JPH0187529U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0187529U JPH0187529U JP18317387U JP18317387U JPH0187529U JP H0187529 U JPH0187529 U JP H0187529U JP 18317387 U JP18317387 U JP 18317387U JP 18317387 U JP18317387 U JP 18317387U JP H0187529 U JPH0187529 U JP H0187529U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- reaction tank
- supplying
- reaction
- plasma cvd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Description
第１図は本考案の一実施例の概略構成図、第２
図は本考案の他の実施例の概略構成図、第３図は
本考案のさらに他の実施例の概略構成図、第４図
は従来のプラズマＣＶＤ装置の概略構成図である
。 １，１１：反応槽、２，２１，２２：電極板、
３：半導体基板、１０：高周波コイル、２０：ア
ルミニウム箔、２００，３００，４００：プラズ
マＣＶＤ装置。
図は本考案の他の実施例の概略構成図、第３図は
本考案のさらに他の実施例の概略構成図、第４図
は従来のプラズマＣＶＤ装置の概略構成図である
。 １，１１：反応槽、２，２１，２２：電極板、
３：半導体基板、１０：高周波コイル、２０：ア
ルミニウム箔、２００，３００，４００：プラズ
マＣＶＤ装置。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 反応槽と、この反応層内に設けられた電極
ならびに半導体基板と、前記反応槽内を真空に保
つ真空排気装置と、前記反応槽内に所要ガスを供
給するガスボンベおよび前記電極に供給されるプ
ラズマ用電源とを有するプラズマＣＶＤ装置にお
いて、前記電極が反応生成物による被膜形成面を
金属箔にて被覆されたことを特徴とするプラズマ
ＣＶＤ装置。 (2) 実用新案登録請求の範囲第１項に記載のプ
ラズマＣＶＤ装置において、電極それ自体が金属
箔からなることを特徴とするプラズマＣＶＤ装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18317387U JPH0187529U (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18317387U JPH0187529U (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0187529U true JPH0187529U (ja) | 1989-06-09 |
Family
ID=31474605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18317387U Pending JPH0187529U (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0187529U (ja) |
-
1987
- 1987-12-01 JP JP18317387U patent/JPH0187529U/ja active Pending
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