JPS617853A - 平版印刷版用感光材料の製造方法 - Google Patents
平版印刷版用感光材料の製造方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/2018—Masking pattern obtained by selective application of an ink or a toner, e.g. ink jet printing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/26—Electrographic processes using a charge pattern for the production of printing plates for non-xerographic printing processes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光層と光導電性絶縁層を含み、電子写真方
式により製版される、平版印刷版用感光材料及びその製
造方法に関する。更に詳細には、導電性支持体上に層を
形成するための塗布液のうち少なくとも1種の塗布液の
粘度を/ 00 cps以上とし、これを塗布すること
を特徴とする平版印刷版用感光材料の製造方法に関する
。
式により製版される、平版印刷版用感光材料及びその製
造方法に関する。更に詳細には、導電性支持体上に層を
形成するための塗布液のうち少なくとも1種の塗布液の
粘度を/ 00 cps以上とし、これを塗布すること
を特徴とする平版印刷版用感光材料の製造方法に関する
。
従来光4電性絶縁層を含み、電子写真法を利用するタイ
プの平版印刷版用感光材料は知られておシ、例えと光導
電性絶縁層/ゾ型感光層、親水性表面を有する4を性支
持体からなる平版印刷版用j1〆光材料が提案されてい
る。
プの平版印刷版用感光材料は知られておシ、例えと光導
電性絶縁層/ゾ型感光層、親水性表面を有する4を性支
持体からなる平版印刷版用j1〆光材料が提案されてい
る。
この感光材料を用いて印刷版を作製するには、(イ)該
感光材料の光導電性絶縁層を均一に帯電させ、ポジ型感
光層の感光しない光線を用いて像露光して光導電性絶縁
層に静電#像を形成しく口) 該ポジ型感光層が感光性
を有する肢長の先に・ 対して不透明な現像剤粒子を含
む液体坊像剤で該層像を現像し くハ) 該ポジ型感光層を上記(ロ)で得た現像像を介
して露光し、 轡 該ポジ型感光層の現像像を有しない部分を選択的に
除去する 方法が、米国特許第グ、ti、3s、1tqi号に開示
されている。
感光材料の光導電性絶縁層を均一に帯電させ、ポジ型感
光層の感光しない光線を用いて像露光して光導電性絶縁
層に静電#像を形成しく口) 該ポジ型感光層が感光性
を有する肢長の先に・ 対して不透明な現像剤粒子を含
む液体坊像剤で該層像を現像し くハ) 該ポジ型感光層を上記(ロ)で得た現像像を介
して露光し、 轡 該ポジ型感光層の現像像を有しない部分を選択的に
除去する 方法が、米国特許第グ、ti、3s、1tqi号に開示
されている。
しかしながらこの感光材料の製+’i!一方法では、親
水性表面を有する導電性支持体(以下支持体と呼ぶ)に
、該”ポジ型感光層と該光2IL電性絶縁層とを一層ず
つ遂次塗布し乾燥する方法がとられている。
水性表面を有する導電性支持体(以下支持体と呼ぶ)に
、該”ポジ型感光層と該光2IL電性絶縁層とを一層ず
つ遂次塗布し乾燥する方法がとられている。
遂次塗布乾燥方式としては塗布乾燥毎に巻きとる方法、
あるいは複数の摩布乾燥部を設けて連続して塗布乾燥す
る方法等があるが、前者の方法では多大な製造時間がか
がり、従って多大な製造コストがかかり、後者の方法で
はl1liの数だけ勿布部及び乾燥部が必要となシ、極
めて茜価な製造ja’TaJを必要とし、多大な製造コ
ストがかがる。
あるいは複数の摩布乾燥部を設けて連続して塗布乾燥す
る方法等があるが、前者の方法では多大な製造時間がか
がり、従って多大な製造コストがかかり、後者の方法で
はl1liの数だけ勿布部及び乾燥部が必要となシ、極
めて茜価な製造ja’TaJを必要とし、多大な製造コ
ストがかがる。
前記ポジ型感光層および光導電性絶縁層を形成するため
の塗布液は有機溶剤を主成分としているため、単に同時
重層塗布し乾燥した場合には各層中の成分の拡散混合を
伴うことなく、乾燥塗膜を得ることは極めて雛がしい。
の塗布液は有機溶剤を主成分としているため、単に同時
重層塗布し乾燥した場合には各層中の成分の拡散混合を
伴うことなく、乾燥塗膜を得ることは極めて雛がしい。
一方、水溶液系においては、スライドホッパー型塗布装
置あるいはエクストルージョンホラ/母−型怜布装置等
を用い、ゼラチンをバインダーとするハロゲン化銀乳剤
を同時重層塗布し、その後冷却口〜ルあるいは冷風によ
ってゼラチンのゾル−ダル変換特性を利用し、重層膜を
rル化させ数万〜θ十万センチIイ、e (Cps )
の超高粘液にし層間で成分の混合がおこりにくい状態に
して熱風乾燥等によシ塗膜を形成するハロダン化銀感光
材料の製造方法が広く知られている。
置あるいはエクストルージョンホラ/母−型怜布装置等
を用い、ゼラチンをバインダーとするハロゲン化銀乳剤
を同時重層塗布し、その後冷却口〜ルあるいは冷風によ
ってゼラチンのゾル−ダル変換特性を利用し、重層膜を
rル化させ数万〜θ十万センチIイ、e (Cps )
の超高粘液にし層間で成分の混合がおこりにくい状態に
して熱風乾燥等によシ塗膜を形成するハロダン化銀感光
材料の製造方法が広く知られている。
しかし有機溶剤系においては、水溶液系に比して、塗布
液が低表面張力のため乾燥部たけでなく、ピード部及び
塗布〜乾燥間でも各層中の成分間で拡散混合がおこりゃ
すく、さらに、広IMな有機浴剤で用いられる良好なゾ
ル−ダル変換物質がないため、乾燥時に拡散混合がおこ
らないようにするととは極めて困難である。
液が低表面張力のため乾燥部たけでなく、ピード部及び
塗布〜乾燥間でも各層中の成分間で拡散混合がおこりゃ
すく、さらに、広IMな有機浴剤で用いられる良好なゾ
ル−ダル変換物質がないため、乾燥時に拡散混合がおこ
らないようにするととは極めて困難である。
本発明の目的はかかる従来方式の有機溶剤を用いる高コ
ストな平版印刷版用感光材料に遜色のない品質を有し、
しかも低コストな平版印刷版用感光材料とその製造方法
を提供することにある。
ストな平版印刷版用感光材料に遜色のない品質を有し、
しかも低コストな平版印刷版用感光材料とその製造方法
を提供することにある。
本発明は、親水性表面を有する導電性支持体上に感光者
と、電子写真的にS電潜像を形成することができる光導
電性絶縁層とがとの順にメ責層された平版印刷版用感光
材料を製造する方法において、層を形成するための塗布
液のうち少なくとも1種の塗布液の粘度を/ 00 c
ps以上とし、これを塗布することを特徴とする平版印
刷版用感光材料の製造方法である。
と、電子写真的にS電潜像を形成することができる光導
電性絶縁層とがとの順にメ責層された平版印刷版用感光
材料を製造する方法において、層を形成するための塗布
液のうち少なくとも1種の塗布液の粘度を/ 00 c
ps以上とし、これを塗布することを特徴とする平版印
刷版用感光材料の製造方法である。
本発明は、少なくとも/槻の塗布液の粘度を/ 00
cps以上とし、これを塗布することにより、塗布から
塗膜形成完了までの光導電性絶縁層中の成分と他の塗布
層中の成分の拡散混合、特に光導電性絶縁層中の光導電
性化合物、たとえは顔料粒子の他層への拡散混合を抑制
することを特徴とするものである。このため、少なくと
も1種の塗布液の粘度は、10θcps以上とすること
が必要であり、好ましくは、20θcps以上とするの
がよい。すべての塗布液の粘度が/ 00 cps以下
になると、塗布部から塗・膜形成完了までの間での光導
電性化合物、たとえば顔料粒子の一拡散混合が起こりや
すい。
cps以上とし、これを塗布することにより、塗布から
塗膜形成完了までの光導電性絶縁層中の成分と他の塗布
層中の成分の拡散混合、特に光導電性絶縁層中の光導電
性化合物、たとえは顔料粒子の他層への拡散混合を抑制
することを特徴とするものである。このため、少なくと
も1種の塗布液の粘度は、10θcps以上とすること
が必要であり、好ましくは、20θcps以上とするの
がよい。すべての塗布液の粘度が/ 00 cps以下
になると、塗布部から塗・膜形成完了までの間での光導
電性化合物、たとえば顔料粒子の一拡散混合が起こりや
すい。
塗布液の粘度は、塗布液を構成する組成物であるバイン
ダーの構造及び含有耶によって調節され得るが、微粉末
シリカ(商品名 ^ERO3IL DEGO5S^社製
他)、高純度モンモリロナイト−有機塩基複合体(商品
名オルfナイト^;豊順洋行■製、商品名ベントン−2
7;白石工業■製他)、超微細沈降性炭酸カルシウム(
商品名ダルトン−5O;白石工業@製他)などの無機物
を伶加混合することによってもv!4′N6可能であシ
、これらは得られる平版印刷版用感光材料の性能、塗布
液・の組成、あるいは粘度などにより適宜選択され使用
される。
ダーの構造及び含有耶によって調節され得るが、微粉末
シリカ(商品名 ^ERO3IL DEGO5S^社製
他)、高純度モンモリロナイト−有機塩基複合体(商品
名オルfナイト^;豊順洋行■製、商品名ベントン−2
7;白石工業■製他)、超微細沈降性炭酸カルシウム(
商品名ダルトン−5O;白石工業@製他)などの無機物
を伶加混合することによってもv!4′N6可能であシ
、これらは得られる平版印刷版用感光材料の性能、塗布
液・の組成、あるいは粘度などにより適宜選択され使用
される。
本発明は、感光層と光4電牲絶縁j−との間に中間層を
設けた感光材料も包含する。このような中間層を設ける
ことにより、光導電性化合物例えば顔料粒子が他層へ拡
散混曾丁ゐのに必快な時間あるいは距離を長くし拡散混
合をぜらに抑制すると共に\他の成分の拡散混合會も抑
制することができる。さらにこの中間)VIに充当′亀
住を付与することにより、残留゛電位(前記印刷版作製
方法の(イ)の工程で静電潜像が形成されない部分に残
る電位のことを言う)を減少させ、電子写A特性を同上
畜せることができる。
設けた感光材料も包含する。このような中間層を設ける
ことにより、光導電性化合物例えば顔料粒子が他層へ拡
散混曾丁ゐのに必快な時間あるいは距離を長くし拡散混
合をぜらに抑制すると共に\他の成分の拡散混合會も抑
制することができる。さらにこの中間)VIに充当′亀
住を付与することにより、残留゛電位(前記印刷版作製
方法の(イ)の工程で静電潜像が形成されない部分に残
る電位のことを言う)を減少させ、電子写A特性を同上
畜せることができる。
また本発明の好せしい態様によれば、iq、−性叉持体
上に、ツ種以上の塗布液が同時に重層0/Ifされる。
上に、ツ種以上の塗布液が同時に重層0/Ifされる。
親水性表面を有する24′は性支持体としては寸度的に
安定な面を有するものであシ、その形帖としてはシート
状や板状で69、平版印刷、yt用熱感光材料実用上、
あるいは用いられるイ衾器によって適宜好ましい形態の
ものが選ばれる。そして支持体の素材としては、導電性
を有するものでめり、アルミニウム、各種のアルミニウ
ム合菫、4.鉛、鉄、銅などのような金属の板、金属が
積層あるいは蒸着によ#)被覆された紙もしくはポリエ
チレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、酪ρセルロース、h 酸ah n セル
。
安定な面を有するものであシ、その形帖としてはシート
状や板状で69、平版印刷、yt用熱感光材料実用上、
あるいは用いられるイ衾器によって適宜好ましい形態の
ものが選ばれる。そして支持体の素材としては、導電性
を有するものでめり、アルミニウム、各種のアルミニウ
ム合菫、4.鉛、鉄、銅などのような金属の板、金属が
積層あるいは蒸着によ#)被覆された紙もしくはポリエ
チレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、酪ρセルロース、h 酸ah n セル
。
−ス、プロピオン酸セルロース、FA(Rセルロースの
ようなプラスチックフィルム、アルミナゾル、シリカゾ
ル、あるいli K(J 5NaN05などの無機金属
塩票、あるいは、In2O5、SnO2,1重性ZnO
などの金属−化物の微粒子を含有する層を設けた前述の
シラスチックフィルムなどが含まれる。支持体の素材も
平版印41i1版用μ光材料の目的、用途から適宜選択
される。
ようなプラスチックフィルム、アルミナゾル、シリカゾ
ル、あるいli K(J 5NaN05などの無機金属
塩票、あるいは、In2O5、SnO2,1重性ZnO
などの金属−化物の微粒子を含有する層を設けた前述の
シラスチックフィルムなどが含まれる。支持体の素材も
平版印41i1版用μ光材料の目的、用途から適宜選択
される。
大発明の感光材料の感光層を形成するだめの感光性組成
物としては、たとえば次のようなものφ;含まれる。す
なわち、0−キノンノアノド化合−吻からなる組成物で
、特に好ましいO−キノンジアシド化合物は0−ナフト
キノンジアジド化合物であシ、例えば米国ダ手許第2.
71,1..//f号、同第2.71,7.09.2号
、同第2.772.デクッ号、同第−9ざ!S−9,/
/2号、同第2.907 、A/;、!−号、同第、’
?、0IIt1../10丹、同第31.〕弘す、il
i号、同第3.θ4tl、、//左号、同第3*0<t
6+i1g号、同、箔3.θlI−乙、//7郊、同第
3 * 0<t、乙、/2#号、同第、3.0’lA、
/2/勾、同第3.0q乙、lコλ・号、同第3.θ4
ti/、2.?号、同第3.Ol、/、り3e号、同第
、!、102.g09号・、同第3.10t 、qbs
号、同月3.633’、709号、同第3.6j7.タ
グ3号の各明細・、斗゛全(・まじめ、多機の刊行−2
りに記され、てむシ、これらは好>m IC使用するこ
とができる。こハらの内でも、特に芳香族ヒトu (−
74じ計會の〇−ナフトギノンノアソドスルホン、レエ
ステルfたりJO−ナフトキノンジアジドカル2フ1層
ニスデル、および芳香族アミノ化合秀の0−ナフi・ギ
ノンジアジドスルホン鹸アミドまたは0−ナフトFノン
ジアジドカルRン酸アミド、が好ましく、完にンj;
畦;j特許二i3..4)3!、709−夕明、i偵り
警、に、己でれているピロgo−ル七アセトンとの縮合
′吻に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステ)
+−反応させたもの、米国特許第4’、02g、ll1
号曲細書に記されている末端にヒドロキシ基を有するポ
リエステルにO−ナフトキノンジアジドスルホン酸、”
また鉱o−ナフトキノンソアジドカルぎン酸をエステル
反応させたもの、英国特許第1.ダ94t、 O’lJ
号明細書に記されているようなp−ヒドロキシスチレン
のホモポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノマー
との共重合体に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸ま
たは0−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステル反
応させたものは非常にすぐれている。
物としては、たとえば次のようなものφ;含まれる。す
なわち、0−キノンノアノド化合−吻からなる組成物で
、特に好ましいO−キノンジアシド化合物は0−ナフト
キノンジアジド化合物であシ、例えば米国ダ手許第2.
71,1..//f号、同第2.71,7.09.2号
、同第2.772.デクッ号、同第−9ざ!S−9,/
/2号、同第2.907 、A/;、!−号、同第、’
?、0IIt1../10丹、同第31.〕弘す、il
i号、同第3.θ4tl、、//左号、同第3*0<t
6+i1g号、同、箔3.θlI−乙、//7郊、同第
3 * 0<t、乙、/2#号、同第、3.0’lA、
/2/勾、同第3.0q乙、lコλ・号、同第3.θ4
ti/、2.?号、同第3.Ol、/、り3e号、同第
、!、102.g09号・、同第3.10t 、qbs
号、同月3.633’、709号、同第3.6j7.タ
グ3号の各明細・、斗゛全(・まじめ、多機の刊行−2
りに記され、てむシ、これらは好>m IC使用するこ
とができる。こハらの内でも、特に芳香族ヒトu (−
74じ計會の〇−ナフトギノンノアソドスルホン、レエ
ステルfたりJO−ナフトキノンジアジドカル2フ1層
ニスデル、および芳香族アミノ化合秀の0−ナフi・ギ
ノンジアジドスルホン鹸アミドまたは0−ナフトFノン
ジアジドカルRン酸アミド、が好ましく、完にンj;
畦;j特許二i3..4)3!、709−夕明、i偵り
警、に、己でれているピロgo−ル七アセトンとの縮合
′吻に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステ)
+−反応させたもの、米国特許第4’、02g、ll1
号曲細書に記されている末端にヒドロキシ基を有するポ
リエステルにO−ナフトキノンジアジドスルホン酸、”
また鉱o−ナフトキノンソアジドカルぎン酸をエステル
反応させたもの、英国特許第1.ダ94t、 O’lJ
号明細書に記されているようなp−ヒドロキシスチレン
のホモポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノマー
との共重合体に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸ま
たは0−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステル反
応させたものは非常にすぐれている。
また、本発明の感光材料の光導電性絶縁#は正負倒れに
も帯電させて使用することが出来るが、正帯電に適する
光導電性組成物としてはSa、5e−ia、pbo
等の無機材料およびアントラセン、ペリレン、ナト2セ
ン、カルバゾール、テトラベンジル−p−フェニレンシ
アミン、アシルヒドラゾン誘導体、オキサジアゾール誘
導体、ピラゾリン誘導体、イミダシロン誘導体、イミダ
ゾチオーン肪導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズ
オキサゾール誘導体、ベンズチアシーク誘導体等の低分
子物質、インジコ9、メタルフリーフタロシアニン、金
属フタロシアニン、スクェアリウム、ジメチルペリルイ
ミド、などの有機顔料、ポリ−N−ビニルカルバゾール
、ポリアセナフチレン、ポリビニルアントラセン、ポリ
ビニルピレン、ポリビニルテトラセン、ポリビニルペリ
レン等の有機高分子物質が用いられる。負コロナWtに
適する光導電性組成物としてはZnO、CaS 5TI
O等の無機材料、トリニトロフルオレノン、テトラニト
ロフルオレノン、ジニトロアントラセン、テトラシアノ
ピレン等の低分子物質、クロロジアンブルー等の有機顔
料、ポリ−N−ビニルカルバゾールと2.’!。
も帯電させて使用することが出来るが、正帯電に適する
光導電性組成物としてはSa、5e−ia、pbo
等の無機材料およびアントラセン、ペリレン、ナト2セ
ン、カルバゾール、テトラベンジル−p−フェニレンシ
アミン、アシルヒドラゾン誘導体、オキサジアゾール誘
導体、ピラゾリン誘導体、イミダシロン誘導体、イミダ
ゾチオーン肪導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズ
オキサゾール誘導体、ベンズチアシーク誘導体等の低分
子物質、インジコ9、メタルフリーフタロシアニン、金
属フタロシアニン、スクェアリウム、ジメチルペリルイ
ミド、などの有機顔料、ポリ−N−ビニルカルバゾール
、ポリアセナフチレン、ポリビニルアントラセン、ポリ
ビニルピレン、ポリビニルテトラセン、ポリビニルペリ
レン等の有機高分子物質が用いられる。負コロナWtに
適する光導電性組成物としてはZnO、CaS 5TI
O等の無機材料、トリニトロフルオレノン、テトラニト
ロフルオレノン、ジニトロアントラセン、テトラシアノ
ピレン等の低分子物質、クロロジアンブルー等の有機顔
料、ポリ−N−ビニルカルバゾールと2.’!。
クートリニトロフルオレノンなどの錯体が用いられる。
そして両性帯[K適する光導電性組成物、特に実用に併
する高感度を示す材料としてはメタルフリーフタロシア
ニン、金属フタロシアニン、オキサソアゾール誘導体、
ピラゾリン誘導体が挙げられる。又、さらに、電荷発生
剤と電荷輸送剤とを含む感光材料、アルカリ可溶性樹脂
とカルバゾール等の光導1J1物寅との共重合体等も使
用することができる。
する高感度を示す材料としてはメタルフリーフタロシア
ニン、金属フタロシアニン、オキサソアゾール誘導体、
ピラゾリン誘導体が挙げられる。又、さらに、電荷発生
剤と電荷輸送剤とを含む感光材料、アルカリ可溶性樹脂
とカルバゾール等の光導1J1物寅との共重合体等も使
用することができる。
さらに、本発明の感光材料の中間j−を形成するための
組成物としては、アルカリ可溶性樹脂であし、ノブラッ
ク型フェノール樹脂があげられ具体的には、フェノール
ホルムアルデヒド樹脂、O−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが含
まれる。更に米国特許第4.123.279号明細書に
記されている様に上記のようなフェノール樹脂と共に、
を−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭
素数3〜lrのアルキル基で置換されたフェノールまた
はクレゾールとホルムアルデヒドとの化合物とを併用す
ると、より一層好ましい。
組成物としては、アルカリ可溶性樹脂であし、ノブラッ
ク型フェノール樹脂があげられ具体的には、フェノール
ホルムアルデヒド樹脂、O−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが含
まれる。更に米国特許第4.123.279号明細書に
記されている様に上記のようなフェノール樹脂と共に、
を−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭
素数3〜lrのアルキル基で置換されたフェノールまた
はクレゾールとホルムアルデヒドとの化合物とを併用す
ると、より一層好ましい。
さらにメチル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル
酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体のハー
フェステル及びハーフアマイド、ベンジル(メタ)アク
リレート/(メタ)アクリル酸共重合体、ベンジル(メ
タ)アクリレート/イタコン酸共重合体、スチレン/イ
タコン酸共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、
酸性フタル酸セルロース、(メタ)アクリル酸/スチレ
ン/アルキル(メタ)アクリレート共重合体、等があけ
られる。
酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体のハー
フェステル及びハーフアマイド、ベンジル(メタ)アク
リレート/(メタ)アクリル酸共重合体、ベンジル(メ
タ)アクリレート/イタコン酸共重合体、スチレン/イ
タコン酸共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、
酸性フタル酸セルロース、(メタ)アクリル酸/スチレ
ン/アルキル(メタ)アクリレート共重合体、等があけ
られる。
本発明の内容を第1図に従い更に詳細に説明する。
第1図において、図示していない液槽より定量送液ポン
プP1、P2又はPl、P2、P3等により2種以上の
有機溶剤系の塗布液が塗布ヘッド1に供給され、エクス
トレージョンビード部2にて連続走行する支持体3に塗
布される。5は塗布部ノ4ツキンダロール、6e7s8
tl?スロールテアル。
プP1、P2又はPl、P2、P3等により2種以上の
有機溶剤系の塗布液が塗布ヘッド1に供給され、エクス
トレージョンビード部2にて連続走行する支持体3に塗
布される。5は塗布部ノ4ツキンダロール、6e7s8
tl?スロールテアル。
又4は減圧室であり図示していない真空ポンプ等によシ
大気圧よりも約70〜30m820程度の減圧状態とす
ることにより、ビードの安定を図る。
大気圧よりも約70〜30m820程度の減圧状態とす
ることにより、ビードの安定を図る。
9は乾燥部である。かかる工程において二種以上の有機
溶剤系の塗布液のうち少女〈と4一種の塗布液活量を/
00 cps以上とする。少なくとも一種の塗布液粘
度を/ 00 cps以上、好ましくは200 cps
以上とすることによシ、二゛クストルージ″ヨンビード
部2にて形成された多層の塗布層に含まれる各成分は、
乾燥が完了して塗膜が形成されるまでの間、それら相互
の拡散混合が抑制される。エクストルージョンビード部
2にて多層の塗布層が形成されてから、乾燥により塗膜
が形成されるまでの時間は、塗布液の物性、特に粘度と
も関連するが、約go秒以内とすることが、光導電性化
合物、たとえば顔料粒子の拡散混合を抑制する上で好ま
しい。
溶剤系の塗布液のうち少女〈と4一種の塗布液活量を/
00 cps以上とする。少なくとも一種の塗布液粘
度を/ 00 cps以上、好ましくは200 cps
以上とすることによシ、二゛クストルージ″ヨンビード
部2にて形成された多層の塗布層に含まれる各成分は、
乾燥が完了して塗膜が形成されるまでの間、それら相互
の拡散混合が抑制される。エクストルージョンビード部
2にて多層の塗布層が形成されてから、乾燥により塗膜
が形成されるまでの時間は、塗布液の物性、特に粘度と
も関連するが、約go秒以内とすることが、光導電性化
合物、たとえば顔料粒子の拡散混合を抑制する上で好ま
しい。
実施例1
厚さ0.2mの25アルミニウム板を10℃に保ったM
3リン酸ナトリウムのlOX水静液に3分間浸漬して脱
脂し、ナイロンブックとダθOメツシュの/fミストー
ンー水懸濁液を用いて砂目立てした後、このアルミニウ
ム板を2091;&kfhj中で陽極酸化を行い水洗、
乾燥して支持体としてのアルミニウム板を作製した。
3リン酸ナトリウムのlOX水静液に3分間浸漬して脱
脂し、ナイロンブックとダθOメツシュの/fミストー
ンー水懸濁液を用いて砂目立てした後、このアルミニウ
ム板を2091;&kfhj中で陽極酸化を行い水洗、
乾燥して支持体としてのアルミニウム板を作製した。
このアルミニウム板を用い、第1図に示す装置にて第1
表に示す組成及び粘度を有する塗布液を、毎分50メー
トルの速度で上層、下鳩それぞれ/ 7 cc/m’、
/ / cc 7m2のω布量で同1#31層塗布し
、塗布後コ秒経過点で乾燥装置9に導入し、90Cの熱
風で乾燥後、試料へとした。
表に示す組成及び粘度を有する塗布液を、毎分50メー
トルの速度で上層、下鳩それぞれ/ 7 cc/m’、
/ / cc 7m2のω布量で同1#31層塗布し
、塗布後コ秒経過点で乾燥装置9に導入し、90Cの熱
風で乾燥後、試料へとした。
なおフタロシアニン顔料とアエロジルを含む上l#I塗
布液、及びアエロソA/金含む下層塗布液は共に超音波
分散を実がハし、調7iシた。
布液、及びアエロソA/金含む下層塗布液は共に超音波
分散を実がハし、調7iシた。
、47 表
上層塗布液組成
ノボラック型フェノール樹脂 /=2有油部(メチル
セルソルブアセテ− ト中33%) エチルアクリレート(62)−メ 3目(被部チル
メタクリレート(2g)−メ タクリル酸(/3)−共重合体(メ チルセルソルブアセテート中33%) フタロシアニン顔料 7.0重量部(スミカブ
リントGN−0) メチルエチルケトン 10.2重・靴部メチルセ
ルソルブアセテ−) /3.8重量部フッ素系
界面活性剤 θ、θ4を重介部粉末シリカ(アエ
ロジル /i量部DEGUSSA社製) 上層塗布液組成 ナフトキノン−(/、2) 7重量部シアシ
ト−(,2)−、t−ス ルホン酸クロリドとポリ− p−ヒドロキシエチレンの エステル化合物 / 、47ラツク型フエノールa aOMjlt
部脂 メチルエチルケトン 32 、 +i景郡部メチ
ルセルソルブアセテ−7!r、AM’1A64粉末シリ
カ(アエロジル DEGIJSS^社N) !r重貴m
上層塗布液粘度; コj Ocps 下層塗布液粘度: 200 cps実施例λ 実施例1と同様にして作製したアルミニウム板を用い、
同様に第7図に示す装置にて第2表に示す組成及び粘度
を有する塗布液を毎分50メートルの速度で上層、中間
層、下層それぞれ/ 7 cc/m’ 、J cc/
m” 、/ / cc/ m2 の塗布量で同時重層
塗布し、実施例1と同様に塗布後−秒8過点で乾燥装置
9に導入し、qo”cの熱風で乾燥後、試料Bとした。
セルソルブアセテ− ト中33%) エチルアクリレート(62)−メ 3目(被部チル
メタクリレート(2g)−メ タクリル酸(/3)−共重合体(メ チルセルソルブアセテート中33%) フタロシアニン顔料 7.0重量部(スミカブ
リントGN−0) メチルエチルケトン 10.2重・靴部メチルセ
ルソルブアセテ−) /3.8重量部フッ素系
界面活性剤 θ、θ4を重介部粉末シリカ(アエ
ロジル /i量部DEGUSSA社製) 上層塗布液組成 ナフトキノン−(/、2) 7重量部シアシ
ト−(,2)−、t−ス ルホン酸クロリドとポリ− p−ヒドロキシエチレンの エステル化合物 / 、47ラツク型フエノールa aOMjlt
部脂 メチルエチルケトン 32 、 +i景郡部メチ
ルセルソルブアセテ−7!r、AM’1A64粉末シリ
カ(アエロジル DEGIJSS^社N) !r重貴m
上層塗布液粘度; コj Ocps 下層塗布液粘度: 200 cps実施例λ 実施例1と同様にして作製したアルミニウム板を用い、
同様に第7図に示す装置にて第2表に示す組成及び粘度
を有する塗布液を毎分50メートルの速度で上層、中間
層、下層それぞれ/ 7 cc/m’ 、J cc/
m” 、/ / cc/ m2 の塗布量で同時重層
塗布し、実施例1と同様に塗布後−秒8過点で乾燥装置
9に導入し、qo”cの熱風で乾燥後、試料Bとした。
なお上層液、中間層液、下層液は共に実施例1と同様に
超音波分散を実施し調製した。
超音波分散を実施し調製した。
実施例3
実施例1と同様にして作要したアルミニウム摂を用い、
同様に第1図に示す装置駅にて、第1表に示す組成のう
ち粉末シリカを高純度モンモリロナイト−有機塩基複合
体(ベントン−aり:白石工業■社製)に変え、その−
量を上、屑堕血液では、0.2重量部、下Ifj塗布液
ではコ重量部にすることによって粘度を第1表に示す粘
度に付せたC血液を、実施例1と同様に同時N層塗布後
乾゛燥し試料Cとした。
同様に第1図に示す装置駅にて、第1表に示す組成のう
ち粉末シリカを高純度モンモリロナイト−有機塩基複合
体(ベントン−aり:白石工業■社製)に変え、その−
量を上、屑堕血液では、0.2重量部、下Ifj塗布液
ではコ重量部にすることによって粘度を第1表に示す粘
度に付せたC血液を、実施例1と同様に同時N層塗布後
乾゛燥し試料Cとした。
第 λ 表
上層塗布液組成
ノボラック型フェノール樹脂 12重量部(メチル
セルソルブアセテート中33%)エチルアクリレ−)
(6,2)− メチルメタクリレート<2!;)−,7重量部メタクリ
ル5! (/J)共重合体 (メチルセルノル1アセテート中3,7N)フタロシア
ニン顔料(スミカブリントGN−0) / 、 OMt
部メチルエチルケトン io、a重量部メチ
ルセルソルブアセテート /39gα゛多部フッ素系
界面活性剤 o、oダ重賃部粉末シリカ
i、o重量部(アエロジルDEGU
ssA社製) 中間層塗布液組成 ノがラック型フェノール樹脂 2.0重量部(メチル
セルソルブアセテート中、3J91;)メチルエチルケ
トン 2.41重量部メチルセルソルブアセ
テート 5.61融部粉末シリカ
θ、1重景重量アエロジルDEGUSSA社
製) 下層塗布液組成 す7トキノンー(/、コ)ジアソドー 7重
量部<2)−j3’−スルホン酸クロリドと?リール−
ヒドロキシエチレンのエステ ル化合物 ノボラック型フェノール樹脂 20重量部メチル
エチルケトン 32.グ重]d部メチルセル
ンルプアセテート り!r、6t−e部粉
末シリカ 5重量部(アエロツ
ルD E G LJ S S A社製)上層塗布液粘度
2 S OCp中間層塗布液粘度
230 CpT層塗布液粘度
200 cp比較例/ 実施例1と同様にして作製したアルミニウム板を用い、
第3表に示す感光液をワイヤーパーにょJ) J A
cc / m2の塗布量で塗布し、100℃で2分間乾
燥させ、得られた感光層の上に、さらに第4表に示す塗
布液を超音波分散によって処理し調製した後、エクスト
ルージョン型ホッ/4−塗布装置により/ 7 、4t
cc/m2の塗布量で重布し、90°C/分間乾静し
て試料6とした。
セルソルブアセテート中33%)エチルアクリレ−)
(6,2)− メチルメタクリレート<2!;)−,7重量部メタクリ
ル5! (/J)共重合体 (メチルセルノル1アセテート中3,7N)フタロシア
ニン顔料(スミカブリントGN−0) / 、 OMt
部メチルエチルケトン io、a重量部メチ
ルセルソルブアセテート /39gα゛多部フッ素系
界面活性剤 o、oダ重賃部粉末シリカ
i、o重量部(アエロジルDEGU
ssA社製) 中間層塗布液組成 ノがラック型フェノール樹脂 2.0重量部(メチル
セルソルブアセテート中、3J91;)メチルエチルケ
トン 2.41重量部メチルセルソルブアセ
テート 5.61融部粉末シリカ
θ、1重景重量アエロジルDEGUSSA社
製) 下層塗布液組成 す7トキノンー(/、コ)ジアソドー 7重
量部<2)−j3’−スルホン酸クロリドと?リール−
ヒドロキシエチレンのエステ ル化合物 ノボラック型フェノール樹脂 20重量部メチル
エチルケトン 32.グ重]d部メチルセル
ンルプアセテート り!r、6t−e部粉
末シリカ 5重量部(アエロツ
ルD E G LJ S S A社製)上層塗布液粘度
2 S OCp中間層塗布液粘度
230 CpT層塗布液粘度
200 cp比較例/ 実施例1と同様にして作製したアルミニウム板を用い、
第3表に示す感光液をワイヤーパーにょJ) J A
cc / m2の塗布量で塗布し、100℃で2分間乾
燥させ、得られた感光層の上に、さらに第4表に示す塗
布液を超音波分散によって処理し調製した後、エクスト
ルージョン型ホッ/4−塗布装置により/ 7 、4t
cc/m2の塗布量で重布し、90°C/分間乾静し
て試料6とした。
第3表
ナフトキノン−(/、2)シアシト
−<2)−3−スルホン酸クロリド
とポリ−p−ヒドロキシエチレンの
エステル化合物 0.7重量部ノボ
ラック型フェノール樹脂 2.0重量部メチルエチ
ルケトン 1!1M量部メチルセルツル
1アセテート コS重量部第ダ表 ノボラック型フェノール樹脂 72重1・部(イ
ソプロピルアルコール中33%) エチルアクリレート(62) 一メチルメタクリレート(25) −メタクリル酸(/3)共電 合体 4を重量部(メ
タノール中25%) フタロシアニン顔料 (スミカブリントGN−0)/重量部 トルエン 25重量部比較例
コ 実施例/と同様にして作製したアルミニウム板を用い、
同様に第1図に示す装置にて第5表に示す組成及び粘度
を有する塗布液を毎分50メートルの速度で上層、下層
それぞれ77cc/m。
ラック型フェノール樹脂 2.0重量部メチルエチ
ルケトン 1!1M量部メチルセルツル
1アセテート コS重量部第ダ表 ノボラック型フェノール樹脂 72重1・部(イ
ソプロピルアルコール中33%) エチルアクリレート(62) 一メチルメタクリレート(25) −メタクリル酸(/3)共電 合体 4を重量部(メ
タノール中25%) フタロシアニン顔料 (スミカブリントGN−0)/重量部 トルエン 25重量部比較例
コ 実施例/と同様にして作製したアルミニウム板を用い、
同様に第1図に示す装置にて第5表に示す組成及び粘度
を有する塗布液を毎分50メートルの速度で上層、下層
それぞれ77cc/m。
//cc/m2の塗布量で同時重l働塗布し、乾燥装置
9にてり0℃の熱風で乾燥し、試料Eとした。
9にてり0℃の熱風で乾燥し、試料Eとした。
同、実施例1と同様に7タロシアニン顔料を含む上NI
塗布液は超音波分散を実施し、調製した。
塗布液は超音波分散を実施し、調製した。
゛実施例/、3で作製された試料AXC,及び実施例コ
で作製された試料Bの層構成を模式的にそれぞれ第2図
(a>、(b+に示すが、1oは光導電性絶縁lf0,
1)は感光層、12は゛中間層、13は支持体である。
で作製された試料Bの層構成を模式的にそれぞれ第2図
(a>、(b+に示すが、1oは光導電性絶縁lf0,
1)は感光層、12は゛中間層、13は支持体である。
又比較例/で作製された試料0は42図(a)の層構成
とみなせる。
とみなせる。
第 ! 表
上層塗布液組成
ノブラック型フェノール樹脂 72重量部(メチル
セルソルブアセテート中33%ンエチルアクリレー)(
乙、’、)−、/重量部メチルメタクリレート(25) 一メタクリル酸(/3)共重合体 (メチルセルソルブアセテート中33%)7タロシアニ
ン顔料 (スミカブリントGN−0) 7.0重量部メチ
ルエチルケトン 10・2重量部メチルセル
ンルプアセテー) /J、gM膏:+唱フッ禦
系界面活性剤 0.0グ重1部、下層塗布液
組成 ナフトキノン−(7,2)ジ り重量部アシド−
(2)−3−スルホ ン酸クロリドとポリーp−ヒ ドロキシエチレンのエステル 化合物 ノブラック型フェノール樹脂 20重を全部
メチルエチルケトン 、32.’1g祁:f
il+メチルセルンルプアセテート 73.l、
重1+部上層塗布液粘度; 30−
cpsT層塗布液塗布液粘度 /5CpS
実施例/、コおよび3、比較例1および2で得られた各
試料A% B、C,D、 εにそれぞれコロナ帯電電
圧+booovtlc設定したコロナ帯電器によシ正コ
ロナ帯電5を行ない、次にタングステン電球によるt、
opuxの照射光をポジ透過原稿を通して3秒間露光し
た。次いで負極性トナーを有する液体均像液(MRP−
4/θ、■リコー製)に20秒間浸漬した後、風乾燥し
てポジのトナー画像を得た。次に富士写真フィルム■^
−3プリンター(ps版用腰光機)で7S秒間全面露光
し、富士写真フィルム■製P3版現像液DP−3を水で
//7に希釈した液中で7分間現像を行ないポジ像を有
する平版印刷版を得た。
セルソルブアセテート中33%ンエチルアクリレー)(
乙、’、)−、/重量部メチルメタクリレート(25) 一メタクリル酸(/3)共重合体 (メチルセルソルブアセテート中33%)7タロシアニ
ン顔料 (スミカブリントGN−0) 7.0重量部メチ
ルエチルケトン 10・2重量部メチルセル
ンルプアセテー) /J、gM膏:+唱フッ禦
系界面活性剤 0.0グ重1部、下層塗布液
組成 ナフトキノン−(7,2)ジ り重量部アシド−
(2)−3−スルホ ン酸クロリドとポリーp−ヒ ドロキシエチレンのエステル 化合物 ノブラック型フェノール樹脂 20重を全部
メチルエチルケトン 、32.’1g祁:f
il+メチルセルンルプアセテート 73.l、
重1+部上層塗布液粘度; 30−
cpsT層塗布液塗布液粘度 /5CpS
実施例/、コおよび3、比較例1および2で得られた各
試料A% B、C,D、 εにそれぞれコロナ帯電電
圧+booovtlc設定したコロナ帯電器によシ正コ
ロナ帯電5を行ない、次にタングステン電球によるt、
opuxの照射光をポジ透過原稿を通して3秒間露光し
た。次いで負極性トナーを有する液体均像液(MRP−
4/θ、■リコー製)に20秒間浸漬した後、風乾燥し
てポジのトナー画像を得た。次に富士写真フィルム■^
−3プリンター(ps版用腰光機)で7S秒間全面露光
し、富士写真フィルム■製P3版現像液DP−3を水で
//7に希釈した液中で7分間現像を行ないポジ像を有
する平版印刷版を得た。
このようにして製造方法の異なる5種類の平版印刷版用
感光材料から得られた印刷版を用いて印刷17た場合の
印刷よごれと耐刷枚数及び残色の観察結果を第6表に示
す。
感光材料から得られた印刷版を用いて印刷17た場合の
印刷よごれと耐刷枚数及び残色の観察結果を第6表に示
す。
坑 6 表
なお、感光性組成物あるいは光導電性組成物が、現像処
理後でも支持体上に残っているため、その表面が本来の
支持体表面とは異なる色を有しているとき残色があると
いう。
理後でも支持体上に残っているため、その表面が本来の
支持体表面とは異なる色を有しているとき残色があると
いう。
それらの程度の泗1定は反射濃度計で行う。
以上の結果から増粘剤を添刀l]混合し、増粘した塗布
液を用い同時型1曽塗布後乾燥して作製した平版印刷版
用感光材料は、増粘剤が添加混合されない塗布液を遂次
q布乾燥して作製した平版印刷版用感光材料に比較して
も伺ら遜色が欧く、印刷汚れのない篩品質の印刷物を作
製できるということが明らかであシ、本発明の効果が明
瞭に示されていると旨える。
液を用い同時型1曽塗布後乾燥して作製した平版印刷版
用感光材料は、増粘剤が添加混合されない塗布液を遂次
q布乾燥して作製した平版印刷版用感光材料に比較して
も伺ら遜色が欧く、印刷汚れのない篩品質の印刷物を作
製できるということが明らかであシ、本発明の効果が明
瞭に示されていると旨える。
従って、有機溶剤系塗布液、特に顔料粒子を含む塗布液
の同時型N8布において、少なくとも1層以上を形成す
るための塗布液を増粘剤添加折合によす増粘する方法は
、顔料粒子の拡散混合を抑制し、顔料層を形成してい°
ると考えられるので、工程の簡素化、設備費の低減、設
備コスト低減が充分期待できる。
の同時型N8布において、少なくとも1層以上を形成す
るための塗布液を増粘剤添加折合によす増粘する方法は
、顔料粒子の拡散混合を抑制し、顔料層を形成してい°
ると考えられるので、工程の簡素化、設備費の低減、設
備コスト低減が充分期待できる。
本発明における同時重層塗布法は実施例に限らず、スラ
イドビード塗布、ホラ/デースライに塗布、カーテン塗
布等にも適用可能である。
イドビード塗布、ホラ/デースライに塗布、カーテン塗
布等にも適用可能である。
第1図は本発明に係る平版印刷版用感光材料の作成方法
を実施するための装置の側断面図、第2図(a) (b
)は本発明の平版印刷版用感光材料の構造の概要を示す
図である。 1・・・塗布−\ラド、3 、、13中支持体、9・・
パ乾燥装置、IO・・・光導電性絶彎層、1)・・・感
光ノψ、J2・・・中間層。 第1図 第2図 (Q) (b) 昭和 年 月 日 1、事件の表示 昭和59年特許順第129743
号2、発明の名称 平版印刷版用感光材料の製造方
法3、補正をする者 事件との関係 出 願 人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代理
人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
?、?!正の内容 手続補正占 6o、7.26 昭和 年 月 日 1、事件の表示 昭和59年特許願第129743
号2、発明の名称 平版印刷版用感光材料の製造方
法3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
明細書の記載を下表のとおり訂正する。
を実施するための装置の側断面図、第2図(a) (b
)は本発明の平版印刷版用感光材料の構造の概要を示す
図である。 1・・・塗布−\ラド、3 、、13中支持体、9・・
パ乾燥装置、IO・・・光導電性絶彎層、1)・・・感
光ノψ、J2・・・中間層。 第1図 第2図 (Q) (b) 昭和 年 月 日 1、事件の表示 昭和59年特許順第129743
号2、発明の名称 平版印刷版用感光材料の製造方
法3、補正をする者 事件との関係 出 願 人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代理
人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
?、?!正の内容 手続補正占 6o、7.26 昭和 年 月 日 1、事件の表示 昭和59年特許願第129743
号2、発明の名称 平版印刷版用感光材料の製造方
法3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄
明細書の記載を下表のとおり訂正する。
Claims (3)
- (1)親水性表面を有する導電性支持体上に、感光層と
、電子写真的に静電潜像を形成することができる光導電
性絶縁層とがこの順に積層された平版印刷版用感光材料
を製造する方法において、層を形成するための塗布液の
うち少なくとも1種の塗布液の粘度を100cps以上
とし、これを塗布することを特徴とする平版印刷版用感
光材料の製造方法。 - (2)感光層と光導電性絶縁層との間に中間層を設ける
ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の平版
印刷版用感光材料の製造方法。 - (3)導電性支持体上に、2種以上の塗布液を同時に重
層塗布することを特徴とする特許請求の範囲第(1)項
または第(2)項記載の平版印刷版用感光材料の製造方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12974384A JPS617853A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 平版印刷版用感光材料の製造方法 |
| DE19853522367 DE3522367A1 (de) | 1984-06-22 | 1985-06-22 | Verfahren zur herstellung lichtempfindlicher materialien fuer flachdruckplatten |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12974384A JPS617853A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 平版印刷版用感光材料の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS617853A true JPS617853A (ja) | 1986-01-14 |
Family
ID=15017107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12974384A Pending JPS617853A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | 平版印刷版用感光材料の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS617853A (ja) |
| DE (1) | DE3522367A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366558A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-25 | Konica Corp | 耐刷力および耐薬品性が優れた感光性印刷版の製造方法 |
-
1984
- 1984-06-22 JP JP12974384A patent/JPS617853A/ja active Pending
-
1985
- 1985-06-22 DE DE19853522367 patent/DE3522367A1/de not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366558A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-25 | Konica Corp | 耐刷力および耐薬品性が優れた感光性印刷版の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3522367A1 (de) | 1986-01-02 |
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