JPH01689A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPH01689A
JPH01689A JP62-155889A JP15588987A JPH01689A JP H01689 A JPH01689 A JP H01689A JP 15588987 A JP15588987 A JP 15588987A JP H01689 A JPH01689 A JP H01689A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mounting table
heated
heating device
heating chamber
rotary mounting
Prior art date
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Pending
Application number
JP62-155889A
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English (en)
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JPS64689A (en
Inventor
滝崎 健
秋吉 光夫
昌弘 新田
孝彦 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP62-155889A priority Critical patent/JPH01689A/ja
Publication of JPS64689A publication Critical patent/JPS64689A/ja
Publication of JPH01689A publication Critical patent/JPH01689A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高周波加熱装置に関し、特にその被加熱物を載
置して回転させるいわゆる回転載置台の機構に関する。
従来の技術 第3図は従来の高周波加熱装置の概略正面断面図である
。加熱室1内の被加熱物2は、高周波発生装置3から発
生する高周波により内部を加熱される。4は硼硅酸ガラ
スで作られた被加熱物を載置する回転載置台で、5は回
転モータ6の回転力を前記回転載置台4に伝達する回転
台である。
発明が解決しようとする問題点 以上のような構成で問題となるのは次の点である。
従来から高周波加熱装置の電波分布均一化手段として硼
硅酸ガラス等の誘電体材料よりなる回転載置台を回転さ
せるターンテーブル方式がよく用いられている。第3図
の従来例もこの方式であるが、この構成での欠点は、底
部の加熱が弱く特に回転の中央部が弱くなる傾向が見ら
れる。この原因は、回転台6は通常において耐久性・耐
熱性・経済性を考慮して金属が用いられるが、この金属
製回転台5のために高周波電波が反射してしまい被加熱
物に吸収されないためである。特に回転の中心は動きが
少いため電波が弱くなる。この対策として回転台5に複
数の穴をあけ、この穴を介して食品の底から電波を吸収
させる方法が提案されているが効果が不十分であり根本
的な対策が必要であった。
本発明は以上のような従来の問題点を解決するもので簡
単な構成で、被加熱物の底部の加熱を強め、被加熱物全
体を均一に加熱でき調理性能に優れた、しかも従来に比
べてコストダウンが可能な高周波加熱装置を提供するも
のである。
問題点を解決するための手段 上記目的を達ザるため、本発明の高周波加熱装置は、被
加熱物を収納して加−する加熱室と、前記加熱室底面に
設けられ前記被加熱物を載置して回転する回転載置台と
、前記加熱室外に配設するとともに前記回転載置台を回
動させる駆動手段とを有し、前記回転載置台は金属導体
線によってすのこ状に構成されている。
作  用 本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を載置する回転載
置台を金属導体線によってすのこ状に構成したため、高
周波電波が回転載置台の下方からすのこを通過して容易
に被加熱物の底部に吸収される。従って被加熱物の均一
な加熱が可能になり調理性能が向上する。また、すのこ
を形成する金属導体線は方向性を持って電波を反射する
が、回転するために電波の乱反射が起こり加熱室内は均
一な電波分布となる。この効果はいわゆるスタラー羽根
を設けた場合のスタラー効果と同じものである。このよ
うに回転載置台を金属導体線ですのこ状に構成したため
に、被加熱物が加熱室内を回転移動し平均的に均一な加
熱を受ける効果とスタラー効果が相乗して、非常に電波
分布性能の良い調理性能が大巾に向上した高周波加熱装
置とすることができる。
また、回転載置台は金属なので支持脚を構成することが
できる。このため従来必要であった大きな回転台を小さ
な駆動軸に変更することが可能である。このように回転
載置台の駆動機構を簡略化できコストダウンを行なえる
実施例 以下、本発明の一実施例について図面に基づき説明する
第1因は本発明の一実施例の高周波加熱装置の概略正面
断面図である。加熱室1内の被加熱物2は、高周波発生
装置3から発生する高周波電波により内部を加熱される
。7は金属導体線によってすのこ状に構成された回転載
置台、8は回転モータ6の回転を前記回転載置台に設け
た係合部に嵌合して伝える駆動軸である。
第2図は前記回転載置台7の詳細図で、外周を形成する
外枠9・に縦の網棒9bと横の網棒9cが溶着固定され
、すのこを形成している。1oは前記外枠91こ溶着固
定される支持脚、11は前記駆動軸8と嵌合して前記回
転載置台7を回転させる係合金具である。
第1図上の矢印で示されるように高周波発生装置3から
発生した高周波電波は回転載置台7の下方からすのこを
通過し被加熱物2の底面に均一に吸収される。このよう
に従来から問題であった被加熱物2の底面部分の加熱も
良好に行われる。
また、回転載置台7を形成する外枠9mと網棒(eb、
9a)は高周波電波を反射する。回転載置台7は回転す
るので電波の反射は加熱室1の全方向に起こり電波分布
は加熱室1内で一様となる。
その結果高周波加熱調理を行うと被加熱物2は一様に加
熱され加熱むらのない良好な出来上がりとなる。さらに
被加熱物2は回転載置台7とともに加熱室1内を回転移
動するために、被加勢物2の吸収する電波の強弱は平均
化され一様となる。この2つの効果のために、調理性能
においては従来に比べ飛躍的な向上が望める。
また、本実施例では従来使われていた回転台を回転載置
台7に支持脚10を設けることにより、小さな駆動軸に
変えている。このように回転載置台7の駆動機構を簡略
化できるため、大巾なコストダウンが可能になった。
発明の効果 以上のように本発明の高周波加熱装置によれば、被加熱
物を載置して回転する回転載置台を、金属導体線により
すのこ状に構成したために、次の効果を得ることができ
る。
(1)高周波電波は、回転載置台の下方からすのこを通
過して被加熱物底面に一様に吸収されるので、良好な加
熱調理が行える。
(2)高周波電波は、回転載置台を形成する外枠・網棒
に反射されるが、この回転載置台は回転するために高周
波電波は加熱室内に一様に乱反射される。このため高周
波電波分布は立体分布・平面分布ともに一様になり、被
加熱物は大きさが変わっても一様に加熱され、調理性能
の大巾な向上が望める。
(3)回転載置台を金属にしたため、回転載置台に直接
支持脚を設けることができる。その結果回転載置台の駆
動機構の簡略化が可能となり大巾なコストダウンを行え
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における高周波加熱装置の要
部正面断面図、第2図(a)* (b)は同装置の回転
載置台の正面図および平面図、第3図は従来の高周波加
熱装置の要部正面断面図である。 1・・・・・・加熱室、3・・・・・・高周波発生装置
、6・・・・・・モータ、7・・・・・・回転載置台、
8・・・・・・駆動軸。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はか1名/−
−−加熊菫 2−−一被加熊! 3−一一鶴岡浪発生表1 6−−−モータ 7−−−回転戦iIL色 第1図     8−N動軸 7−−−回IEIL台 9(L−−一外砕 業 2 図               9b−一一
縦の橢卑9C−−−櫃の網棒 lO−一一曳特周 (α)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被加熱物を収納して加熱する加熱室と、前記加熱
    室底面に設けられ前記被加熱物を載置して回転する回転
    載置台と、前記加熱室外に配設され、前記回転載置台を
    回動させる駆動手段とを有し、前記回転載置台は金属導
    体線によってすのこ状に構成されたことを特徴とする高
    周波加熱装置。
  2. (2)回転載置台は外周を形成する外枠と、前記外枠に
    溶着固定され略平面を形成する網棒と、前記外枠と前記
    網棒を支持する支持脚とから成る構成とした特許請求の
    範囲第1項記載の高周波加熱装置。
JP62-155889A 1987-06-23 高周波加熱装置 Pending JPH01689A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62-155889A JPH01689A (ja) 1987-06-23 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62-155889A JPH01689A (ja) 1987-06-23 高周波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS64689A JPS64689A (en) 1989-01-05
JPH01689A true JPH01689A (ja) 1989-01-05

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