JPS625031A - 部分的に清浄度の異なるクリ−ンル−ム - Google Patents

部分的に清浄度の異なるクリ−ンル−ム

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JPS625031A
JPS625031A JP60141760A JP14176085A JPS625031A JP S625031 A JPS625031 A JP S625031A JP 60141760 A JP60141760 A JP 60141760A JP 14176085 A JP14176085 A JP 14176085A JP S625031 A JPS625031 A JP S625031A
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JP
Japan
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cleanliness
clean room
room
chamber
different levels
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JP60141760A
Other languages
English (en)
Inventor
Masami Suzuki
鈴木　正身
Hiroki Yamaguchi
山口　宏紀
Hisato Katayama
片山　久人
Koreyoshi Muta
牟田　惟義
Masakuni Okubo
大久保　昌邦
Akira Mochizuki
明 望月
Hiroshi Adachi
安達　裕志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kajima Corp
Original Assignee
Kajima Corp
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F7/00—Ventilation
    • F24F7/04—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation
    • F24F7/06—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit
    • F24F7/10—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit with air supply, or exhaust, through perforated wall, floor or ceiling

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は半導体工場、精密機械工場などの無塵室ある
いは無菌室に適用されるクリーンルームに関するもので
ある。
〈従来技術とその問題点〉 例えば半導体工場においては、近年、超ＬＳＩの高集積
化・超微細化に伴なう製造技術の高度化への対応として
超清浄度空間の必要性が増大している。
さらに、製造技術の高度化に伴い装置の全自動化、自動
搬送装置の普及、製造ラインの無人化等が進み、それに
対応したクリーンルーム設備の必要が生じている。
一般にクリーンルームは、除塵装置としてのＨＥＰＡフ
ィルタを天井全面に取付ける層流方式、ＨＥＰＡフィル
タを散在配置する乱流方式があり、吹出し風速、換気量
等を変えることによりクラス１００、クラス１０００、
クラス１００００（１ｆｔ’当りの粒子個数）などにク
ラス分けすることができる。
クラス１００以上の清浄度の高いクリーンルームを得る
方式としては、第２図に示すような全面垂直層流方式が
あり、天井全面にＨＥＰＡフィルタ１を取付け、サプラ
イチャンバ２から一様な風速の垂直気流を吹出し、リタ
ーンチャンバ３へ排気し、空調機４により循環させる構
成となっている。
このような全面垂直層流方式の場合、フレキシビリティ
およびメンテナンスの面で有利であり、均一な気流が得
られる利点があるが、次のような問題点がある。
■　ＨＫＰＡフィルタを全面に取付けることと、全体風
量をまかなう空調機が必要なことから、イニシャルコス
トが高くなる。
■　全体風景をまかなう空調機のファン駆動によりラン
ニングコストが高くなる。
■　ファンの容量が大きく振動の発生源となる。
このような問題点を解消すべく第３図に示すように特に
清浄度の要する部分をクリーンライン５内に配置する方
式が提案されている。
このような方式の場合、必要部分のみＨ］１ｍＰＡフィ
ルタ１を取付け、必要部分のみ送風すれば良いから、イ
ニシャルコストおよびランニングコストを低減すること
ができるものの次のような問題点がある。
■　ルーム内のファン６、天井内ダクト７などによりフ
レキシビリティおよびメンテナンスに難がある。
■　ファンの振動が床（装置）へ伝わる。
■　クリーンライン部分周辺で気流が乱れる。
■　ダクト施工などにより工期が長くなる。
この発明はこのような事情に鑑みて提案されたもので、
その目的は清浄度の高い部分が容易に得られ、しかも全
ての面で有利なりリーンルームを提供することにある。
〈問題点を解決するための手段〉 この発明に係るクリーンルームは、半導体製造装置等の
処理箇所を垂れ壁により二つに区画し、高い清浄度を必
要とする処理箇所のある室を全面層流形の室とし、最重
要ゾーンのみを清浄度の高い室として超クリーンスペー
スを最小限に絞ったものである。
〈実施例〉 以下この発明を図示する一実施例に基づいて説明する。
なお、従来と同一あるいは相当する部分には同一符号を
付す。
第１図に示すように、クリーンルームはガラス製の間仕
切壁８により無人の半導体製造室Ｒが形成され、この室
Ｒ内に半導体製造装置９が設置されている。
半導体製造装置９のウェハー取入れ部分９Ａおよび自動
搬送ロボット１０はウェハーが室内空気に露出するゾー
ンであり、この最重要ゾーンを垂れ壁１１により仕切っ
て全面垂直層流方式の室Ｒ１としクラス１００（粒子径
０．１μｍ）以下の清浄度とする。
一方の室Ｒ２はウェハーが室内空気に露出しないが製造
装置９が存在する重要ゾーンであるので、乱流方式とし
クラス１０００（粒子径ｏ、３１１ｍ）以下の清浄度と
する。
製造室Ｒの外側は作業員が存在する一般ゾーンであり、
乱流方式のクラス１ｏ、ｏ　ｏ　ｏ　（粒子径０．５μ
ｍ）の清浄度とする。
各室Ｒ１、Ｒ２、Ｒｓとも同じサプライチャンバ２、リ
ターンチャンバ６を使用する。
垂れ壁１１はプラスチック系の静電防止プレートであり
、製造装置９とは２０〜５Ｑｔｍのクリアランスが設け
られ、装置９のないところで床支持されている。
また、室Ｒ２においては垂れ壁１１近傍にＨＥＰＡフィ
ルタ１を多く配置しておく。
ここで、各室の清浄度はＨＥＰＡフィルタ１の仕様、設
置数、−処理風量（換気回数）などを調整することによ
り行なう。
（例） 室Ｒ＋（全面層流）：換気回数４８０＠／ｈ（吹出風速
０．４ｍ／θ） 室Ｒ２（乱流）：換気回数５０回／ｈ 室Ｒ２（乱流）：換気回数３０回／ｈ また、均一な吹出し風速を得るにはサプライチャンバ２
の内圧を均一にすれば良く、このためにはチャンバ容積
を充分大きくシ、チャンバ２の高さを１．５ｍ以上とし
、チャンバ２へノ吹込み風速を一般の７〜９　ｍ／Ｂか
ら４ｍ／８以下と低くシ、さらに、均一な吹出し風量が
得られるようにする。
ここで、リターンチャンバ３においては、空調機４に近
い部分が吸込み易く、遠い部分が吸込みにくいため、リ
ターンチャンバ３の空調機４に近い部分の吸込口の抵抗
を増し、遠い側の吸込口の抵抗を減らせば良い。
このため、床グレーチング１２の開口にフィルタ付シャ
ッター１６を設け、全体的に抵抗を与えるとともに各部
分の吸込み抵抗を調整して均一な吸込み風量が得られる
ようにしである。
なお、生産機器レイアウトが変更しても、ＨＥＰＡフィ
ルタの仕様、配置、枚数の変更、垂れ壁１１の移設など
により容易に対応できる。
〈発明の効果〉 前述のとおりこの発明によれば特に清浄度を要する部分
を垂れ壁により仕切り、全面層流方式としたため、清浄
度の高い部分を容易に得られ、しかも次のような従来の
二方式の利点を併せ持つことができる。
（１）　　ＨＲＰＡフィルタの変更、垂れ壁の変更など
でレイアウトを容易に変えることができ、フレキシビリ
ティの面で有利である。
（１１）天井内のダクトや室内のファンなどがなく、メ
ンテナンスの面で有利である。
（ｉｉｉ）　　必要部分のみのＨＥＰＡフィルタの取付
け、必要最小限の送風によりイニシャルコストランニン
グコストの低減が図れる。
Ｑｖ）　　風速・気流の均一化を容易に図ることができ
る。
（ｖ）　　ファンの振動の遮断を容易に行なうことがで
きる。
（ｖｌ）　　ダクト施工がなく、ファン取付けが、少な
く工期の短縮を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明に係るクリーンルームを示す概略断面
図、第２図は従来の全面層流方式のクリーンルームを示
す概略断面図、第３図は従来のフリートンネル方式のク
リーンルームを示す概略断面図である。 １・・ＨＫＰＡフィルタ、２・・サプライチャンバ、３
・・リターンチャンバ、４・・空調機、５・・クリーン
ライン、６・・ファン、７・・天井内ダクト、８・・間
仕切壁、９・・半導体製造装置、９Ａ・・取入れ部分、
１０・・自動搬送ロボット、１１・・垂れ壁、１２・・
床グレーチング、１３・拳フイルり付シャ゛ンター。 第２図 第３ＷＩ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）処理箇所を垂れ壁により二つに区画し、高い清浄
    度を必要とする処理箇所のある室を全面層流形の室とし
    かつ同一の天井サプライチャンバーより給気したことを
    特徴とする部分的に清浄度の異なるクリーンルーム。
JP60141760A 1985-06-28 1985-06-28 部分的に清浄度の異なるクリ−ンル−ム Pending JPS625031A (ja)

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GB8615921A GB2177501B (en) 1985-06-28 1986-06-30 Clean room
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