JPH02102722U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02102722U JPH02102722U JP1989010534U JP1053489U JPH02102722U JP H02102722 U JPH02102722 U JP H02102722U JP 1989010534 U JP1989010534 U JP 1989010534U JP 1053489 U JP1053489 U JP 1053489U JP H02102722 U JPH02102722 U JP H02102722U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frequency electrode
- flat high
- electrode
- substrate support
- plasma cvd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Description
第1図aは本考案の一実施例のプラズマCVD
装置の一部水平断面図、第1図bは第1図aの要
部拡大図、第2図、第3図は従来のプラズマCV
D装置を示し、第2図は第3図のB―B線矢視断
面図、第3図は第2図のA―A線矢視断面図であ
る。 1:成膜基板、23:CVD処理室、41:真
空源、42:ガス導入管、5:高周波電極、6:
基板支持体、71:移動板、73:電極フレーム
、74:ガイド、75:ばね。
装置の一部水平断面図、第1図bは第1図aの要
部拡大図、第2図、第3図は従来のプラズマCV
D装置を示し、第2図は第3図のB―B線矢視断
面図、第3図は第2図のA―A線矢視断面図であ
る。 1:成膜基板、23:CVD処理室、41:真
空源、42:ガス導入管、5:高周波電極、6:
基板支持体、71:移動板、73:電極フレーム
、74:ガイド、75:ばね。
Claims (1)
- 反応ガス導入可能の真空室内に一方の電極を兼
ね加熱体を備えた基板支持体と、対向して配置さ
れた平板状高周波電極を有するものにおいて、平
板状高周波電極にその電極の板面内の複数方向に
張力を加える弾性体を備えたことを特徴とするプ
ラズマCVD装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989010534U JPH02102722U (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989010534U JPH02102722U (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02102722U true JPH02102722U (ja) | 1990-08-15 |
Family
ID=31218281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989010534U Pending JPH02102722U (ja) | 1989-01-31 | 1989-01-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02102722U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005158982A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Kaneka Corp | Cvd装置 |
-
1989
- 1989-01-31 JP JP1989010534U patent/JPH02102722U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005158982A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Kaneka Corp | Cvd装置 |
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