JPH0160352U - - Google Patents

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JPH0160352U
JPH0160352U JP15475887U JP15475887U JPH0160352U JP H0160352 U JPH0160352 U JP H0160352U JP 15475887 U JP15475887 U JP 15475887U JP 15475887 U JP15475887 U JP 15475887U JP H0160352 U JPH0160352 U JP H0160352U
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の表面解析装置の概略全体構成
図。第２図は磁界型Ｑレンズを使つた場合のＱレ
ンズ近傍中央縦断面図。第３図は第２図の−
断面図。第４図は電界型Ｑレンズを使つた場合の
Ｑレンズ近傍中央縦断面図。第５図は第４図の
−断面図。第６図は従来例に係る表面解析装置
の概略全体構成図。第７図は従来例の装置におい
てＱレンズと加減速管をスリツトによつて仕切つ
た場合の縦断面図。第８図は従来例の装置におい
てＱレンズと加減速管をオリフイスによつて仕切
つた場合の縦断面図。 １……イオン源、２……マグネツト、３……加
減速管、４……オリフイス、５……Ｑレンズ、６
……オリフイス、７……超高真空チヤンバ、８…
…アクセプタンススリツト、９……位置検出器、
１０……試料、１１……ホルダ、１２……マニピ
ユレータ、１５……Ｑレンズ、１６……オリフイ
ス、２１〜２４……真空排気装置、３１，３２…
…スリツト、３４……鉄芯、３５……磁極、３６
……コイル、３８……絶縁壁、３９……電極。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 真空中に於て陽子ビームを発生するイオン
    源１と、真空中に於て陽子ビーム軌道を曲げるマ
    グネツト２と、真空中に於てマグネツト２を通つ
    た陽子を加速して試料に当て試料で散乱された陽
    子のうちΘ１８０゜の散乱角で散乱された陽子
    を減速する加減速管３と、真空中で散乱された陽
    子ビームを絞るＱレンズ５と、超高真空中に於て
    試料１０を内部に保持する超高真空チヤンバ７と
    、試料１０の直前に設けられ入射陽子ビームと散
    乱角Θが１８０゜から一定範囲にある散乱ビーム
    とを通すアクセプタンススリツト８と、加減速管
    ３の空間と超高真空チヤンバ７の間に設けられ両
    空間の真空度の差を維持するための円筒状のオリ
    フイス６と、散乱され減速された陽子ビームの運
    動エネルギー分布を測定するアナライザーとより
    なる表面解析装置に於て、Ｑレンズ５とオリフイ
    ス６とが同一位置に設けられている事を特徴とす
    る表面解析装置。 (2) Ｑレンズが磁界型のＱレンズである事を特
    徴とする実用新案登録請求の範囲第(1)項記載の
    表面解析装置。 (3) Ｑレンズが電界型のＱレンズである事を特
    徴とする実用新案登録請求の範囲第(1)項記載の
    表面解析装置。
JP15475887U 1987-10-07 1987-10-07 表面解析装置 Expired - Lifetime JPH0622915Y2 (ja)

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JP15475887U JPH0622915Y2 (ja) 1987-10-07 1987-10-07 表面解析装置

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JPH0160352U true JPH0160352U (ja) 1989-04-17
JPH0622915Y2 JPH0622915Y2 (ja) 1994-06-15

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JPH0622915Y2 (ja) 1994-06-15

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