JPH0196027A - ガラスの製造方法 - Google Patents
ガラスの製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガラスの製造方法に関する。
本発明は、金属アルコキシドを出発原料とするゾル−ゲ
ル法によるガラスの製造において、第２図に示すような
ＩＩ （を込み容器に仕込んで作ったウェットゲルを、
第３図に示すような縦仕込み容器の仕切り板上で、第１
図の吠態で乾燥するというガラスの製造方法である。従
来の縦仕込み法における乾燥は、縦仕込み容器にゾルを
（セ込んで作ったウェットゲルを、そのままでは乾燥出
来ないので縦仕込み容器から引き抜き、ポリプロピレン
製やテフロン製の容器に移し替えて乾燥していた。
ル法によるガラスの製造において、第２図に示すような
ＩＩ （を込み容器に仕込んで作ったウェットゲルを、
第３図に示すような縦仕込み容器の仕切り板上で、第１
図の吠態で乾燥するというガラスの製造方法である。従
来の縦仕込み法における乾燥は、縦仕込み容器にゾルを
（セ込んで作ったウェットゲルを、そのままでは乾燥出
来ないので縦仕込み容器から引き抜き、ポリプロピレン
製やテフロン製の容器に移し替えて乾燥していた。
しかしこの方法だと、非常にもろいウェットゲルを単体
で乾燥容器に移し替えなければならず、作業に非常に注
意を要した。したがって工数がかかり、また、移し替え
時の歩留りも悪かった。そこで、本発明では、移し替え
ること無しに仕切り板の上で、乾燥することにしたので
ある。これにより、乾燥の準備はウェットゲルを仕切り
板ごと縦仕込み容器から引き抜いて、乾燥容器にセツテ
ィングするだけで良い。また、ウェットゲルは常に仕切
り仮によって保護されているので、移し替え時の不注意
による割れを、格段に減らすことが出来る。
で乾燥容器に移し替えなければならず、作業に非常に注
意を要した。したがって工数がかかり、また、移し替え
時の歩留りも悪かった。そこで、本発明では、移し替え
ること無しに仕切り板の上で、乾燥することにしたので
ある。これにより、乾燥の準備はウェットゲルを仕切り
板ごと縦仕込み容器から引き抜いて、乾燥容器にセツテ
ィングするだけで良い。また、ウェットゲルは常に仕切
り仮によって保護されているので、移し替え時の不注意
による割れを、格段に減らすことが出来る。
従来の縦仕込ろ法における乾燥は、縦仕込み容器にゾル
を仕込んで作ったウェットゲルを、そのままでは乾燥出
来ないので縦仕込み容器から引き抜き、ウェットゲルを
単体でポリプロピレン製やテフロン製の容器に移し替え
て乾燥していた。しかしこの方法だと、非常にもろいウ
ェットゲルを単体で乾燥容器に移し替えなければならず
、作業に非常に注意を要した。したがって、工数がかか
り、また、移し替え時の歩留りも悪かった。
を仕込んで作ったウェットゲルを、そのままでは乾燥出
来ないので縦仕込み容器から引き抜き、ウェットゲルを
単体でポリプロピレン製やテフロン製の容器に移し替え
て乾燥していた。しかしこの方法だと、非常にもろいウ
ェットゲルを単体で乾燥容器に移し替えなければならず
、作業に非常に注意を要した。したがって、工数がかか
り、また、移し替え時の歩留りも悪かった。
しかし、前述の従来技術では、非常にもろいウェットゲ
ルを単体で乾燥容器に移し替えなければならず、作業は
非常に注意を要した。したがって工数がかかり、また、
移し替えの歩留りも悪かったという問題点を有する。そ
こで、本発明では、移し替えることに無しに仕切り板の
上で乾燥するという方法を用いることにより、乾燥の準
備はウェットゲルを仕切り仮ごと縦仕込み容器から引き
抜いて、乾燥容器にセツティングするだけで良くなって
いる。またウェットゲルは常に仕切り板によって保護さ
れているので、移し替え時の不注意による割れを格段に
減らすことが出来る。したがって、その目的とするとこ
ろは移し替え工程での歩留りの向上と工数の大幅な合理
化をもたらすところにある。
ルを単体で乾燥容器に移し替えなければならず、作業は
非常に注意を要した。したがって工数がかかり、また、
移し替えの歩留りも悪かったという問題点を有する。そ
こで、本発明では、移し替えることに無しに仕切り板の
上で乾燥するという方法を用いることにより、乾燥の準
備はウェットゲルを仕切り仮ごと縦仕込み容器から引き
抜いて、乾燥容器にセツティングするだけで良くなって
いる。またウェットゲルは常に仕切り板によって保護さ
れているので、移し替え時の不注意による割れを格段に
減らすことが出来る。したがって、その目的とするとこ
ろは移し替え工程での歩留りの向上と工数の大幅な合理
化をもたらすところにある。
本発明のガラスの製造方法は、金属アルコキシドを出発
原料とするゾル−ゲル法によるガラスの製造において、
縦型住込み容器に仕込んで作ったウェットゲルを、縦型
仕込み容器の仕切り板上で乾燥することを特徴とする。
原料とするゾル−ゲル法によるガラスの製造において、
縦型住込み容器に仕込んで作ったウェットゲルを、縦型
仕込み容器の仕切り板上で乾燥することを特徴とする。
本発明の上記の構成によれば、移し替え工程での歩留り
の向上と、工数の大幅な合理化をもたらすことができる
。
の向上と、工数の大幅な合理化をもたらすことができる
。
実施例１
テトラエトキシシラン１７．９１及びＯ，Ｏｆ規定塩酸
水溶液２３．５１及びシリカ微粒子（アエロジル０Ｘ−
５０、西独、デグサ社製）１０ｋｇを混合して、１時間
激しく撹拌して加水分解液を得た。得られたゾルに超音
波（２６ｋＨｚ、１２００Ｗ）を４時間照射して粗粒を
粉砕し、分散した。超音波照射により得られたゾルを今
度は遠心分Ｋｍに積り、１５００Ｇで１５分間、遠心力
を印加し、残留している粗粒及び、異物を除去した。次
に得られたゾル′を１０μｍｓ ７μｍ％ ３μｍ％
１μｍの順でプレフィルタ−を通した後、メンプラン
５μｍのフィルターを通した。
水溶液２３．５１及びシリカ微粒子（アエロジル０Ｘ−
５０、西独、デグサ社製）１０ｋｇを混合して、１時間
激しく撹拌して加水分解液を得た。得られたゾルに超音
波（２６ｋＨｚ、１２００Ｗ）を４時間照射して粗粒を
粉砕し、分散した。超音波照射により得られたゾルを今
度は遠心分Ｋｍに積り、１５００Ｇで１５分間、遠心力
を印加し、残留している粗粒及び、異物を除去した。次
に得られたゾル′を１０μｍｓ ７μｍ％ ３μｍ％
１μｍの順でプレフィルタ−を通した後、メンプラン
５μｍのフィルターを通した。
得られた均一なゾルを、０．０１規定のアンモニア水を
用いて、ｐＨ値を２．２から４．０に引き上げた。更に
得られたゾルを再び遠心分離機にとり、１５００Ｇを１
５分間印加した後、再びメンプラン５μｍのフィルター
を通して、第２図に示す縦住込み容器に仕込んだ。この
縦住込み容器は２５ｃｍＸ２５ｃｍＸ１．８０の大きさ
のウェットゲルが１２枚得るれるように作られている。
用いて、ｐＨ値を２．２から４．０に引き上げた。更に
得られたゾルを再び遠心分離機にとり、１５００Ｇを１
５分間印加した後、再びメンプラン５μｍのフィルター
を通して、第２図に示す縦住込み容器に仕込んだ。この
縦住込み容器は２５ｃｍＸ２５ｃｍＸ１．８０の大きさ
のウェットゲルが１２枚得るれるように作られている。
１昼夜密閉して放置したところ、ゾルはゲル化し、ウェ
ットゲルが得られた。得られたウェットゲルを第１図に
示すような形で、乾燥容器にセットした。移し替え時に
ウェットゲル１２枚に割れはなかった。また１２枚移し
替えるのに要した時間は４分だった。
ットゲルが得られた。得られたウェットゲルを第１図に
示すような形で、乾燥容器にセットした。移し替え時に
ウェットゲル１２枚に割れはなかった。また１２枚移し
替えるのに要した時間は４分だった。
開口率０．３％の穴の問いた蓋にかえ、乾燥機にいれて
、６０℃で１週間乾燥して、乾燥ゲルを得た。この時の
乾燥歩留りは、１２枚中割れはなく、１００％であった
。
、６０℃で１週間乾燥して、乾燥ゲルを得た。この時の
乾燥歩留りは、１２枚中割れはなく、１００％であった
。
得られた乾燥ゲルを２００℃で更に乾燥して残留してい
る水分を完全に除去した。これを、大気炉に入れ、Ｄｒ
ｙ−Ａｉｒ雰囲気で１０００°Ｃで焼結した。次に、真
空炉に入れて、真空にて１４００℃にて焼結したところ
、石英ガラスが得られた。
る水分を完全に除去した。これを、大気炉に入れ、Ｄｒ
ｙ−Ａｉｒ雰囲気で１０００°Ｃで焼結した。次に、真
空炉に入れて、真空にて１４００℃にて焼結したところ
、石英ガラスが得られた。
比較例１
実施例１と同様にして仕込みをして得られた１２枚のウ
ェットゲルを乾燥容器に第４図の状態に移し替えた。１
２枚中３枚が割れ、このときの移し替えの歩留りは、７
５％であった。また、移し替えに要した時間は１１分で
あった。開口率０゜３％の穴の開いた蓋にかえ、乾燥機
にいれて、６０℃で１週間乾燥して、乾燥ゲルを得た。
ェットゲルを乾燥容器に第４図の状態に移し替えた。１
２枚中３枚が割れ、このときの移し替えの歩留りは、７
５％であった。また、移し替えに要した時間は１１分で
あった。開口率０゜３％の穴の開いた蓋にかえ、乾燥機
にいれて、６０℃で１週間乾燥して、乾燥ゲルを得た。
得られた乾燥ゲルを、実施例１と同様の条件にて焼結し
て、石英ガラスを得た。
て、石英ガラスを得た。
実施例２
エタ／−ルア、２００ｍｂ 水２，０００ｍ１１アン
モニア水２４０ｍ１を撹拌して均一系にしたところへテ
トラエトキシシラ７４，９８０ｍ１を撹拌しながら添加
した。３時間ゆっくり撹拌して放置したところ、シリカ
微粒子が生成した。
モニア水２４０ｍ１を撹拌して均一系にしたところへテ
トラエトキシシラ７４，９８０ｍ１を撹拌しながら添加
した。３時間ゆっくり撹拌して放置したところ、シリカ
微粒子が生成した。
得られた、シリカ分散液をロータリーエバポレーターを
使って３１にまで濃縮した。これをＡ液とする。この操
作を５回行ない、１５１のＡ液を得た。
使って３１にまで濃縮した。これをＡ液とする。この操
作を５回行ない、１５１のＡ液を得た。
つぎにテトラエトキシシラン１１，２８０ｍ１と０．０
２規定塩酸水３，２００ｍ１を混合し１時間激しく撹拌
しテトラエトキシシランの加水分解液を得た。これをＢ
液とする。
２規定塩酸水３，２００ｍ１を混合し１時間激しく撹拌
しテトラエトキシシランの加水分解液を得た。これをＢ
液とする。
ＡｆｉＱＰＨ値を２規定の塩酸を用いて４．５に調整し
、Ｂ液と混合してよく撹拌した。得られたゾルを４０μ
ｍ１５μｍの順でフィルターを通して、第２図に示す縦
仕込み容器に仕込んだ。この縦仕込み容器は３０ｃｍＸ
３０ＣＩＸ １．６ｃｍの大きさのウェットゲルが１２
枚得るれるように作られている。
、Ｂ液と混合してよく撹拌した。得られたゾルを４０μ
ｍ１５μｍの順でフィルターを通して、第２図に示す縦
仕込み容器に仕込んだ。この縦仕込み容器は３０ｃｍＸ
３０ＣＩＸ １．６ｃｍの大きさのウェットゲルが１２
枚得るれるように作られている。
１昼夜密閉して放置したところ、ゾルはゲル化し、ウェ
ットゲルが得られた。得られたウェットゲルを第１図に
示すような形で、乾燥容器にセットした。移し替え時に
ウェットゲル１２枚に割れはなかった。また１２枚移し
替えのに要した時間は５分だった。
ットゲルが得られた。得られたウェットゲルを第１図に
示すような形で、乾燥容器にセットした。移し替え時に
ウェットゲル１２枚に割れはなかった。また１２枚移し
替えのに要した時間は５分だった。
開口率０．３％の穴の開いた蓋にかえ、乾燥機にいれて
、６０°Ｃで１週間乾燥して、乾燥ゲルを得た。この時
の、乾燥歩留りは１２枚中割れはなく、１００％であっ
た。
、６０°Ｃで１週間乾燥して、乾燥ゲルを得た。この時
の、乾燥歩留りは１２枚中割れはなく、１００％であっ
た。
得られた乾燥ゲルを２００°Ｃで更に乾燥して残留して
いる水分を完全に除去した。これを、さらに４００℃で
乾燥して残留している塩化アンモニアを除去した。つぎ
に、大気炉に入れ、Ｄ ｒ ｙ −Ａｉｒ雰囲気で８０
０℃で焼結した。次に、真空炉に入れて、真空にて１８
００℃にて焼結したところ、石英ガラスが得られた。
いる水分を完全に除去した。これを、さらに４００℃で
乾燥して残留している塩化アンモニアを除去した。つぎ
に、大気炉に入れ、Ｄ ｒ ｙ −Ａｉｒ雰囲気で８０
０℃で焼結した。次に、真空炉に入れて、真空にて１８
００℃にて焼結したところ、石英ガラスが得られた。
比較例２
実施例２と同様にして仕込みをして得られた１２枚のウ
ェットゲルを乾燥容器に第４図の状態に移し替えた。１
２枚中５枚が割れ、このときの移し替えの歩留りは、４
１．７％であった。また、移し替えに要した時間は１８
分であった。開口率０．３％の、穴の開いた蓋にかえ、
乾燥機にいれて、６０℃で１週間乾燥して、乾燥ゲルを
得た。
ェットゲルを乾燥容器に第４図の状態に移し替えた。１
２枚中５枚が割れ、このときの移し替えの歩留りは、４
１．７％であった。また、移し替えに要した時間は１８
分であった。開口率０．３％の、穴の開いた蓋にかえ、
乾燥機にいれて、６０℃で１週間乾燥して、乾燥ゲルを
得た。
得られた乾燥ゲルを、実施例２と同様の条件にて焼結し
て、石英ガラスを得た。
て、石英ガラスを得た。
以上述べてきたように、本発明ではｉａ型住込みにおい
て、縦型仕込み容器の仕切り板上で乾燥することにより
、移し替え歩留りの格段の向上と、移し替え工数の合理
化をもたらしたものである。
て、縦型仕込み容器の仕切り板上で乾燥することにより
、移し替え歩留りの格段の向上と、移し替え工数の合理
化をもたらしたものである。
第１図は仕切り板上での乾燥状態を示した図である。
１２０・・・通気孔
１２１・・・ウェットゲル
１２２・・・ポリプロピレン製乾燥容器１２３・・・蓋
１２４・・・仕切り板
第２図は縦型仕込み容器の概要を示した図である。
１１・・・縦型仕込み容器
１２・・・仕切り板
１３・・・ウェットゲル
第３図は仕切り板の概要を示した図である。
１０１・・・引き抜き穴
１０２・・・仕切り板
１０３・・・スペーサー
第４図は通常の乾燥状態を示す図である。
１３０・・・通気孔
１３１・・・蓋
１３３・・・ウェットゲル
１３４・・・ポリプロピレン製乾燥容器以 上
出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- 金属アルコキシドを出発原料とするゾル−ゲル法による
ガラスの製造において、縦型仕込み容器を仕込んで作っ
たウェットゲルを、縦型仕込み容器の仕切り板上で乾燥
することを特徴とするガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25413287A JPH0196027A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25413287A JPH0196027A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0196027A true JPH0196027A (ja) | 1989-04-14 |
Family
ID=17260661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25413287A Pending JPH0196027A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0196027A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000008221A1 (fr) * | 1998-08-05 | 2000-02-17 | Nippon Steel Corporation | Acier lamine ayant un excellent comportement aux intemperies et une excellente resistance a la fatigue et procede de production de cet acier |
-
1987
- 1987-10-08 JP JP25413287A patent/JPH0196027A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000008221A1 (fr) * | 1998-08-05 | 2000-02-17 | Nippon Steel Corporation | Acier lamine ayant un excellent comportement aux intemperies et une excellente resistance a la fatigue et procede de production de cet acier |
| EP1026276A4 (en) * | 1998-08-05 | 2005-03-09 | Nippon Steel Corp | ROLLED STEEL PRODUCT WITH EXCELLENT WEATHER RESISTANCE AND FATIGUE BEHAVIOR AND METHOD FOR MANUFACTURING THIS PRODUCT |
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