JPH02101059A - Ｎ―スルホメチルグリシネート、その製造方法及びグリホセートタイプの除草剤の製造における使用 - Google Patents
Ｎ―スルホメチルグリシネート、その製造方法及びグリホセートタイプの除草剤の製造における使用Info
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- JPH02101059A JPH02101059A JP1210538A JP21053889A JPH02101059A JP H02101059 A JPH02101059 A JP H02101059A JP 1210538 A JP1210538 A JP 1210538A JP 21053889 A JP21053889 A JP 21053889A JP H02101059 A JPH02101059 A JP H02101059A
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- C07C309/02—Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、化合物Ｎ−スルホメチルグリシネート、該化
合物の製造方法、及びグリホセート（ｇｌｙｐｈｏｓａ
ｔｅ）タイプの除草剤の製造における該化合物の使用に
係わる。
合物の製造方法、及びグリホセート（ｇｌｙｐｈｏｓａ
ｔｅ）タイプの除草剤の製造における該化合物の使用に
係わる。
１哩ガ嶺」
グリホセート（Ｎ−ホスホノメチルクリシン）及びその
塩は当業者に良く知られた広範囲の除草剤である。この
種の除草剤及びその製造方法は例えば下記の特許に開示
されている： ＵＳ ３，７９９．フ５８；ＩＩＳ ３
，８３５，０００ 、 ＵＳ ３，８６８．４０７ ；
ＵＳ ３，９５０，４０２ 。
塩は当業者に良く知られた広範囲の除草剤である。この
種の除草剤及びその製造方法は例えば下記の特許に開示
されている： ＵＳ ３，７９９．フ５８；ＩＩＳ ３
，８３５，０００ 、 ＵＳ ３，８６８．４０７ ；
ＵＳ ３，９５０，４０２ 。
ＵＳ４，０８３，８９３ 、 ＵＳ ４，１４７，７１
９及びＥＰ−＾−０．０１９，３８４゜また、Ｎ−スル
ホメチルグリシンという化合物はＵＳ ４，０６９，０
４８によって公知である。
９及びＥＰ−＾−０．０１９，３８４゜また、Ｎ−スル
ホメチルグリシンという化合物はＵＳ ４，０６９，０
４８によって公知である。
発温７と圧酌−
本発明の目的は、多くの利点、即ち経済性、限定された
操作ステップ数、大きな収率及び工業的規模への発展の
容易さ等の利点を有するグリホセートタイプ除草剤の製
造方法を提供することにある。
操作ステップ数、大きな収率及び工業的規模への発展の
容易さ等の利点を有するグリホセートタイプ除草剤の製
造方法を提供することにある。
１琲１１ＪＬ
本発明は第１に、下記の式
％式％（１）
で示されるＮ−スルホメチルグリシネートに係わる。
前記式中、Ｃ０ＯＲ，は加水分解性カルボン酸エステル
基である。
基である。
加水分解可能な基は当業者には良く知られている。本発
明における加水分解性Ｃ０ＯＲ、基は、水の存在下、場
合によっては酸性又は塩基性の媒質中で分解して、対応
する一ＣＯＯＨ酸及びＲ，ＯＲアルコールを形成し得る
総ての基を意味する。
明における加水分解性Ｃ０ＯＲ、基は、水の存在下、場
合によっては酸性又は塩基性の媒質中で分解して、対応
する一ＣＯＯＨ酸及びＲ，ＯＲアルコールを形成し得る
総ての基を意味する。
加水分解性Ｃ０ＯＲ１基といえば、Ｒ１基が特に下記の
基から選択された基であると理解されたい；線状又は分
枝Ｃ，−Ｃ，８アルキル、好ましくはＣＣｌ２アルキル
； 線状又は分枝Ｃ２−Ｃ１，アルケニル、好ましくはＣ２
−ＣＩ２アルケニル； 線状又は分枝Ｃｚ−ｃ＋ａアルキニル、好ましくはＣ２
−Ｃ，□アルキニル； 線状又は分枝Ｃ３−Ｃｌ３シクロアルキル、好ましくは
Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキル： 線状又は分枝Ｃ５−Ｃｚアリール、好ましくはＣ６Ｃｌ
０アリール； 線状又は分枝Ｃ７−Ｃｌ３アラルキル、好ましくはＣ７
−Ｃｌ＋アラルキル。
基から選択された基であると理解されたい；線状又は分
枝Ｃ，−Ｃ，８アルキル、好ましくはＣＣｌ２アルキル
； 線状又は分枝Ｃ２−Ｃ１，アルケニル、好ましくはＣ２
−ＣＩ２アルケニル； 線状又は分枝Ｃｚ−ｃ＋ａアルキニル、好ましくはＣ２
−Ｃ，□アルキニル； 線状又は分枝Ｃ３−Ｃｌ３シクロアルキル、好ましくは
Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキル： 線状又は分枝Ｃ５−Ｃｚアリール、好ましくはＣ６Ｃｌ
０アリール； 線状又は分枝Ｃ７−Ｃｌ３アラルキル、好ましくはＣ７
−Ｃｌ＋アラルキル。
これらの基は任意に１つ以上のハロゲン原子、又はＣｌ
−Ｃ６アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、
アリール基又はアラルキル基は更に、酸素、硫黄及び窒
素から選択した１〜４個のへテロ原子も含み得る（例え
ばフリル、チオフェニル又はピリジル）。
−Ｃ６アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、
アリール基又はアラルキル基は更に、酸素、硫黄及び窒
素から選択した１〜４個のへテロ原子も含み得る（例え
ばフリル、チオフェニル又はピリジル）。
より好ましくは、Ｒ１をＣ，−Ｃ６アルキル、Ｃ，−Ｃ
，。
，。
アリール又はＣ７−Ｃ１１アラルキル基から選択する。
これらの基は任意に１つ以上のハロゲン原子又はＣ，−
Ｃ６アルコキシ基で置換される。
Ｃ６アルコキシ基で置換される。
本明細書では、化学化合物の式を無イオン形態で示す。
但し、当業者には明らかなように、例えば式（Ｉ）の化
合物のようなアミノ酸は双性イオン形態で存在する。
合物のようなアミノ酸は双性イオン形態で存在する。
ｍ渥
本発明の製造方法の１つは、ホルムアルデヒド、−酸化
硫黄及び式１（２Ｎ−ＣＨ２−ＣＯＯＲ，のグリシネー
トを互いに接触させることからなる。
硫黄及び式１（２Ｎ−ＣＨ２−ＣＯＯＲ，のグリシネー
トを互いに接触させることからなる。
この反応は好ましくは下記のモル比で生起させる：
グリシネート １モル
二酸化硫黄 ０．９５モル〜飽和ホルムアルデ
ヒド ０．９５〜３モル、但し好ましくは、グリシネ
ートの割合より大きくする（１．５〜２．５モル）。
ヒド ０．９５〜３モル、但し好ましくは、グリシネ
ートの割合より大きくする（１．５〜２．５モル）。
この反応操作は通常Ｏ〜１００℃、好ましくは１０℃〜
９０℃の温度で、試薬を単に混合することによって行う
。
９０℃の温度で、試薬を単に混合することによって行う
。
ホルムアルデヒドは入手し易い任意の形態で使用する。
最も一般的な形態は１％〜飽和濃度、好ましくは３０〜
４０％の濃度の水溶液である。
４０％の濃度の水溶液である。
この反応は不活性溶媒の存在下で生起させ得るが、この
ような溶媒が不要な時もある。これは、主にホルムアル
デヒドを水溶液の形態で使用するという理由によって、
通常は反応媒質が水を含んでいるからである。
ような溶媒が不要な時もある。これは、主にホルムアル
デヒドを水溶液の形態で使用するという理由によって、
通常は反応媒質が水を含んでいるからである。
ホルムアルデヒドを非水性形態で使用する場合には、種
々の溶媒を単独で又は混合して使用し得る。
々の溶媒を単独で又は混合して使用し得る。
非プロトン性溶媒の具体例としては、飽和脂肪族炭化水
素、例えばｎ−ペンタン、インペンタン、２メチルヘキ
サン及び２，２．５− ）リメチルヘキサン；芳香族炭
化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びエチ
ルベンゼン；飽和脂肪族エーテル、例えばテトラヒドロ
フラン及びイソペンチルエーテル；芳香族エーテル、例
えばベンジルエチルエーテル；飽和脂肪族又は芳香族ケ
トン、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン及びアセトフェノン；飽和脂肪族又は芳香族ハロゲ
ン化炭化水素、例えばフルオロベンゼン、■−クロロ２
−メチルプロパン及び塩化イソブチル；並びに飽和脂肪
族又は芳香族エステル、例えばイソ醋酸イソブチル、酢
酸エチル及び安息香酸メチルが挙げられる。これらの溶
媒はいずれも単独で又は混合して使用し得る。
素、例えばｎ−ペンタン、インペンタン、２メチルヘキ
サン及び２，２．５− ）リメチルヘキサン；芳香族炭
化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びエチ
ルベンゼン；飽和脂肪族エーテル、例えばテトラヒドロ
フラン及びイソペンチルエーテル；芳香族エーテル、例
えばベンジルエチルエーテル；飽和脂肪族又は芳香族ケ
トン、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン及びアセトフェノン；飽和脂肪族又は芳香族ハロゲ
ン化炭化水素、例えばフルオロベンゼン、■−クロロ２
−メチルプロパン及び塩化イソブチル；並びに飽和脂肪
族又は芳香族エステル、例えばイソ醋酸イソブチル、酢
酸エチル及び安息香酸メチルが挙げられる。これらの溶
媒はいずれも単独で又は混合して使用し得る。
プロトン性溶媒の具体例としては、飽和脂肪族又は芳香
族アルコール、例えばメタノール、エタノール、イソプ
ロパツール及びフェノール；並びに飽和脂肪族又は芳香
族酸、例えば酢酸及び安息香酸が挙げられる。
族アルコール、例えばメタノール、エタノール、イソプ
ロパツール及びフェノール；並びに飽和脂肪族又は芳香
族酸、例えば酢酸及び安息香酸が挙げられる。
別の特に有利な方法は、意外にも、ホルムアルデヒドと
二酸化硫黄と式Ｒ１ＯＨのアルコールと式Ｈ２Ｎ−ＣＨ
２−Ｃ０ＯＨのグリシンとを反応させることからなる。
二酸化硫黄と式Ｒ１ＯＨのアルコールと式Ｈ２Ｎ−ＣＨ
２−Ｃ０ＯＨのグリシンとを反応させることからなる。
この反応は好ましくは下記のモル比で生起させるニ
グリシン １モル
二酸化硫黄 ０．９５モル〜飽和ホルムアルデ
ヒド ０．９５〜３モル、但し好ましくはグリシネー
トより大きい割合（１，５〜２．５モル）にする。
ヒド ０．９５〜３モル、但し好ましくはグリシネー
トより大きい割合（１，５〜２．５モル）にする。
Ｒ１ＯＨＯ，９５モル以上、但し好
ましくはグリシネートの割合より太きく （１，２モル
以上）し、有利には１．５モル以上、極めて有利には１
．８モル以上にする。
以上）し、有利には１．５モル以上、極めて有利には１
．８モル以上にする。
本発明の有利な実施態様の１つではＲＩＯＩＩアルコー
ルを溶媒として使用し、前記したその他の非プロトン性
溶媒を任意に補助溶媒（ｃｏｓｏｌｖｅｎｔｓ）として
使用し得る。溶媒としてはエタノールを選択するのが好
ましい。
ルを溶媒として使用し、前記したその他の非プロトン性
溶媒を任意に補助溶媒（ｃｏｓｏｌｖｅｎｔｓ）として
使用し得る。溶媒としてはエタノールを選択するのが好
ましい。
その他は前記と同じ条件で反応操作を行う。
この最後に述べた方法は、全く予想外ながら、Ｎ−スル
ホメチルグリシネートをかなり大きな収率で形成せしめ
るため、特に好ましい方法である。
ホメチルグリシネートをかなり大きな収率で形成せしめ
るため、特に好ましい方法である。
本発明は、グリホセートタイプの公知の除草剤の製造に
おける式（Ｉ）の化合物の使用にも係わる。
おける式（Ｉ）の化合物の使用にも係わる。
この使用は、式（りの化合物を下記の式：（Ｒ２Ｏ）２
ＰＨ（ｍ 嘗 ［式中（Ｒ２Ｏ） ２ Ｐ （Ｏ）は加水分解性ホスホ
ン酸エステル基である］ で示される亜リン酸エステルと接触させて、下記の式： で示される化合物を得ることからなる。
ＰＨ（ｍ 嘗 ［式中（Ｒ２Ｏ） ２ Ｐ （Ｏ）は加水分解性ホスホ
ン酸エステル基である］ で示される亜リン酸エステルと接触させて、下記の式： で示される化合物を得ることからなる。
これらの加水分解性基は当業者には良く知られている。
加水分解性（Ｒ２Ｏ） ２Ｐ （Ｏ）基は、水の作用に
より、場合によっては酸性又は塩基性の媒質中で、アル
コールＲ２ＯＨ及び酸（Ｏ）Ｐ（ＯＨ）２に分解する基
のことである。
より、場合によっては酸性又は塩基性の媒質中で、アル
コールＲ２ＯＨ及び酸（Ｏ）Ｐ（ＯＨ）２に分解する基
のことである。
加水分解性（Ｒ２Ｏ）２Ｐ（Ｏ）基とは、Ｒ２基が特に
下記の基から選択された基であると理解されたい；線状
又は分枝Ｃ＋ −Ｃ＋ ｓアルキル、好ましくはＣＣ１
□アルキル、 線状又は分枝Ｃ２−Ｃｌ３アルケニル、好ましくはＣ２
−ＣＩ２アルケニル、 線状又は分校島−ＣＩ８アルキニル、好ましくはＣ２−
ＣＩ２アルキニル、 線状又は分枝Ｃ３−Ｃｌ３シクロアルキル、好ましくは
Ｃ２−Ｃ１２シクロアルキル、 線状又は分校Ｃ６−Ｃ１４アリール、好ましくはＣ６−
ＣＯＯアリール、 線状又は分枝Ｃ，−Ｃ，５アラルキル、好ましくは０７
−Ｃ３１アラルキル。
下記の基から選択された基であると理解されたい；線状
又は分枝Ｃ＋ −Ｃ＋ ｓアルキル、好ましくはＣＣ１
□アルキル、 線状又は分枝Ｃ２−Ｃｌ３アルケニル、好ましくはＣ２
−ＣＩ２アルケニル、 線状又は分校島−ＣＩ８アルキニル、好ましくはＣ２−
ＣＩ２アルキニル、 線状又は分枝Ｃ３−Ｃｌ３シクロアルキル、好ましくは
Ｃ２−Ｃ１２シクロアルキル、 線状又は分校Ｃ６−Ｃ１４アリール、好ましくはＣ６−
ＣＯＯアリール、 線状又は分枝Ｃ，−Ｃ，５アラルキル、好ましくは０７
−Ｃ３１アラルキル。
これらの基は任意に１つ以上のハロゲン原子又はＣ，−
Ｃ，アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、ア
リール基又はアラルキル基は更に酸素、硫黄及び窒素か
ら選択した１〜４個のへテロ原子も含み得る（例えばフ
リル、ピリジル及びチオフェニル）。
Ｃ，アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、ア
リール基又はアラルキル基は更に酸素、硫黄及び窒素か
ら選択した１〜４個のへテロ原子も含み得る（例えばフ
リル、ピリジル及びチオフェニル）。
より好ましくは、Ｒ２をＣ，−Ｃ６アルキル、Ｃ６−Ｃ
，。
，。
アリール又はＣｔ−Ｃ＋＋アラルキル基から選択する。
これらの基は任意に１つ以上のハロゲン原子又はＣｌ−
０６アルコキシ基で置換される。
０６アルコキシ基で置換される。
この反応はバルクで（ｉｎ ｔｈｅ ｂｕｌｋ ｐｈａ
ｓｅ）又は不活性溶媒中で生起させる。
ｓｅ）又は不活性溶媒中で生起させる。
非プロトン性溶媒の具体例としては、飽和脂肪族炭化水
素、例えばｎ−ペンタン、イソペンタン、２−メチルヘ
キサン及び２，２．５− ）リメチルヘキサン；芳香族
炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びエ
チルベンゼン；飽和脂肪族エーテル、例えばテトラヒド
ロフラン及びイソペンチルエーテル；芳香族エーテル、
例えばベンジルエチルエーテル；飽和脂肪族又は芳香族
ケトン、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン及びアセトフェノン；飽和脂肪族又は芳香族ハロ
ゲン化炭化水素、例えばフルオロベンゼン、１−クロロ
−２−メチルプロパン及び塩化イソブチル、並びに飽和
脂肪族又は芳香族エステル、例えばイソ酪酸イソブチル
、酢酸エチル及び安息香酸メチルが挙げられる。これら
の溶媒はいずれも単独で又は混合して使用し得る。
素、例えばｎ−ペンタン、イソペンタン、２−メチルヘ
キサン及び２，２．５− ）リメチルヘキサン；芳香族
炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びエ
チルベンゼン；飽和脂肪族エーテル、例えばテトラヒド
ロフラン及びイソペンチルエーテル；芳香族エーテル、
例えばベンジルエチルエーテル；飽和脂肪族又は芳香族
ケトン、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン及びアセトフェノン；飽和脂肪族又は芳香族ハロ
ゲン化炭化水素、例えばフルオロベンゼン、１−クロロ
−２−メチルプロパン及び塩化イソブチル、並びに飽和
脂肪族又は芳香族エステル、例えばイソ酪酸イソブチル
、酢酸エチル及び安息香酸メチルが挙げられる。これら
の溶媒はいずれも単独で又は混合して使用し得る。
プロトン性溶媒の具体例としては、飽和脂肪族又は芳香
族アルコール、例えばメタノール、インプロパツール及
びフェノール；並びに飽和脂肪族又は芳香族酸、例えば
酢酸及び安息香酸が挙げられる。
族アルコール、例えばメタノール、インプロパツール及
びフェノール；並びに飽和脂肪族又は芳香族酸、例えば
酢酸及び安息香酸が挙げられる。
反応温度は５０℃〜２５０℃もしくは溶媒沸点の範囲に
し、好ましくは１００〜２Ｏ０℃にする。
し、好ましくは１００〜２Ｏ０℃にする。
１つの試薬を他の試薬よりかなり過剰な量（モル比で３
７１〜１／３）で使用することは可能ではあるが、実際
の操作では化学量論量から２Ｏ％以上ずれないようにす
るとより有利である。
７１〜１／３）で使用することは可能ではあるが、実際
の操作では化学量論量から２Ｏ％以上ずれないようにす
るとより有利である。
式（ＩＩＩ）の化合物はＥＰ Ｏ，１３５，４５４に記
載の公知の物質である。この物質は、Ｎ−ホスホノメチ
ルグリシン即ちグリホセート除草剤を得るべく、公知の
方法で加水分解し得る。
載の公知の物質である。この物質は、Ｎ−ホスホノメチ
ルグリシン即ちグリホセート除草剤を得るべく、公知の
方法で加水分解し得る。
以下に実施例を挙げて本発明をより詳細に説明する。
グリシン（７，５ｇ 、 １００ミリモル）と９５％エ
タノール（１２Ｏｃｃ）とホルムアルデヒドの３１．５
％水溶液（１９ｇ、２Ｏ０ミリモル）とを、アルコール
温度計付き二首フラスコ内に順次導入する。得られた懸
濁液をＳＯ□で飽和し、ＳＯ□を完全に溶解させる（温
度が４５℃に上昇する）。室温で１時間３０分撹拌する
と、沈澱物が形成し始める。撹拌を更に３時間続け、沈
澱物を濾過し、エタノール（３０ｃｃ）及びエーテル（
３０ｃｃ）で順次洗浄する。乾燥後にスルホメチルグリ
シンエチル（１８，８ｇ）が９５％以上の純度（３６０
ＭＨｚでのＮＭＲで測定）で得られる。これは、出発グ
リシンに対して９５．５％の収率に相当する。
タノール（１２Ｏｃｃ）とホルムアルデヒドの３１．５
％水溶液（１９ｇ、２Ｏ０ミリモル）とを、アルコール
温度計付き二首フラスコ内に順次導入する。得られた懸
濁液をＳＯ□で飽和し、ＳＯ□を完全に溶解させる（温
度が４５℃に上昇する）。室温で１時間３０分撹拌する
と、沈澱物が形成し始める。撹拌を更に３時間続け、沈
澱物を濾過し、エタノール（３０ｃｃ）及びエーテル（
３０ｃｃ）で順次洗浄する。乾燥後にスルホメチルグリ
シンエチル（１８，８ｇ）が９５％以上の純度（３６０
ＭＨｚでのＮＭＲで測定）で得られる。これは、出発グ
リシンに対して９５．５％の収率に相当する。
融点（Ｋｏｆ Ｉｅｒ）は１５４℃である。
Claims (12)
- （１）下記の式 ＨＯ＿３Ｓ−ＣＨ＿２−ＮＨ−ＣＨ＿２−ＣＯＯＲ＿１
（ I ） ［式中、ＣＯＯＲ＿１は加水分解性カルボン酸エステル
基である］ で示されるＮ−スルホメチルグリシネート。 - （２）ＣＯＯＲ＿１基のＲ＿１が下記の基：線状又は分
枝Ｃ＿１−Ｃ＿１＿８アルキル、好ましくはＣ＿１−Ｃ
＿１＿２アルキル； 線状又は分枝Ｃ＿２−Ｃ＿１＿８アルケニル、好ましく
はＣ＿２−Ｃ＿１＿２アルケニル； 線状又は分枝Ｃ＿２−Ｃ＿１＿８アルキニル、好ましく
はＣ＿２−Ｃ＿１＿２アルキニル； 線状又は分枝Ｃ＿３−Ｃ＿１＿８シクロアルキル、好ま
しくはＣ＿３−Ｃ＿１＿２シクロアルキル； 線状又は分枝Ｃ＿６−Ｃ＿１＿４アリール、好ましくは
Ｃ＿６−Ｃ＿１＿０アリール； 線状又は分枝Ｃ＿７−Ｃ＿１＿５アラルキル、好ましく
はＣ＿７−Ｃ＿１＿１アラルキルから選択され、これら
の基が任意に１つ以上のハロゲン原子、又はＣ＿１−Ｃ
＿６アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、ア
リール基又はアラルキル基が更に、酸素、硫黄及び窒素
から選択した１〜４個のヘテロ原子も含み得る請求項１
に記載のＮ−スルホメチルグリシネート。 - （３）ＣＯＯＲ＿１基のＲ＿１がＣ＿１−Ｃ＿６アルキ
ル、Ｃ＿６−Ｃ＿１＿０フェニル又はＣ＿７−Ｃ＿１＿
１アラルキル基から選択され、これらの基が任意に１つ
以上のハロゲン原子又はＣ＿１−Ｃ＿６アルコキシ基も
しくはＣ＿１−Ｃ＿６アルキルチオ基で置換される請求
項２に記載のＮ−スルホメチルグリシネート。 - （４）ホルムアルデヒドと、二酸化硫黄と、式Ｈ＿２Ｎ
−ＣＨ＿２−ＣＯＯＲ＿１ ［式中、ＣＯＯＲ＿１は請求項１に記載の意味を表す］
で示されるグリシネートとを互いに接触させることを特
徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載のＮ−
スルホメチルグリシネートの製造方法。 - （５）化合物を下記のモル比： グリシネート１モル 二酸化硫黄０．９５モル〜飽和 ホルムアルデヒド０．９５〜３モル で接触させる請求項４に記載のＮ−スルホメチルグリシ
ネートの製造方法。 - （６）ホルムアルデヒドと二酸化硫黄と式Ｒ＿１ＯＨの
アルコールとグリシンとを接触させることを特徴とする
請求項１から３のいずれか一項に記載のＮ−スルホメチ
ルグリシネートの製造方法。 - （７）化合物を下記のモル比： グリシン１モル 二酸化硫黄０．９５モル〜飽和 ホルムアルデヒド０．９５〜３モル Ｒ＿１ＯＨ０．９５モル以上 で接触させる請求項６に記載のＮ−スルホメチルグリシ
ネートの製造方法。 - （８）Ｒ＿１ＯＨのモルの割合が１．２モルより大きく
、有利にはＲ＿１ＯＨを溶媒として使用する請求項７に
記載のＮ−スルホメチルグリシネートの製造方法。 - （９）反応を０〜１００℃で、任意に不活性溶媒（又は
補助溶媒）を用いて生起させる請求項４又は６に記載の
Ｎ−スルホメチルグリシネートの製造方法。 - （１０）グリホセートタイプ除草剤の製造における請求
項１から３のいずれか一項に記載の式（ I ）のＮ−ス
ルホメチルグリシネートの使用であつて、式（ I ）の
Ｎ−スルホメチルグリシネートを下記の式：（Ｒ＿２Ｏ
）＿２Ｐ（Ｏ）Ｈ（II） ［式中（Ｒ＿２Ｏ）＿２Ｐは加水分解性ホスホン酸エス
テル基である］ で示されるホスホン酸エステルすなわち亜リン酸エステ
ルと接触させて、下記の式（III）： （Ｒ＿２Ｏ）＿２−Ｐ（Ｏ）−ＣＨ＿２−ＮＨ−ＣＨ＿
２−ＣＯＯＲ＿１で示される化合物を得、次いでこの化
合物を任意に公知の方法で加水分解することからなる使
用。 - （１１）Ｒ＿２基が下記の基： 線状又は分枝Ｃ＿１−Ｃ＿１＿８アルキル、好ましくは
Ｃ＿１−Ｃ＿１＿２アルキル、 線状又は分枝Ｃ＿２−Ｃ＿１＿８アルケニル、好ましく
はＣ＿２−Ｃ＿１＿２アルケニル、 線状又は分枝Ｃ＿２−Ｃ＿１＿８アルキニル、好ましく
はＣ＿２−Ｃ＿１＿２アルキニル、 線状又は分枝Ｃ＿３−Ｃ＿１＿８シクロアルキル、好ま
しくはＣ＿３−Ｃ＿１＿２シクロアルキル、 線状又は分枝Ｃ＿６−Ｃ＿１＿４アリール、好ましくは
Ｃ＿６−Ｃ＿１＿０アリール、 線状又は分枝Ｃ＿７−Ｃ＿１＿５アラルキル、好ましく
はＣ＿７−Ｃ＿１＿１アラルキルから選択され、これら
の基が任意に１つ以上のハロゲン原子又はＣ＿１−Ｃ＿
６アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、アリ
ール基又はアラルキル基が更に酸素、硫黄及び窒素から
選択した１〜４個のヘテロ原子も含み得る請求項１０に
記載の使用。 - （１２）（ I ）：（II）のモル比を１／３〜３にし、
有利には０．８〜１．２にする請求項１０に記載の使用
。
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