JPH0374663U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0374663U JPH0374663U JP13606789U JP13606789U JPH0374663U JP H0374663 U JPH0374663 U JP H0374663U JP 13606789 U JP13606789 U JP 13606789U JP 13606789 U JP13606789 U JP 13606789U JP H0374663 U JPH0374663 U JP H0374663U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- plasma
- substrate
- thin film
- parallel
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例に係るプラズマＣＶ
Ｄ装置の電極構造を示す図、第２図は第１図に示
す電極構造の斜視図、第３図は第１図並びに第２
図に示す電極構造を持つプラズマＣＶＤ装置の構
成を示す図、第４図は従来のプラズマＣＶＤ装置
の電極構造を示す図に、第５図は基板がセツトさ
れない側の改良された従来の電極を示す図である
。 １１……平板電極（第１の電極）、１２……い
かだ状電極（第２の電極）、１３……基板、１４
……材料ガス、１５……プラズマ電源、１６……
真空チヤンバー、１７……ガス導入口、１８……
ヒータ、１９……プラズマ。
Ｄ装置の電極構造を示す図、第２図は第１図に示
す電極構造の斜視図、第３図は第１図並びに第２
図に示す電極構造を持つプラズマＣＶＤ装置の構
成を示す図、第４図は従来のプラズマＣＶＤ装置
の電極構造を示す図に、第５図は基板がセツトさ
れない側の改良された従来の電極を示す図である
。 １１……平板電極（第１の電極）、１２……い
かだ状電極（第２の電極）、１３……基板、１４
……材料ガス、１５……プラズマ電源、１６……
真空チヤンバー、１７……ガス導入口、１８……
ヒータ、１９……プラズマ。
Claims (1)
- 薄膜形成の対象となる基板がセツトされる第１
の電極と、この第１の電極と離間対向して平行に
設けられる第２の電極とを備え、上記第１及び第
２の電極間にプラズマを発生させ且つ上記第２の
電極背面側から材料ガスを導入することにより上
記基板に薄膜を形成するのに供されるプラズマＣ
ＶＤ装置の電極構造において、上記第２の電極を
、多数の細長の電極片が間隔を保つて並設された
いかだ状構造としたことを特徴とするプラズマＣ
ＶＤ装置の電極構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13606789U JPH0374663U (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13606789U JPH0374663U (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0374663U true JPH0374663U (ja) | 1991-07-26 |
Family
ID=31683297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13606789U Pending JPH0374663U (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0374663U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013147437A1 (ko) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | (주)지니아텍 | 하이브리드 라디칼 플라즈마 그래핀 에칭 장치 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6257710A (ja) * | 1985-09-06 | 1987-03-13 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 形鋼の表面手入れ方法 |
-
1989
- 1989-11-27 JP JP13606789U patent/JPH0374663U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6257710A (ja) * | 1985-09-06 | 1987-03-13 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 形鋼の表面手入れ方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013147437A1 (ko) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | (주)지니아텍 | 하이브리드 라디칼 플라즈마 그래핀 에칭 장치 |