JPH02106747A - 記録原板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ガラス原板上にフォトレジスト層が形成され
た記録原板の製造方法に関する。更に詳しくは、本発明
は、ガラス原板とフォトレジスト層との密着性の優れた
記録原板の製造方法に関する。

［発明の背景］ 光学的に情報の記録再生が可能な円盤状記録媒体である
光ディスクが、ディジタル・オーディオ・ディスク、光
学式ビデオ争ディスク、光学式ドキュメント・ファイル
・ディスク等として広く使用されている。このような光
ディスクは、一般に、情報信号に応じた微細凹凸パター
ンをスパイラル状又は同心円状に記録形成した光デイス
ク原盤を用いて形成したスタンパを利用し、このスタン
パにディスク素材を射出成形、圧縮成形、シートモール
デイング等して、上記微細凹凸パターンが転写されたデ
ィスクを形成させることにより製造される。従って、品
質の高い光ディスクを得るためには、光デイスク原盤か
ら精密なスタンパを製造する必要がある。

スタンパは、一般に電鋳によって製造される。

即ち、光学的に完全に平坦な洗浄済みガラス原板にフォ
トレジスト層を形成して記録原板を製造し、これにレー
ザー光を露光して情報信号を記録し、次いで現像処理を
して微細凹凸パターンを形成させる。次いで、この微細
凹凸パターン形成面に、真空蒸着、スパッタリング、無
電解メツキ等により導電性薄膜を形成させ、この導電性
薄膜にニッケル電鋳を施し、裏面研磨及び内外径加工を
行ってスタンパを製造する。

従って、精密なスタンパを製造するためには、記録原板
の現像処理、導電性薄膜の形成、ニッケル電鋳等の処理
の際に、ガラス原板からフォトレジスト層が剥離しない
ようにガラス原板とフォトレジスト層とが強固に密着し
ていることが必要である。

ガラス原板とフォトレジスト層との接着性をよくするた
めに、ガラス原板に有機系のプライマーを塗布する方法
が提案されている（特公昭４７−２６０４３号公報参照
）。しかしながら、この方法では、プライマーの塗布状
態によっては、その上に塗布するフォトレジストを撥ね
てフォトレジストを均一に塗布することができないこと
がある。プライマーの塗布状態とフォトレジストとの関
係がどのようなときフォトレジストを撥ねるのかについ
て十分解明されていないために、この方法は均一なフォ
トレジスト層を安定して形成できないという欠点がある
。

また、ガラス原板にクロム等の金属薄膜をスパッタリン
グ等により形成させる方法も提案されている。この方法
は、ガラス原板とフォトレジスト層との密着性の優れた
均一なフォトレジスト層を形成することができるが、こ
の方法を利用して製造した記録原板にレーザー光を露光
して情報信号を記録する際、ガラス原板上でのレーザー
光の反射率が大きくなるため露光条件に重大な影響を及
ぼすので、形成された金属薄膜の量を厳密に制御しなく
てはならないという問題点がある。

［発明の目的１ 本発明は、ガラス原板上にフォトレジスト層を均一に形
成させることができ、ガラス原板とフォトレジスト層と
の密着性が優れ、しかも情報信号記録の際の露光に悪い
影響を与えない記録原板を容易に安定して製造すること
ができる方法を提供することである。

［発明の構成１ 本発明は、ガラス原板上にフォトレジストを塗布しベー
キングしてガラス原板上にフォトレジスト層が形成され
た記録原板の製造方法において、ガラス原板として、ガ
ラス板表面に、炭素原子数１２〜２０のα−脂肪族モノ
カルボン酸、芳香族炭化水素基置換α−脂肪族モノカル
ボン酸、及び炭素原子数４〜２０の直鎖又は分岐の脂肪
族炭化水素基がパラ位に置換した芳香族モノカルボン酸
からなる群から選ばれたモノカルボン酸化合物の単分子
層膜が形成されたガラス原板を使用し、該単分子層膜が
形成されたガラス板表面上にフォトレジストを塗布する
ことを特徴とする記録原板の製造方法にある。

［発明の詳細な記述］ 本発明の記録原板の製造方法においては、表面に特定の
モノカルボン酸化合物の単分子層膜が形成されたガラス
原板を使用する。

本発明において使用されるガラス原板としては、通常の
光デイスク用の記録原板の製造に使用されるガラス原板
の何れであってもよい。ガラス原板を、常法により研磨
し、研磨材を除去し、超音波洗浄、有機溶剤洗浄等によ
り洗浄し、フレオン蒸気等により乾燥させて、その表面
上にモノカルボン酸化合物の単分子層膜を形成させる。

本発明において使用されるモノカルボン酸化合物は、炭
素原子数１２〜２０のα−脂肪族モノカルボン酸、芳香
族炭化水素基置換α−脂肪族モノカルボン酸、及び炭素
原子数４〜２０の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基がパ
ラ位に置換した芳香族モノカルボン酸からなる群から選
ばれたモノカルボン酸化合物である。上記炭素原子数１
２〜２０のα−脂肪族モノカルボン酸としては、例えば
、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸。

ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸等を挙げるこ
とができる。上記芳香族炭化水素基置換α脂肪族モノカ
ルボン酸としては、例えば、フェニル酢酸、α−１β−
フェニルプロピオン酸、αβ−１γ−フェニル醋酸、及
びこれらのフェニル環アルキル基置換体等を挙げること
ができる。炭素原子数４〜２０の直鎖又は分岐の脂肪族
炭化水素基がパラ位に置換した芳香族モノカルボン酸と
しては、例えば、ｐ−メチル安息香酸、ｐエチル安息香
酸、Ｐ−プロピル安息香酸、ｐブチル安息香酸等を挙げ
ることができる。

ガラス原板１−に−１−記のモノカルボン酸化合物の単
分子層膜を、好ましくは、真空蒸着による方法によって
形成させる。上記単分子層膜は、上記モノカルボン酸化
合物のカルボキシル基がガラス原板のシラノール基と強
い親和力を有しているために、上記モノカルボン酸化合
物のカルボキシル基がガラス原板の表面に結合し、上記
モノカルボン酸化合物の炭化水素基がガラス原板から離
れるように」−記モノカルボン酸化合物の分子がガラス
原板の表面に対しほぼ垂直になるように配向して形成さ
れている。上記単分子層膜中の上記モノカルボン酸の分
子の数は、上記モノカルボン酸の分子の構造や大きさに
よっそ異なり一義的に定めるこ゛とはできないが、上記
モノカルボン酸の分子が最密充填されたときの分子数に
対し、一般的に、５０〜１００％、特に、７０〜ｉｏｏ
％であることが好ましい。ガラス原板の表面に対する上
記モノカルボン酸の被覆量を増加し、上記単分子層の１
−に更に上記モノカルボン酸の分子が配向して、二分子
層（二分子層の場合には、その表面にはカルボキシル基
が並ぶ）、三分子層等の多分子層が形成されるようにす
ると、ガラス原板とフォトレジスト層との密着性がかえ
って低下したり、フォトレジストが撥ねるはじき現象が
生じて均一な厚さのフォトレジスト層が形成されなくな
るので好ましくない。

ガラス原板の表面への上記モノカルボン酸の単分子層膜
の形成は、上記モノカルボン酸が比較的高い融点を有し
、かつ高温において分解し難いので、真空蒸着によって
容易に行なうことができる。上記真空蒸着の条件、操作
手順等は、それ自体公知の条件、手順等を採用すること
ができる。

また、上記単分子層膜の形成量は、真空蒸着工程中に、
例えば、水晶振動子式膜厚モニター計で上記モノカルボ
ン酸の＋ｆＭ量を連続的に測定することによって制御す
る。

本発明においては、上記のようにして表面に上記モノカ
ルボン酸の単分子層膜が形成されたガラス原板の表面上
に、フォトレジストを塗布してフォトレジスト層を形成
し、ベーキングのような前処理を施して記録原板を製造
する９本発明で使用されるフォトレジストとしては、従
来光デイスク用の記録原板の製造に使用されているフォ
トレジストの何れもを制限なく使用することができる。

また、フォトレジストの塗布方法、塗布条件、塗布後の
ベーキング等についても、それ自体公知の方法及び条件
を採用することができる。

次に、本発明の実施例及び比較例を示す。

［実施例１］ Ｉ　Ｘ　１０−５ｍｍＨｇまで真空排気した真空蒸着チ
ャンバ内に、直径２４０　ｍ　ｍ、厚さ６　ｍ　ｍの洗
浄、乾燥処理したガラス原板を設置し、ステアリン酸を
１２０℃に加熱しながらガラス原板の表面にステアリン
酸を真空蒸着させた。真空蒸着中にガラス原板の表面に
形成されたステアリン酸の膜厚を、水晶振動式膜厚モニ
ター計によって連続的にモニターし、ステアリン酸の最
密充填の単分子層膜が形成された時点で真空蒸着を停止
した。ガラス原板の表面には、２　、２　Ｘ　ｌ　Ｏ−
’ｍｇ／　ｃｍ７のステアリン酸が付着していた。

得られたガラス原板のステアリン酸の単分子層膜が形成
された表面に、フォトレジスト（富士ハン）ＨＰＲ−１
１８２、富士写真フィルム株式会社製）をスピン塗布し
、プリベークして、膜厚０．１５１Ｌｍのフォトレジス
ト層を有する記録原板を製造した。

この記録原板を使用して、常法により霧光、現像及び電
鋳を行なって、スタンパを製造したが、その間フォトレ
ジスト層の剥離は全く生じることがなく問題は無かった
。

［比較例１］ ガラス原板表面へのステアリン酸の真空蒸着を行なわな
かった他は、実施例１におけると同様にして記録原板を
製造した。その結果、電鋳時に、レジスト層が剥離し、
スタンバを作ることができなかった。

［比較例２］ ステアリン酸の真空蒸着時間を長くした他は実施例１に
おけると同様にして、ガラス原板表面上にステアリン酸
の二分子層膜を形成させた。このガラス原板のステアリ
ン酸の二分子層膜が形成された表面に、実施例１で使用
したフォトレジストのスピン塗布を試みたが、はじき現
象が生じてフォトレジストを一様に塗布することができ
なかった。

という顕著な効果を奏することができる。

特許出願人　　富士写真フィルム株式会社代　理　人　
　弁理士　　柳　川　泰　男［発明の効果］

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、ガラス原板上にフォトレジストを塗布しベーキング
   してガラス原板上にフォトレジスト層が形成された記録
   原板の製造方法において、ガラス原板として、ガラス板
   表面に、炭素原子数１２〜２０のα−脂肪族モノカルボ
   ン酸、芳香族炭化水素基置換α−脂肪族モノカルボン酸
   、及び炭素原子数４〜２０の直鎖又は分岐の脂肪族炭化
   水素基がパラ位に置換した芳香族モノカルボン酸からな
   る群から選ばれたモノカルボン酸化合物の単分子層膜が
   形成されたガラス原板を使用し、該単分子層膜が形成さ
   れたガラス板表面上にフォトレジストを塗布することを
   特徴とする記録原板の製造方法。