JPH0217831U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0217831U JPH0217831U JP9595688U JP9595688U JPH0217831U JP H0217831 U JPH0217831 U JP H0217831U JP 9595688 U JP9595688 U JP 9595688U JP 9595688 U JP9595688 U JP 9595688U JP H0217831 U JPH0217831 U JP H0217831U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodes
- plasma processing
- frequency power
- plasma
- processes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Description
第１図はこの考案の一実施例によるプラズマ処
理装置を示すチヤンバー部断面図、第２図は従来
のプラズマ処理装置を示すチヤンバー部断面図で
ある。 図において、２は上電極、４はガス吹出板、６
はボルト、７は被加工物、８は下電極、９は高周
波電源である。なお、図中、同一符号は同一、ま
たは相当部分を示す。
理装置を示すチヤンバー部断面図、第２図は従来
のプラズマ処理装置を示すチヤンバー部断面図で
ある。 図において、２は上電極、４はガス吹出板、６
はボルト、７は被加工物、８は下電極、９は高周
波電源である。なお、図中、同一符号は同一、ま
たは相当部分を示す。
Claims (1)
- 相対向する電極間にガスを導入し、電極間に高
周波電源を供給してプラズマを発生させることに
より電極上に配置した被加工物を処理するプラズ
マ処理装置において、ガスを均一に吹き付ける吹
出板を非重金属製のボルトで取付けたことを特徴
とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9595688U JPH0217831U (ja) | 1988-07-20 | 1988-07-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9595688U JPH0217831U (ja) | 1988-07-20 | 1988-07-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0217831U true JPH0217831U (ja) | 1990-02-06 |
Family
ID=31320737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9595688U Pending JPH0217831U (ja) | 1988-07-20 | 1988-07-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0217831U (ja) |
-
1988
- 1988-07-20 JP JP9595688U patent/JPH0217831U/ja active Pending