JPH0193728U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0193728U JPH0193728U JP19085987U JP19085987U JPH0193728U JP H0193728 U JPH0193728 U JP H0193728U JP 19085987 U JP19085987 U JP 19085987U JP 19085987 U JP19085987 U JP 19085987U JP H0193728 U JPH0193728 U JP H0193728U
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- JP
- Japan
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- blowout
- gas
- passage
- semiconductor substrate
- reaction gas
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- Pending
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- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 claims description 6
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
Description
第１図は本考案の一実施例を示す気相成長装置
の概略断面図、第２図は第１図に示された気相成
長装置による膜厚のばらつきを示す図、第３図は
従来の気相成長装置の概略断面図、第４図は従来
の気相成長装置による膜厚のばらつきを示す図、
第５図は従来の気相成長装置によつて生じたＣＶ
Ｄ膜の縞模様を示す平面図である。 １０……気相成長装置、１１……サセプタ、１
２……ヒータ（加熱手段）、１３……ガスデイス
パージヨンヘツド、１５……第１噴出通路、１６
……第２噴出通路、２０……反応ガス噴き出し部
、２１……反応空間、２３……第３噴出通路、２
５……排気通路、２６……排気空間、２８……緩
衝領域。
の概略断面図、第２図は第１図に示された気相成
長装置による膜厚のばらつきを示す図、第３図は
従来の気相成長装置の概略断面図、第４図は従来
の気相成長装置による膜厚のばらつきを示す図、
第５図は従来の気相成長装置によつて生じたＣＶ
Ｄ膜の縞模様を示す平面図である。 １０……気相成長装置、１１……サセプタ、１
２……ヒータ（加熱手段）、１３……ガスデイス
パージヨンヘツド、１５……第１噴出通路、１６
……第２噴出通路、２０……反応ガス噴き出し部
、２１……反応空間、２３……第３噴出通路、２
５……排気通路、２６……排気空間、２８……緩
衝領域。
Claims (1)
- 半導体基板を支持するサセプタと、このサセプ
タ上の半導体基板を加熱する加熱手段と、ＣＶＤ
膜を生成するための第１の反応ガスを上記半導体
基板に向けて噴き出す複数の第１噴出通路および
ＣＶＤ膜を生成するための第２の反応ガスを上記
半導体基板に向けて噴き出す複数の第２噴出通路
からなりかつこれら第１噴出通路と第２噴出通路
を交互に配置してなる反応ガス噴き出し部と、こ
の反応ガス噴き出し部の周囲に配置されて上記噴
出通路から出る余剰ガスの排気を行なう排気通路
と、この排気通路と上記反応ガス噴き出し部との
間に配置されかつ上記第１の反応ガスと同種のガ
スかまたは不活性ガスを噴き出すことにより反応
空間と排気空間との間に緩衝領域をつくりだす第
３噴出通路とを具備したことを特徴とする気相成
長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19085987U JPH0193728U (ja) | 1987-12-16 | 1987-12-16 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19085987U JPH0193728U (ja) | 1987-12-16 | 1987-12-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0193728U true JPH0193728U (ja) | 1989-06-20 |
Family
ID=31481798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19085987U Pending JPH0193728U (ja) | 1987-12-16 | 1987-12-16 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0193728U (ja) |
-
1987
- 1987-12-16 JP JP19085987U patent/JPH0193728U/ja active Pending