JPH0160827B2 - - Google Patents

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JPH0160827B2
JPH0160827B2 JP4555882A JP4555882A JPH0160827B2 JP H0160827 B2 JPH0160827 B2 JP H0160827B2 JP 4555882 A JP4555882 A JP 4555882A JP 4555882 A JP4555882 A JP 4555882A JP H0160827 B2 JPH0160827 B2 JP H0160827B2
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JP
Japan
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photosensitive layer
photosensitive
positive
insulating layer
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JP4555882A
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JPS58162961A (ja
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Takao Nakayama
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Priority to GB08307993A priority patent/GB2121202B/en
Priority to DE19833310805 priority patent/DE3310805A1/de
Priority to US06/478,570 priority patent/US4518668A/en
Publication of JPS58162961A publication Critical patent/JPS58162961A/ja
Publication of JPH0160827B2 publication Critical patent/JPH0160827B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • G03F7/2018Masking pattern obtained by selective application of an ink or a toner, e.g. ink jet printing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G13/00Electrographic processes using a charge pattern
    • G03G13/26Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
    • G03G13/28Planographic printing plates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は改良された平版印刷版の製造方法に関
する。特に本発明は電子写真法を利用して平版印
刷版を製造する方法に関する。 従来、光導電性層を含み、電子写真法を利用す
るタイプの印刷版用感光材料は知られており、例
えば、光導電性層を最上層とし、フオトレジスト
層、金属層および支持体からなる印刷版用感光材
料が提案されている。 この感光材料を用いて印刷版を製造するには先
づ光導電性層を均一に帯電させ、フオトレジスト
層の感光しない光線を用いて像露光して光導電性
層に静電潜像を形成し、この潜像をトナー現像
し、トナー像を定着しまたは定着しないで、先の
露光条件とは異なる条件下で露光してフオトレジ
スト層の露光部を硬化させ、次いでトナー像と光
導電性層とを除去し、未硬化のフオトレジストを
溶剤で除去した後、金属板層をエツチングし、金
属板上に残存しているフオトレジストを除去する
といる複雑な工程を必要とするものであつた。そ
して良質の印刷版の製造には熟練を要するばかり
でなく、光導電性層に形成される静電潜像の現像
が乾式で行われるので解像性にも制限があり、ま
たフオトレジスト層の除去や金属板層のエツチン
グ操作のために最終的に得られる印刷画像の鮮明
度にはなお不満足な点があつた。 このような従来技術の欠点を除くために、先に
親水性表面を有する導電性支持体、ポジ型感光層
および光導電性絶縁層を有する感光材料を、 (1) 該感光材料の光導電性層上に静電写真的に潜
像を形成する段階、 (2) ポジ型感光層が感光性を有する波長の光に対
して不透明な現像剤粒子を含む液体現像剤で該
潜像を現像する段階、 (3) 該ポジ型感光層を上記段階2で得た現像像を
介して露光する段階、および (4) 該ポジ型感光層の現像像を有しない部分を選
択的に除去する段階 で処理することから、該ポジ型感光層と該光導電
性絶縁層とは同一の層としてかまたはこの順序で
別個に支持体上に設けられており、該光導電性絶
縁層は実質的に正負両極性に帯電可能であつて、
前記段階4におけるポジ型感光層の選択的除去を
阻害しない性質を有することを特徴とする平版印
刷版の製造方法が同一出願人によつて提案され
た。(特開昭57−90648号公報)。 この方法により前記従来法における欠点を除く
ことができ、工程の簡易化と解像力の優れた画像
が得られる点では一応の目的と達したが、この方
法によつて得られた印刷版を用いて印刷を行う
と、やや印刷よごれが生ずる欠点があつた。 本発明者はこの印刷よごれの原因について検討
の結果、光導電性絶縁層を帯電し、像露光して静
電潜像を作る場合に、露光された部分の電荷が完
全には消去されず部分的に残つており、現像時に
この部分にトナーが付着し、上記段階3で現像像
(トナー像)を介して露光する時に、非画像部に
カブリとなつて付着しているトナーの為にポジ型
感光層に露光されなかつた部分が生じ、段階4で
感光層を除く場合に非画像部においても露光され
なかつた部分が支持体上に残り、これが印刷時に
印刷よごれを生ずる原因となつていることを見出
した。 本発明者は先に、この原因が支持体としてアル
ミニウム又はアルミニウム合金よりなる支持体と
用いる場合、支持体上に形成されている酸化アル
ミニウムの層の存在に一部起因していることを知
り、この酸化皮膜の量を0.2〜2.8g/m2の範囲に
することにより所望の耐刷性を保持しつつ、上記
の印刷よごれを防止できることを見出した。 (特開昭58−150953号)。 更にまた、前記の方法において、感光層と光導
電性絶縁層を二層構成とする場合、感光層の存在
も現像カブレと、これに基づく印刷よごれを起す
原因となつていることを知り、感光層に導電化剤
を加え、ある程度の導電性を持たせることによ
り、印刷よごれを防止できることを見出した(特
開昭58−162960号)。 本発明者は更に検討を重ねた結果、前記方法の
段階2でトナー現像する際に、対向電極と感光材
料との間に、光導電性絶縁層の潜像の電荷を打ち
消す方向にバイアス電圧を印加しつつ現像を行う
ことにより非潜像部の残留電荷を除き、現像カブ
レを起こさず、従つて印刷よごれを生じない平版
印刷版を得ることができることを見出した。 更に本発明は前記の方法でポジ型感光層に代え
てネガ型(ネガーポジ型)感光層を用いた場合に
ついても同様な検討を行い、上記と同様に対向電
極と感光材料との間にバイアス電圧を印加しつつ
トナー現像を行うことにより印刷よごれを生じな
い平版印刷版を得ることができた。 更にまた、支持体としてアルミニウム又はアル
ミニウム合金よりなる支持体を用いる場合や、感
光層と光導電層とを二層構成として用いる場合に
先に本発明者が見出した前記の発明(特開昭58−
150953及び特開昭58−162960)を共用する場合に
は更にすぐれた効果が得られた。 従つて、本発明の目的は優れた解像力を有し、
印刷よごれを生じない平版印刷版を製造する方法
を提供することにある。 すなわち、本発明は親水性表面を有する導電性
支持体上に感光層と光導電性絶縁層とを一層又は
感光層を下層とする二層として有する感光材料を
電子写真的に処理して光導電性絶縁層上に静電潜
像を形成し、対向電極の存在下に該感光層に感光
性を有する波長の光に不透明な現像剤粒子で該静
電潜像を現像し、得られた現像像を介して感光層
を露光し、次いで感光層の露光部又は非露光部を
その部分又はその上の光導電性絶縁層と共に除去
することからなる平版印刷版の製造方法におい
て、該静電潜像を現像する場合に、対向電極と感
光材料間に非潜像部の残留電荷を見かけ上ゼロに
なるようにバイアス電圧を印加しつつ現像を行う
ことを特徴とする平版印刷版の製造方法である。 以下、本発明をポジ型感光層を用いる場合につ
いて添付図面を参照しつつ説明する。 第1図は本発明による平版印刷版の製造工程の
一態様を順次図示したものであり、第1図a工程
においては接地された導電性支持体3の上にポジ
型感光層2を介して設けられた光導電性絶縁層1
の表面に帯電器4により帯電させる。帯電器は静
電写真技術において普通に使用されているコロト
ロン型のものが用いられる。次にランプ5により
像露光bして光導電性絶縁層1上の非画像部の電
荷を除去する。この場合、原稿6としてポジ原稿
を使用すれば正電荷を有するポジ潜像が得られ
る。次いでトナー現像を行うのであるが、前記し
たように、支持体上の酸化皮膜や感光層2の存在
により像露光時に非画像部の電荷が完全には除去
されないで残つていることがあり、これにより現
像カブリを起こし、印刷よごれの原因となるの
で、本発明により、次の現像工程cで例えば液体
現像剤7中で静電潜像を現像する場合に対向電極
8と支持体3の間に潜像の電荷を打消す方向で、
非画像部(非潜像部)の残留電荷が見かけ上ゼロ
になる程度のバイアス電圧を印加しつつ現像を行
なう。(静電潜像が正電荷よりなつている場合に
は対向電極に正のバイアス電圧をかける)。バイ
アス電圧の値は、非潜像部の残留電荷が見かて上
ゼロになるが、静電潜像の電荷はトナー現像に差
支えない程度残していることが必要で、一般に20
ボルト〜250ボルト程度である。すなわち、例え
ば潜像が+300ボルトの電荷よりなり、非潜像部
の残留電位が+30ボルト程度だとすると、対向電
極に+30ボルト程度のバイアス電圧を印加すれば
よい。この場合は潜像の電荷は+270ボルトにな
るが、トナー現像は十分可能である。この結果、
工程dに示すようにトナー像10が形成される。
現像時間は、感光体の帯電電位、トナーのゼータ
電位、対向電極(現像電極)、現像方法によつて
変化するが、通常数秒〜1分間の範囲内で次の段
階で光パターンマスクとして使用するのに充分な
濃度が得られる。対向電極はできるだけ近接させ
た方が良好な結果が得られるが、一般に電極と感
光材料の距離は0.5〜10mmで、現像時間は数秒〜
1分間が好ましい。現像が終つた感光板は現像液
をスキージで除去した後、例えば紫外線ランプ1
1により全面露光e工程にかけられポジ型感光層
の非画像部分を可溶化する。e工程の処理を経た
感光板は溶解(f―1)または(f―2)工程で
アルカリ溶液で溶解処理されて感光層の非画像部
が除去され支持体上にポジ像の形成された平版印
刷版が得られる。この溶解工程において支持体上
にポジ像として残留する部分は非溶解性ポジ型感
光層、光導電性絶縁層およびトナー層からなり
〔第1図(f―1)〕、トナーによりポジ像を鮮明
に読み取ることができるばかりでなく、多色刷り
平版を製造するときにはそれぞれ色分解して得た
像を対応する色(シアン、マゼンタ、イエロー、
黒)のトナーで現像すれば着色した多色刷り平版
が得られるという優れた効果がある。 本発明で用いる感光材料は第2図に示すように
導電性支持体3上にポジ型感光層2とを別々に設
けたものでもよいし、第3図に示すように支持体
3上に感光層と光導電層を一層1′にして設けた
ものでもよい。 本発明の他の態様として光導電性絶縁層1とポ
ジ型感光層2との間に中間層12を設けた感光材
料を使用することができる(第4図参照)。この
中間層は光導電性絶縁層の表面に負荷された電荷
と逆極性の電荷が導電性支持体のポジ型感光層側
に保持されるのを促進するために導電性である
が、この中間層を設けることによつて光導電性絶
縁層がポジ型感光層に浸透、混合するのを防止す
ることができる。この中間層はポジ型感光層に対
して不溶性である適当な導電性を有する水溶性樹
脂であり、溶解(f―2)工程により溶解除去さ
れるが同時にトナー像を有する光導電性絶縁層を
脱離されるので支持体上でポジ型感光層の刷面を
有する平版用印刷版が得られる。 本発明による平版印刷版用感光材料において光
導電性絶縁層とポジ型感光層とが同一の層として
形成されている場合にこの層は光導電性材料粉
末、絶縁性結着剤樹脂およびポジ型感光剤溶液を
混合して均一な分散液を作り、これを導電性支持
体の砂目立てした面に塗布し、乾燥して形成する
ことができる。 一般に光導電性絶縁層の厚さは帯電性、光透過
性、現像時間、解像度に影響を及ぼすが、通常は
0.5〜5μ、好ましくは1〜2μの範囲内で最良の結
果が得られる。 中間層の厚さは溶解工程で使用する溶剤の浸透
性、および解像力によつてきまり、通常0.1〜5μ、
好ましくは0.2〜0.5μの範囲内である。 本発明による光導電性絶縁層に使用される光導
電性材料としては従来一般に電子写真用感光材料
として知られている多くのものが挙げられるが、
絶縁性結着剤樹脂中に分散または溶解した形で使
用することが好ましく、かつ下層にあるポジ型感
光層の吸収波長光を吸収しないものを採用するか
または光導電性絶縁層の厚さをできるだけ薄くし
て透過光量を大きくすることが好ましい。光導電
性絶縁層は正負何れにも帯電させて使用すること
ができるが、正コロナ帯電に適する光導電性材料
としてはSe,Se―Te,PbO等の無機材料、およ
びアントラセン、ペリレン、テトラセン、カルバ
ゾール、テトラベンジル―p―フエニレンジアミ
ン、アシルヒドラゾン誘導体、オキサジアゾール
誘導体、ピラゾリン誘導体、イミダゾロン誘導
体、イミダゾチオン誘導体、ベンズイミダゾール
誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチア
ゾール誘導体等の低分子物質、インジゴ、メタル
フリーフタロシアニン、金属フタロシアニン、ス
クエアリウム、ナメチルペリルイミド、などの有
機顔料、ポリ―N―ビニルカルバゾール、ポリア
セナフチレン、ポリビニルアントラセン、ポリビ
ニルピレン、ポリビニルテトラセン、ポリビニル
ペリレン等の有機高分子物質が用いられる。負コ
ロナ帯電に適する光導電性材料としてはZnO,
CdS,TiO2等の無機材料、トリニトロフルオレ
ノン、テトラニトロフルオレノン、ジニトロアン
トラセン、テトラシアノピレン等の低分子物質、
クロロジアンブルー等の有機顔料、ポリ―N―ビ
ニルカルバゾールと2,4,7―トリニトロフル
オレノンなどの錯体が用いられる。そして両性帯
電に適する光導電性材料としては前記有機物質と
結着剤樹脂との組合せを使用することができる
が、特に実用に供する高感度を示す材料としては
メタルフリーフタロシアニン、金属フタロシアニ
ン、オキサジアゾール誘導体、ビラゾリン誘導体
が挙げられる。又、さらに、電荷発生剤と電荷輸
送剤とを含む感光材料、アルカリ可溶性樹脂とカ
ルバゾール等の光導電物質との共重合体等も使用
することができる。 光導電性絶縁層は、(f―1),(f―2)工程
においてポジ型感光層の選択的除去を阻害しない
ため、すなわちその非画像部がポジ型感光層の非
画像部と共に溶解除去されるために、アルカリ可
溶性樹脂を含有していることが好ましい。このよ
うなアルカリ可溶性樹脂としては高分子有機光導
電性物質の結着剤としてあるいは低分子有機光導
電性物質の溶媒として役立つフイルム形成性のあ
る絶縁性樹脂が好ましく、このような樹脂として
は例えばフエノール―ホルムアルデヒド樹脂、メ
タクレゾールホルムアルデヒド樹脂、スチレン―
無水マレイン酸共重合体、ポリアクリル酸―ポリ
アクリル酸アミン共重合体、フマル酸エチレング
リコール共重合体、メチルビニルエーテル―無水
マレイン酸共重合体、アクリロイルグリシン―酢
酸ビニル共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリ
ビニルアルコール、ポリアミド、アルカリ可溶ア
ジド樹脂、ハロゲン化ポリスチレン等の合成樹脂
およびシエラツク、プロテイン、グルー等の天然
樹脂が挙げられる。 光導電性絶縁層に使用される光導電性材料粒子
の結着剤としては該層の帯電性を向上させるため
に絶縁性樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアク
リレート、ポリメチルメタクリレート、ポリビニ
ルフルオライド、ポリビニルクロライド、ポリビ
ニルアセテート、ポリスチレン、スチレン―ブタ
ジエン共重合体、ポリメタクリレート、シリコン
樹脂、塩化ゴム、エポキシ樹脂、純および変性ア
ルキツド樹脂、ポリエチルメタクリレート、ポリ
―n―ブチルメタクリレート、酢酸セルロース、
ケトン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リアクリロニトリル。ロジン誘導体、ポリ塩化ビ
ニリデン、ニトロセルロースが挙げられる。 光導電性絶縁層とポジ型感光層との間に場合に
より設けられる中間層としては適当な導電性を有
する水溶性樹脂、例えば、ポリビニルアルコー
ル、アルキルヒドロキシアルキルセルロース、ポ
リアクリル酸およびその誘導体、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチル
エーテル、無水マレイン酸とビニルあるいはアク
リル化合物との反応体などが用いられる。 ポジ型感光層は光可溶性物質例えばo―キノン
ジアジド化合物、解重合型感光性樹脂などの単独
でかまたは好ましくはアルカリ可溶性樹脂と混合
してなり、導電性支持体上に適当な溶剤の溶液と
して塗布することにより形成される。アルカリ可
溶性樹脂としては光導電性絶縁層に使用される前
記のものが挙げられる感光層中の約50〜85重量
%含有させられる。また感光層に適当な可撓性を
与えるために公知の可塑剤例えばDOPを約5重
量%以下の量で含有させることができる。このよ
うな組成のポジ型感光層は導電性支持体上に通常
約0.5〜7g/m2の量で塗布される。 本発明による平版印刷版用感光材料の光導電性
絶縁層における光導電性材料、絶縁性樹脂、アル
カリ可溶性樹脂の混合比は光導電性、帯電性、光
透過性、現像液の溶解および浸透速度によつて決
定される。光導電性材料5〜30重量%、絶縁性樹
脂0〜30重量%、アルカリ可溶性樹脂50〜85重量
%の比率において良効な特性が得られる。低抵抗
のアルカリ可溶性樹脂を用いるときは絶縁性樹脂
により帯電性を向上させ、高抵抗のアルカリ可溶
性樹脂を用いるときは絶縁性樹脂を混合しなくて
もよい。光導電性絶縁層とポジ型感光層とを同一
の層として形成するときには光導電性材料5〜30
重量%、絶縁性樹脂0〜30重量%、光可溶性物質
50〜85重量%を混合割合を用いることができる。 本発明でポジ型感光層と光導電層を別々の層と
して用いる場合は、感光層に導電化剤を加え感光
層の抵抗を109Ω/cm2以下に下げることにより、
像露光時に光導電性絶縁層の非潜像部における残
留電荷を減少させ、現像時に対向電極に印加する
バイアス電圧の値をより少なくすることができ
る。こゝで用いられ導電化剤は感光層の感光特
性、印刷特性等に悪影響を与えることなく、感光
層に適当な導電性を与えるものであつて次のよう
な材料が用いられる。 すなわち、コロイド状アルミナ、コロイド状シ
リカ;Al,Zn,Ag,Fe,Me,Co等の金属粉
末;上記金属の金属塩(塩化物、臭化物、硫酸
塩、硝酸塩、しゆう酸塩等);ZnO,SnO2
In2O3等の如き金属酸化物;アルキルリン酸アル
カノールアミン塩、ポリオキシエチレンアルキル
リン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル、アルキルメチルアンモニウム塩、N,N―ビ
ス(2―ヒドロキシエチル)アルキルアミン、ア
ルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン
酸塩、脂肪酸コリンエステル、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル及びそのリン酸エステル又は
その塩、脂肪酸モノグリセリド、脂肪酸ソルビタ
ン部分エステル等の界面活性剤;カチオン型高分
子電解質;アニオン型高分子電解質がある。 カチオ型高分子電解質としては、ポリエチレン
イミンハイドロクロライド、ポリ(N―メチル―
4―ビニルピリジウムクロライド)等の1級、2
級、3級アンヨニウム塩;ポリ(2―メタクリル
オキシエチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド)、ポリ(2―ハイドロキノン―3―メタクリ
ルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロラ
イド)、ポリ(N―アクリルアミドプロピル―3
―トリメチルアンモニウムクロライド)、ポリ
(N―メチルビニルピリジウムクロライド)、ポリ
(N―ビニル―2,3―ジメチルイミダゾリニウ
ムクロライド)、ポリ(ジアリルアンモニウムク
ロライド)、ポリ(N′N―ジメチル―3,5―メ
チレンピペリジニウムクロライド)、等の4級ア
ンモニウム塩;ポリ(2―アクリルオキシエチル
ジメチルスルホニウムクロライド)等のスルホニ
ウム塩;ポリ(グリシジルトリブチルホスホニウ
ムクロライド)等のホスホニウム塩が用いられ
る。またアニオン型高分子電解質としてはポリ
(メタ)アクリル酸、ポリアクリル酸エステル加
水分解物、ポリアクリル酸アミド加水分解物、ポ
リアクリル酸ニトリル加水分解物等のカルボキシ
レート;ポリスチレンスルホネート、ポリビニル
スルホネート等のスルホネート;ポリビニルホス
ホネート等のホスホネート等がある。 上記の導電化剤は単独でも2種以上の組み合せ
として用いてもよく、感光層を塗布する場合に塗
布液に添加すればよい。導電化剤の添加量は、得
られた感光層の抵抗が109Ω/cm2以下であればよ
く、この範囲で上記の如き感光層の諸特性を損な
わないように上記の導電化剤を適宜選択して用い
る。 本発明による平版印刷版用感光材料の最下層に
ある導電性支持体は例えば表面処理されたアルミ
ニウム板からなり、この表面処理した面上にポジ
型感光層を有している。好ましいアルミニウム板
としては、純アルミニウム板およびアルミニウム
合金板があり、更にアルミニウムがラミネートも
しくは蒸着されたプラスチツクフイルムも挙げら
れる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、珪
酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩
等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理
などの表面処理がなされていることが好ましい。
これらの表面処理、すなわち親水化処理は支持体
表面を親水性にするために行われるが同時に支持
体上に設けられるポジ型感光層との有害な反応を
防ぎかつ該感光層との密着性を向上させることが
できる。 本発明において支持体としてアルミニウム又は
アルミニウム合金からなる支持体を用いる場合、
支持体上の酸化皮膜の量が0.2〜2.8g/m2程度に
することが好ましく、このようにすることによつ
て、光導電層上の非潜像部に残る残留電荷を少く
することができ、先に述べた感光層を導電化する
場合と同様の効果を得ることができる。 本発明方法の液体現像c工程において使用する
電子写真用液体現像剤としては、すでによく知ら
れた現像剤としてのカーボンブラツクその他をガ
ソリン、ケンセン、4塩化炭素に分散したもの
で、電気的特性を均一にするためにアルキツド樹
脂、アマニ油などの制御剤を用いて改良したもの
が使用できる(特公昭35−13424参照)。負帯電お
よび正帯電トナーの両者が使用可能で、負帯電ト
ナーとしてはカーボンブラツク、クロム酸鉛、チ
ヤコールなどを脂肪族炭化水素、ガソリン、シク
ロヘキサン、ペンタン、CCl4などの中に分散し、
制御剤としてアマニ油、ポリエチレン、シエラツ
クなどを加えたものがあり、正帯電トナーとして
はカーボンブラツク、フタロシアニンブルー、チ
ヤコール、ベルミリオンレツドなどを脂肪族炭化
水素、ケロセン、シクロヘキサン、ペンタン、
CCl4などの中に分散し、制御剤としてアルキツ
ド樹脂、ベルサミド、テルギトールなどを加えた
ものがある。現像剤粒子の大きさは1μ以下のも
のを使用するがこれは高解像度画像を得るのに適
している。 本発明方法の溶解(f―1)または(f―2)
工程においてポジ型感光層の露光部分を溶解除去
するために使用するアクリル溶液はけい酸ナトリ
ウム、けい酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三りん酸ナトリ
ウム、第二りん酸ナトリウム、第三りん酸アンモ
ニウム、第二りん酸アンモニウム、メタけい酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水など
のような無機アルカリ性物質の水溶液であり、そ
れらの濃度は、約0.1〜約10重量%、好ましくは
約0.5〜約5重量%である。その場合に溶液のア
ルカリ強度はおよそPH12.5〜PH13.3となり、ポジ
型感光材料を現像するには適当なアクリル強度と
なる。この溶液には所望により界面活性剤や有機
溶剤を含ませてもよい。 なお、上記説明では光導電性絶縁層の潜像を現
像するのに液体現像を行う場合において述べた
が、本発明ではこれに限らずカスケード現像、磁
気ブラシ現像等他の現像方式も用いることができ
る。 以上、ポジ型感光層を用いる場合について本発
明を説明したが、本発明は感光層としてネガ型感
光層を用いる場合にも適用できる。 すなわち、例えば第1図で示される態様で例示
すると、アルミニウム支持体3上にジアゾ化合物
又はジアゾ樹脂を主体とするネガ型感光層2と光
導電性絶縁層1を設ける。この場合も帯電、像露
光、トナー現像、及び紫外線による全面露光の工
程はポジ型感光層と同様であるが、ネガ型感光層
の場合には、紫外線照射を行つた場合にトナーの
存在していない非画像部の感光層が硬化又は分解
を起こして不溶性となり、処理液で処理すると非
露光部、すなわち、トナーが存在している部分が
除かれ、露光部の感光層は支持体上に残る。かく
して親油性の感光層からなるポジ像を有する平版
印刷版を得ることができる。 感光層以外の材料、処理条件等に関してはポジ
型感光層を用いた感光材料について前記したもの
と全く同様である。ただし、ネガ型感光層を用い
る場合にはネガからポジ像を得るのに反転現像を
必要としない。 ネガ型感光層の組成物は、例えば米国特許第
2714066号明細書に記載されているようにジアゾ
化合物はジアゾ樹脂単独のものや、例えば米国特
許第2826501号や英国特許第1074392号明細書に記
載されているようなジアゾ化合物又はジアゾ樹脂
と担体との混合物がある。 ジアゾ化合物にはジアゾニウム塩およびp―ジ
アゾフエニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物
に代表されるジアゾ樹脂が含まれる。 特に好ましいジアゾ化合物としては、p―ジア
ゾジフエニルアミンの塩、例えばフエノール塩、
フルオロカプリン酸塩、及びトリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、4,4′―ビフエニルジスル
ホン酸、5―ニトロオルト―トルエンスルホン
酸、5―スルホサルチル酸、2,5―ジメチルベ
ンゼンスルホン酸、2―ニトロベンゼンスルホン
酸、3―クロロベンゼンスルホン酸、3―ブロモ
ベンゼンスルホン酸、2―クロロ―ニトロベンゼ
ンスルホン酸、2―フルオロカプリルナフタレン
スルホン酸、1―ナフトール―5―スルホン酸、
2―メトキシ―4―ヒドロオキシ―5―ベンゾイ
ル―ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホ
ン酸などのスルホン酸の塩などとホルムアルデヒ
ドとの縮合物のように一分子中に2個以上のジア
ゾ基を有する化合物である。この他望ましいジア
ゾ化合物としては上記の塩を含む2,5―ジメト
キシ―4―p―トリルメルカプトンベンゼンジア
ゾニウムとホルムアルデヒドの縮合物、2,5―
ジメトキシ―4―モルホリノベンゼンジアゾニウ
ムとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドと
の縮合物、および特開昭48―33907号公報に記載
されている化合物がある。 更に他の有用なジアゾ化合物、米国特許第
2649373号明細書に記載されているような化合物
を含む。 もつとも好適なるジアゾ化合物はp―ジアゾジ
フエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物の
2―メトキシ―4―ヒドロオキシ―5―ベンゾイ
ルベンゼンスルホン酸である。 ジアゾ化合物と共に用いられる担体としては、
例えば特公昭52−7364号公報や特開昭50−118802
号公報に記載されているような2―ヒドロキシエ
チルメタクリレート共重合体、特開昭54−9861号
公報に記載の芳香族性水酸基を有する単量体の共
重合体、特開昭50−30604号公報に記載のβ―ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレートの重合体及
びβ―ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを
50%以上含む共重合体、及び特公昭56−9697号公
報に記載の上記(メタ)アクリレートの重合体又
は共重合体の一部を親水性のエーテル基を有する
低分子量のポリウレタン樹脂で置き換えたもの等
が用いられる。 又、その他のネガ作用を有する光重合性組成物
について説明する。光重合性組成物はバインダ
ー、付加重合性不飽和モノマー、および光重合開
始剤からなる。光重合性組成物のバインダーは、
メチル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル
酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体
のハーフエステル及びハーフアマイド、ベンジル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重
合体、ベンジル(メタ)アクリレート/イタコン
酸共重合体、スチレン/イタコン酸共重合体、酢
酸ビニル/クロトン酸共重合体、酸性フタル酸セ
ルロース、(メタ)アクリル酸/スチレン/アル
キル(メタ)アクリレート共重合体、等が使用で
きる。 不飽和モノマーは、少なくとも1つの付加重合
性不飽和基を有する化合物が有用であるが、特に
望ましいものは、エチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールエタントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ール及びジペンタエリスリトールのトリー、テト
ラーもしくはヘキサ(メタ)アクリレート、エポ
キシジ(メタ)クリレート、特公昭52−7361号公
報に開示されているようなオリゴアクリレート、
特公昭48−41708号公報に開示されているような
アクリルウレタン樹脂またはアクリルウレタンの
オリゴマー等である。 光重合開始剤としては、米国特許第2367660号
明細書に開示されているビシナールポリケタルド
ニル化合物、米国特許第2367661号及び第2367670
号明細書に開示されているα―カルボニル化合
物、米国特許第2448828号明細書に開示されてい
るアシロインエーテル、米国特許第2722512号明
細書に開示されているα―炭化水素で置換された
芳香族アシロイン化合物、米国特許第3046127号
及び第2951758号明細書に開示されている多核キ
ノン化合物、米国特許第3549367号明細書に開示
されているトリアリルイミダゾールダイマー/p
―アミノフエニルケトンの組合せ、特公昭51−
48516号公報に開示されているベンゾチアゾール
系化合物、特開昭54−74887号公報に開示されて
いるベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチル
―s―トリアジン系化合物及び米国特許第
3751259号明細書に開示されているアクリジン及
びフエナジン化合物等がある。 以上の他に更に熱重合防止剤を加えておくこと
が好ましく、例えばハイドロキノン、p―メトキ
シフエノール、ジ―t―ブチル―p―クレゾー
ル、ピロガロール、t―ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、4,4′―チオビス(3―メチル―6―
t―ブチルフエノール)、2,2′―メチレンビス
(4―メチル―6―t―ブチルフエノール)、2―
メルカプトベンゾイミダゾール等が有用であり、
また場合によつては感光層の着色を目的して染料
もしくは顔料や焼出剤としてPH指示薬等を添加す
ることもできる。 感光層を紫外線で露光後、光導電層にトナーが
存在していた未露部を現像液で選択的に溶出除去
する。現像液の組成は、用いられるジアゾ化合物
や担体の種類によつて異なるが、一般にラウリル
アルコールサルフエートのナトリウム塩(モノゲ
ンY―100、第一工業製薬K.K.製,商品名)、ア
ルキルラウリル硫酸ナトリウム、硫酸ナトリウム
オクチル、硫酸ラウリルのアンモニウム塩、スル
ホン酸ナトリウムキシレン、N,N―ジヒドロキ
シエチレングリシンのモノナトリウム塩等の湿潤
剤又は無機アルカリ剤や有機アミン化合物等のア
ルカリを含む水溶液が用いられる。この場合、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、ペンシル
アルコール等の如きアルコール類、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のカルボン酸エステル;メチルイソ
ブチルケトン等の如きケトン類、キシレンの如き
アルキル置換芳香族炭化水素などのような水混和
性有機溶剤を少量加えることが望ましい。 本発明は上記の如きネガ型感光層の場合にもポ
ジ型感光層についてのべたと同様に、前記した如
き導電化剤を含有させることによつて、光導電性
絶縁層の現像カブレと、これによる印刷よごれの
発生を防止することができる。 以下、本発明を実施例によつて説明する。 実施例 1 厚さ0.24mmの砂目立てされたアルミニウム板を
硫酸浴中で陽極酸化し、約2.7g/m2の酸化皮膜
をつくりよく洗浄した後乾燥しその上に次の処方
で調整した感光液をホイラーにより塗布し乾燥
時塗布量2.3g/m2の感光層を得た。 ※ 感光液処方 ナフトキノン―(1,2)―ジアジド―(2)―5
―スルホン酸とピロガロールアセトン 樹脂とのエステル化物 0.85重量部 クレゾールノボラツク樹脂 0.05 〃 メチルテトラヒドロ無水フタル酸 0.20 〃 p―t―ブチルフエノール樹脂 2.10 〃 スルホン酸クロリド 0.06 〃 メチルセルソルブアセテート 20 〃 メチルエチルケトン 10 〃 この上に、さらに光半導体層を次の感光液※か
※ら超音波分散機により5分間分散処理してか
ら、ワイヤーバーにより塗布し、70℃で1分間乾
燥した。ノ**ラツク型フエノール樹脂イソプロ
ピルアルコール中33wt% 12重量部 ―(エチルアクリレート62―メチルメタアクリレ
ート25―メチルアクリル酸13―)エチルアルコー
ル中25wt% 4 〃 フタロシアニン顔料(スミカプリトンGN―
O;住友化学) 1 〃 トルエン 25 〃 光半導体層の固形分塗布重量は2.6g/m2であ
る。この感光板に、コロナ帯電電圧+6000Vに設
定したコロナ帯電器により正コロナ帯電を行な
い、次にタングステン電球による60ルクスの照射
光をポジ透過原稿を通して2秒間露光した。そし
て負極性トナーを有する液体現像液(リコー製
MRP―610)を満たしたバツト中に、ステンレス
製の対向電極と感光層が向かい合う様にセツト
し、図に示されているように、対向電極側を正
に、感光板のアルミニウム側を負に電圧を印加し
ながら20秒間現像を行なつた。 次にフジフイルム社製A3プリンター(PS版用
露光機)で75秒間全面露光し、フジフイルム社製
PS版用現像液DP―3を水で1/7に希釈した液中
で1分間現像を行なつたところ、平版印刷版が得
られた。この実験を通してトナー現像中に感光体
表面の表面電荷を打ち消す方向に電圧を印加しな
がら現像した際のバイアス電圧と非画像部の印刷
地汚れと印刷画像の品質の関係を表―1に示す。 バイアス電圧が20〜250ボルトの領域では非画
像部印刷汚れがなく、画像部に十分インキが付着
する高品質の印刷物が得られた。
【表】 実施例 2 実施例1で用いたアルミニウム支持体の酸化皮
膜量を1.2g/m2にし、さらに下記の処方*で実施
例1と同様な手断で固形分塗布重量2.0g/m2
光半導体層を設けた。 ※ 処方 ―(エチルアクリレート62―メチルメタクリレー
25―メチルアクリル酸13―)25%エチルアルコ
ール中 12重量部 ミクロリス4G―T(チバガイギー製)
1.5重量部 トルエン 25 〃 この感光板に、コロナ帯電電圧―6000Vに設定
したコロナ帯電により負コロナ帯電を行ない、次
にタングステン電球による60ルクスの照射光をポ
ジ透過原稿を通して3秒間露光した。次に正極性
トナーを有する液体現像液(岩崎通信機PM313
プレートメーカー用現像液)を満たしたバツト中
に、ステンレス製の対向電極と感光層が向い合う
様にセツトし対向電極側を負に、感光板のアルミ
ニウム側を正に電圧を印加しながら15秒間現像を
行なつた。以降実施例1と同様の操作で印刷版を
作成した。 バイアス電圧が20〜250ボルトの領域では非画
像部印刷汚れがなく、画像部に十分インキが付着
する高品質の印刷物が得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(f―2)は本発明方法の一態様を
説明するための図であり、第2図、第3図および
第4図は本発明に用いる感光材料の種々の態様を
示す断面図である。 1……光導電性絶縁性、1′……光導電性絶縁
層と感光層とを同一層とした層、2……感光層、
3……支持体、4……帯電器、5……ランプ、7
……液体現像剤、8……対向電極、9……電源、
10……トナー像、11……紫外線ランプ、12
……中間層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 親水性表面を有する導電性支持体上に感光層
    と光導電性絶縁層とを一層又は感光層を下層とす
    る二層として有する感光材料を電子写真的に処理
    して光導電性絶縁層上に静電潜像を形成し、対向
    電極の存在下に該感光層に感光性を有する波長の
    光に不透明な現像剤粒子で該静電潜像を現像し、
    得られた現像を介して感光層を露光し、次いで感
    光層の露光部又は非露光部をその部分又はその上
    の光導電性絶縁層と共に除去することからなる平
    版印刷版の製造方法において、該静電潜像を現像
    する場合に、対向電極と感光材料間に非潜像部の
    残留電荷を見かけ上ゼロになるようにバイアス電
    圧を印加しつつ現像を行うことを特徴とする平版
    印刷版の製造方法。 2 感光層と光導電性絶縁層が二層を形成してお
    り、両層の間に中間層が設けられている特許請求
    の範囲第1項記載の平版印刷版の製造方法。 3 導電性支持体がアルミニウムよりなり、親水
    性表面が0.2〜2.8g/m2の酸化アルミニウム層よ
    りなる特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の
    平版印刷版の製造方法。 4 感光層と光導電性絶縁層が二層よりなり、感
    光層が導電化剤を含有している特許請求の範囲第
    1項乃至第3項の何れかに記載の平版印刷版の製
    造方法。
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