下であ
ることが望ましい。光重合開始剤としては、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル等のベンゾインエーテル類、アントラキノ
ン、２―メチルアントラキノン等ののアントラキ
ノン類、ベンゾフエノン、ベンジル、ジフエニル
ジスルフイド、ジアセチル等従来公知のものが用
いられる。
光重合開始剤の添加量は使用したエチレン状不
飽和結合を分子内に一個以上有する化合物の100
重量部に対して0.5部ないし10部を加える。また、
組成物の貯蔵性を増すためにハイドロキノン、ハ
イドロキノンモノメチルエーテル、２，６―ジ―
ｔ―ブチル―ｐ―クレゾール等を使用したエチレ
ン状不飽和結合を分子内に一個以上有する化合物
の100重量部に対して0.05部ないし1.0部加える。
飽和結合を分子内に一個以上有する化合物の100
重量部に対して0.5部ないし10部を加える。また、
組成物の貯蔵性を増すためにハイドロキノン、ハ
イドロキノンモノメチルエーテル、２，６―ジ―
ｔ―ブチル―ｐ―クレゾール等を使用したエチレ
ン状不飽和結合を分子内に一個以上有する化合物
の100重量部に対して0.05部ないし1.0部加える。
更にスクリーン印刷性を出すために種々の粘度
調節剤例えば、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム
等の固体微粉末、各種ポリマー、増粘剤、溶媒等
を添加することもできる。
調節剤例えば、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム
等の固体微粉末、各種ポリマー、増粘剤、溶媒等
を添加することもできる。
また、染料や顔料等の着色剤を添加し保護膜を
見易くすることもできる。
見易くすることもできる。
本発明の組成物は基材への密着性もよく、柔軟
性を有しているのでサンドブラストレジストとし
て特に優れている。
性を有しているのでサンドブラストレジストとし
て特に優れている。
本発明の組成物を用いて基材に模様を形成する
方法は種々の方法が可能である。例えば直接基材
に印刷し活性光線を照射し硬化させる方法、ある
いは離型紙や離型性フイルム上に印刷し、硬化さ
せたものを基材に貼りつける方法等がとられる。
方法は種々の方法が可能である。例えば直接基材
に印刷し活性光線を照射し硬化させる方法、ある
いは離型紙や離型性フイルム上に印刷し、硬化さ
せたものを基材に貼りつける方法等がとられる。
貼りつける方法に本発明の樹脂組成物を用いる
ためには、活性光線に照射し硬化した樹脂に柔軟
性が必要となる。そのためには前記の組成から適
当な割合を選択すればよいが、前記不飽和ポリエ
ステルを30重量％以上含んだ組成物が好ましい。
一般にサンドブラスト処理を行つた後は基材上に
形成した硬化した樹脂は基材から剥がされる。剥
離する方法は水に浸漬することにより基材より自
然に剥離してくる。水温を高くすると剥離は更に
し易くなる。水に浸漬させる時間は樹脂の種類や
基材の材質の違いによつて異なるが普通10分以
上、好ましくは20分以上浸漬しておけば完全に剥
離する。もちろん１分前後の浸漬時間であつても
物理的に力を借りれば簡単に剥がすことができ
る。
ためには、活性光線に照射し硬化した樹脂に柔軟
性が必要となる。そのためには前記の組成から適
当な割合を選択すればよいが、前記不飽和ポリエ
ステルを30重量％以上含んだ組成物が好ましい。
一般にサンドブラスト処理を行つた後は基材上に
形成した硬化した樹脂は基材から剥がされる。剥
離する方法は水に浸漬することにより基材より自
然に剥離してくる。水温を高くすると剥離は更に
し易くなる。水に浸漬させる時間は樹脂の種類や
基材の材質の違いによつて異なるが普通10分以
上、好ましくは20分以上浸漬しておけば完全に剥
離する。もちろん１分前後の浸漬時間であつても
物理的に力を借りれば簡単に剥がすことができ
る。
本発明の組成物を用いることによつて基材に模
様づけ、文字入れ等の作業が非常に簡便になつ
た。特にスクリーン印刷によつて保護膜が形成で
き且つ剥離が水に浸漬するだけで容易にできるよ
うになつた点で優れている。
様づけ、文字入れ等の作業が非常に簡便になつ
た。特にスクリーン印刷によつて保護膜が形成で
き且つ剥離が水に浸漬するだけで容易にできるよ
うになつた点で優れている。
従来基材から保護膜を剥離する際時間がかかつ
たり無理に剥がして基材表面をキズつけたりして
いた点が改良された。
たり無理に剥がして基材表面をキズつけたりして
いた点が改良された。
また本発明の組成物は感光性であつて活性光に
曝さない限り硬化しない。従つてスクリーン印刷
版の目づまりを起さずにいつまでも美しい印刷が
可能である。
曝さない限り硬化しない。従つてスクリーン印刷
版の目づまりを起さずにいつまでも美しい印刷が
可能である。
本発明の組成物を利用して各種基材、例えばガ
ラス、金属、樹脂等の成形品に模様を容易につけ
ることができる。
ラス、金属、樹脂等の成形品に模様を容易につけ
ることができる。
次に実施例で本発明を具体的に説明するが、こ
れによつて本発明を限定するものではない。
れによつて本発明を限定するものではない。
実施例 １
トリエチレングリコールと無水マレイン酸、フ
タル酸とから合成した不飽和ポリエステル50重量
部、２―ヒドロキシエチルメタアクリレート20重
量部、ポリエチレングリコールジメタアクリレー
ト（NK―23G、新中村化学工業製）20重量部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート10重量
部、シリカ粉末（日本アエロジル社製）７重量
部、ベンゾインイソブチルエーテル１重量部、
２，６―ジ―ｔ―ブチルクレゾール（スミライザ
―BHT、住友化学工業製）0.1重量部、さらに着
色剤としてスミプラストバイオレツトRR0.5重量
部を加え三本ロールでよく混練して感光性樹脂組
成物を調製した。この組成物を用いて別途作成し
た唐草模様の抜き模様を有する厚手ステンシル
（膜厚250ミクロン）を通してガラス板上にスクリ
ーン印刷し、すぐに紫外線螢光灯（20W10本）で
光照射した。約10cmの距離で１分間照射した。ガ
ラス板上に硬化した樹脂の唐草模様ができ上つ
た。次いでこのものに200メツシユのアランダム
を２Kg／cm2の圧縮空気と共に噴射した。
タル酸とから合成した不飽和ポリエステル50重量
部、２―ヒドロキシエチルメタアクリレート20重
量部、ポリエチレングリコールジメタアクリレー
ト（NK―23G、新中村化学工業製）20重量部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート10重量
部、シリカ粉末（日本アエロジル社製）７重量
部、ベンゾインイソブチルエーテル１重量部、
２，６―ジ―ｔ―ブチルクレゾール（スミライザ
―BHT、住友化学工業製）0.1重量部、さらに着
色剤としてスミプラストバイオレツトRR0.5重量
部を加え三本ロールでよく混練して感光性樹脂組
成物を調製した。この組成物を用いて別途作成し
た唐草模様の抜き模様を有する厚手ステンシル
（膜厚250ミクロン）を通してガラス板上にスクリ
ーン印刷し、すぐに紫外線螢光灯（20W10本）で
光照射した。約10cmの距離で１分間照射した。ガ
ラス板上に硬化した樹脂の唐草模様ができ上つ
た。次いでこのものに200メツシユのアランダム
を２Kg／cm2の圧縮空気と共に噴射した。
ガラス板の全面をサンドブラストした後ガラス
板を水に浸漬した。しばらくすると硬化した樹脂
は水に膨潤して膨らみ、ガラス板から剥離しはじ
めた。このようにサンドで汚れたガラス板を洗浄
すると同時に保護膜の剥離ができる利点を有して
いる。ガラス板にはスリガラスに透明の唐草模様
が浮き上つた。
板を水に浸漬した。しばらくすると硬化した樹脂
は水に膨潤して膨らみ、ガラス板から剥離しはじ
めた。このようにサンドで汚れたガラス板を洗浄
すると同時に保護膜の剥離ができる利点を有して
いる。ガラス板にはスリガラスに透明の唐草模様
が浮き上つた。
実施例 ２
実施例１と同じ不飽和ポリエステル70重量部、
２―ヒドロキシエチルメタアクリレート30重量
部、ポリビニールピロリドン20重量部、シリカ粉
末（アエロジル＃300、日本アエロジル社製）８
重量部、ベンゾインイソブチルエーテル１重量
部、２，６―ジ―ｔ―ブチルクレゾール0.1重量
部、さらに着色剤としてスミプラストレツド
AS0.1重量部をよく混合し三本ロールミルで均一
に混練した。この組成物を円筒状のコツプにスク
リーン印刷した（厚みは200μ）。印刷後速やかに
紫外線螢光灯を照射しインクを硬化させた。次い
でこのものに200メツシユの金剛砂を1.5Kg／cm2の
圧縮空気と共に吹きつけた。光硬化したところは
プラストに耐え、保護膜として十分であつた。プ
ラスト後コツプを水に浸漬すると硬化した樹脂は
剥離した。
２―ヒドロキシエチルメタアクリレート30重量
部、ポリビニールピロリドン20重量部、シリカ粉
末（アエロジル＃300、日本アエロジル社製）８
重量部、ベンゾインイソブチルエーテル１重量
部、２，６―ジ―ｔ―ブチルクレゾール0.1重量
部、さらに着色剤としてスミプラストレツド
AS0.1重量部をよく混合し三本ロールミルで均一
に混練した。この組成物を円筒状のコツプにスク
リーン印刷した（厚みは200μ）。印刷後速やかに
紫外線螢光灯を照射しインクを硬化させた。次い
でこのものに200メツシユの金剛砂を1.5Kg／cm2の
圧縮空気と共に吹きつけた。光硬化したところは
プラストに耐え、保護膜として十分であつた。プ
ラスト後コツプを水に浸漬すると硬化した樹脂は
剥離した。
実施例 ３
実施例１の組成物をアルミニウム板の上にスク
リーン印刷し、紫外線螢光灯の下に２分間置いた
後80メツシユのガラスビーズを３Kg／cm2の圧縮空
気と共に吹きつけプラストした。次いで水に浸漬
すると光硬化した樹脂は剥離しアルミ板に模様が
浮上つた。
リーン印刷し、紫外線螢光灯の下に２分間置いた
後80メツシユのガラスビーズを３Kg／cm2の圧縮空
気と共に吹きつけプラストした。次いで水に浸漬
すると光硬化した樹脂は剥離しアルミ板に模様が
浮上つた。
Claims (1)
- １ エチレングリコールまたはその縮合体と無水
マレイン酸およびフタル酸から得られた不飽和ポ
リエステルと２―ヒドロキシエチルメタクリレー
トおよびポリビニルピロリドンまたはポリエチレ
ングリコールジメタクリレートと光重合開始剤を
必須成分とするサンドブラストレジスト用感光性
樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1175679A JPS55103554A (en) | 1979-02-02 | 1979-02-02 | Photosensitive resin composition for sand blast resist |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1175679A JPS55103554A (en) | 1979-02-02 | 1979-02-02 | Photosensitive resin composition for sand blast resist |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55103554A JPS55103554A (en) | 1980-08-07 |
| JPH0158201B2 true JPH0158201B2 (ja) | 1989-12-11 |
Family
ID=11786824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1175679A Granted JPS55103554A (en) | 1979-02-02 | 1979-02-02 | Photosensitive resin composition for sand blast resist |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55103554A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02115845A (ja) * | 1988-10-26 | 1990-04-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用光重合性組成物及びこれを用いた彫刻方法 |
| TW475098B (en) | 1995-10-27 | 2002-02-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive resin composition and photosensitive resin laminated film containing the same |
| TW322680B (ja) * | 1996-02-29 | 1997-12-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | |
| JP2000066391A (ja) | 1998-08-17 | 2000-03-03 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
| JP2002148802A (ja) | 2000-11-07 | 2002-05-22 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS522831B2 (ja) * | 1973-08-31 | 1977-01-24 | ||
| JPS5226095A (en) * | 1975-08-21 | 1977-02-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | Patterning method |
| JPS5917414B2 (ja) * | 1975-10-07 | 1984-04-21 | 村上スクリ−ン （株） | スクリ−ン版用感光性組成物及び感光膜 |
-
1979
- 1979-02-02 JP JP1175679A patent/JPS55103554A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55103554A (en) | 1980-08-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62500404A (ja) | 硬化、放射線感受性重合可能樹脂の後処理 | |
| JPH0336213B2 (ja) | ||
| JPH029480A (ja) | 光硬化被膜を形成する方法 | |
| JPS608100A (ja) | 吹き付け食刻方法 | |
| JPH0158201B2 (ja) | ||
| JP3641116B2 (ja) | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム | |
| JP3806737B2 (ja) | 水圧転写方法及び水圧転写品 | |
| KR101142631B1 (ko) | 샌드블라스트 레지스트용 감광성 수지 조성물 및 드라이필름 포토레지스트 | |
| JPS6049437B2 (ja) | 蝕刻による図柄作成方法 | |
| JP2562954B2 (ja) | 彫食刻マスク用感光性積層フイルム | |
| JPS5860745A (ja) | スクリ−ン版用感光性フイルム | |
| JPH0420179B2 (ja) | ||
| JPS6042250B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPH0811365B2 (ja) | 彫食刻マスク用感光性積層フイルム | |
| JPH03250013A (ja) | ポリエーテルアクリルアミド誘導体及びそれを含んでなる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 | |
| CN100510906C (zh) | 凹版印刷版、感光性组合物和印刷原版积层体 | |
| JPS6020862A (ja) | サンドブラストによる段彫方法 | |
| JPH02115845A (ja) | サンドブラスト用光重合性組成物及びこれを用いた彫刻方法 | |
| JPH04153274A (ja) | 紫外線硬化性樹脂組成物、カラーフィルター保護膜用紫外線硬化樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP2678761B2 (ja) | 画像形成方法 | |
| JPH04215659A (ja) | サンドブラスト用感光性組成物 | |
| JPH03122359A (ja) | コンクリート構造物面への転写印刷法 | |
| JPH07219221A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
| JPH048182B2 (ja) | ||
| JPS59102228A (ja) | 感光性樹脂版材 |