JPH02101734A - ウェハー周辺の露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 半導体製造時におけるウェハーの周辺露光方法に関し、 ウェハー周辺露光の精度向上及びオリフラ部分と他の部
分の露光幅を変更可能とすることを目的とし、回転する
ウェハーの端面を検出し追従する光学系を搭載した移動
ステージと、ウェハーの半径方向及び接線方向に移動可
能な露光用光源とを具備した露光装置を用いてウェハー
の端面を検出し、その際の移動ステージの移動データを
利用してウェハーのオリフラとオリフラ以外の部分を区
別し、オリフラ以外の部分に対しては、移動ステージの
移動データに対応して露光用光源をウェハーの半径方向
に移動し、オリフラに対しては、該オリフラに平行して
露光用光源を移動させてウェハー上のレジストを露光す
るように構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、半導体製造時におけるウェハーの周辺露光方
法に関する。

近年半導体の高集積化に伴い、素子欠陥の原因となるゴ
ミが大きな問題となって来ている。ゴミ発生の原因の一
つにフォト工程に用いるフォトレジストがある。このフ
ォトレジストのウェハーへの塗布は普通スピンコード法
によるが、第４図に示すようにスピンコードされたフォ
トレジスト１は遠心力によりウェハー２の周辺に溜まっ
て盛り上がり３を生ずる。この盛り上がり３はウェハー
を一時収納するキャリヤに収容されたとき該キャリヤの
溝と接触して剥離し、ゴミの原因となる。

このためウェハー周辺のフォトレジストは除去しておく
ことが必要となる。

〔従来の技術〕

従来のウェハー周辺のフォトレジストを除去するための
露光方法は、第５図に示すように予めポジ型フォトレジ
ストが塗布されたウェハー２を回転台にのせて回転させ
、ウェハー２の端面位置をＣＣＤ等のラインセンサ４で
検出し、そのデータで露光用光源５をウェハーの半径方
向に移動させてウェハー周辺を一定幅で露光するように
している。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来のウェハー周辺の露光方法では、ウェハーの端
面からの距離に合わせて露光していた。

ところがウェハーにはオリエンテーション・フラット２
ａ（以後オリフラと称す）があるため、端面からの距離
だけによる制御では、センサ４のデータに対する光源５
の追従性が悪い場合は露光幅の精度が下がる。特にオリ
フラ２ａ部分では、第６図に示すように、光源の追従性
の遅れからＡ部で凹部６が、Ｂ部で凸部７が生ずる。

また従来の露光方法では、ウェハーのチップの配列上、
オリフラ部分の露光幅を他の部分より小さくしたいとい
う要求に対応できないという問題がある。

本発明は露光精度の向上及びオリフラ部分と他の部分と
の露光幅を変えることができるウェハー周辺部の露光方
法を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明のウェハー周辺の露
光方法は、回転するウェハー１０の端面を検出し、追従
する光学系１３を搭載した移動ステージ１４と、ウェハ
ー１０の半径方向及び接線方向に移動可能な露光用光源
１５とを具備した露光装置を用いてウェハー１０の端面
を検出し、その際の移動ステージ１４の移動データを利
用してウェハー１０のオリフラ１０ａとオリフラ以外の
部分を区別し、オリフラ１０ａ以外の部分に対しては移
動ステージ１４の移動データに対応して露光用光源１５
をウェハー１０の半径方向に移動し、オリフ１０ａに対
しては、該オリフラに平行して露光用光源１５を移動さ
せてウェハー１０上のレジストを露光することを特徴と
する。

〔作　用〕

ウェハー１０のオリフラ１０ａ以外の部分はつエバーの
端面を光学系により検出して移動する移動ステージ１４
のデータにより露光し、オリフラ１０ａ部分は、前記と
は別１とオリフラ１０ａに平行して露光することにより
、オリフラ部分の露光幅を他の部分に対し変えることが
容易となり、また移動ステージ１４の移動データに対す
る光源１５の追従遅れがあっても第６図に示したような
露光幅の変動はなくなり露光精度は向上する。

〔実施例〕

第１図は本発明方法を実施するための露光装置を示す図
であり、（ａ）は上面図、（ｂ）は正面図である。また
第２図はその光学系を示す図である。

第１図において、１０はウェハーであり、ステップモー
タ等の駆動源１１により回転駆動される回転台１２の上
に載置されている。１３はウェハー１０の端部を検出す
る光学系でウェハーの半径方向（Ｘ−Ｘ方向）に移動で
きる移動ステージ１４上に搭載されている。また１５は
露光用光源でウェハーの半径方向（Ｘ−Ｘ方向）及び接
線方向（Ｙ−Ｙ方向）に移動できるようになっている。

なお前記光学系は第２図に示すように、発光回路１６に
より発光するＬＥＤ　１７と、該ＬＥＤからの光を２つ
に分けるハーフミラ−１９と、２つに分けられた光をそ
れぞれ受光する基準側の受光素子２０と、測定側受光素
子２１と、２つの受光素子２０．２１に接続した受光回
路２２とを具備し、該受光回路２２はＬＢＤ　１７の光
量に変化があっても２つの受光素子２０．２１の光量比
が一定であることを利用して該光学系の位置を変化しな
い様にし、ウェハー１０の端部が移動したときは、２つ
の受光素子２０．２１の光量比が変化するので、その変
化を元に戻すように移動ステージを移動させるようにな
っている。

以上のように構成された露光装置を用いた露光方法を次
に説明する。

第１図において、もしウェハーが完全に円形ならば光学
系１３及び移動ステージ１４の移動をウェハーの回転角
を横軸にとってプロットすれば、ウェハー１０の中心と
回転中心が一致している場合は直線、ずれている場合は
サインカーブを描くはずである。しかしウェハー１０に
はオリフラ１０ａがあるため曲線は第３図に示すように
オリフラによりＡ部からＢ部まで波形が乱れる。この波
形を処理することによりオリフラ１０ａの位置を確Ｊ忍
することができる。そして、先ずオリフラ１０ａの部分
を除いてウェハー１０の円周部分を露光する。この場合
露光用光源１５は移動ステージ１４の移動データにより
移動して露光幅を一定にする。

次にオリフラ１０ａの中心を露光用光源１５の位置にも
っていき、ウェハー１０を回転せずに露光用光源１５を
オリフラ１０ａと平行（Ｙ−Ｙ方向）に移動して露光す
るのである。

本実施例は以上のようにオリフラ以外の部分とオリフラ
部分を２段階に露光するため、オリフラ部分の露光幅を
他の部分と変化させることができる。また露光用光源の
追従性に遅れがあっても２段階露光により第６図で説明
したような露光幅の凹凸は生じない。従って露光精度は
向上する。

〔発明の効果〕

以上説明した様に、本発明によれば、ウエノ１−周辺の
露光をオリフラ以外の部分とオリフラ部分を２段階に露
光することにより露光精度の向上が可能となり、且つオ
リフラ部分の露光幅を他の部分と変化させることが可能
となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のウェハーの周辺露光方法を実施するた
めの装置を示す図、 第２図は本発明のウェハーの周辺露光方法を実施するた
めの装置の光学系を示す図、 第３図はウェハーの回転角を光学系の移動量の関係の１
例を示す図、 第４図はフォトレジストをスピンコードしたウェハーを
示す図、 第５図は従来のウェハーの周辺露光方法を説明するため
の図、 第６図は従来のウェハーの周辺露光方法の問題点を説明
するための図である。 図において、 １０はウェハー １０ａはオリフラ、 １１は駆動源、 １２は回転台、 １３は光学系、 １４は移動ステージ、 １５は露光用光源 を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、回転するウェハー（１０）の端面を検出し追従する
   光学系（１３）を搭載した移動ステージ（１４）と、ウ
   ェハー（１０）の半径方向および接線方向に移動可能な
   露光用光源（１５）とを具備した露光装置を用いてウェ
   ハー（１０）の端面を検出し、その際の移動ステージ（
   １４）の移動データを利用してウェハー（１０）のオリ
   フラ（１０ａ）とオリフラ以外の部分を区別し、オリフ
   ラ（１０ａ）以外の部分に対しては、移動ステージ（１
   ４）の移動データに対応して露光用光源（１５）をウェ
   ハー（１０）の半径方向に移動し、オリフラ（１０ａ）
   に対しては、該オリフラに平行して露光用光源（１５）
   を移動させてウェハー（１０）上のレジストを露光する
   ことを特徴とするウェハー周辺の露光方法。