JPH0173923U - - Google Patents

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JPH0173923U
JPH0173923U JP1987168867U JP16886787U JPH0173923U JP H0173923 U JPH0173923 U JP H0173923U JP 1987168867 U JP1987168867 U JP 1987168867U JP 16886787 U JP16886787 U JP 16886787U JP H0173923 U JPH0173923 U JP H0173923U
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  • Ventilation (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案を半導体製造工場内のクリーン
ルームと処理装置に適用した実施例を説明するた
めの図、第２図は第１図の授受具を説明するため
の上面図、第３図は第１図の収納口を開閉する機
構の他の実施例を説明するための図、第４図は第
１図の動作を簡単に説明するフロー図である。 図において、１…クリーンルーム、１０…半導
体ウエハ、１１…処理装置、１２…処理室、１３
…壁、１４…搬送装置、１５…搬送室、１７…収
納口、１９…授受具、３１…載置台。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 第１のクリーン度のクリーンな部屋内に設
    けられた処理装置と、この処理装置で被処理体を
    授受する際、上記第１のクリーン度より高い第２
    のクリーン度のクリーンな部屋内に上記処理装置
    から上記被処理体授受具を導出する手段と、上記
    授受具位置で上記被処理体の受渡し操作する手段
    と、上記被処理体を受けた後上記授受具を処理装
    置内に収納して処理する手段とを具備してなるこ
    とを特徴とする処理装置。 (2) 上記処理装置から上記被処理体授受具を導
    出する手段と上記被処理体を受けた後上記授受具
    を処理装置内に収納して処理する手段に応じて、
    上記授受具を導出し収納する収納口が開閉するこ
    とを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記
    載の処理装置。 (3) 被処理体は半導体ウエハであることを特徴
    とする実用新案登録請求の範囲第１項記載の処理
    装置。
JP1987168867U 1987-11-04 1987-11-04 処理システム Expired - Lifetime JPH0614472Y2 (ja)

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JPH0173923U true JPH0173923U (ja) 1989-05-18
JPH0614472Y2 JPH0614472Y2 (ja) 1994-04-13

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009127981A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Semiconductor Energy Lab Co Ltd クリーンルーム、成膜方法、および半導体装置の作製方法

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JP5366030B2 (ja) * 2011-09-22 2013-12-11 村田機械株式会社 クリーンルーム用の自動倉庫
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JPS63292616A (ja) * 1987-05-26 1988-11-29 Shimizu Constr Co Ltd 半導体製造装置

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