JPH02154343A - 両面型スタンパの製造方法 - Google Patents
両面型スタンパの製造方法Info
- Publication number
- JPH02154343A JPH02154343A JP30851888A JP30851888A JPH02154343A JP H02154343 A JPH02154343 A JP H02154343A JP 30851888 A JP30851888 A JP 30851888A JP 30851888 A JP30851888 A JP 30851888A JP H02154343 A JPH02154343 A JP H02154343A
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- Japan
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- stamper
- double
- sided
- glass substrate
- forming
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光デイスク複製のために用いられる両面型スタ
ンパの製造方法に関するものである。
ンパの製造方法に関するものである。
従来、光デイスク複製用スタンパの製造は、ガラス基板
の表面上にフォトレジスト膜を塗布し。
の表面上にフォトレジスト膜を塗布し。
このフォトレジスト膜に凹凸状の微細パターンを形成し
、この微細パターン表面上に導電性皮膜を形成した後、
電鋳法により前記導電性皮膜上に金属皮膜を析出形成し
、この金属皮膜を前記ガラス基板から剥離してスタンパ
を得るようにしている。
、この微細パターン表面上に導電性皮膜を形成した後、
電鋳法により前記導電性皮膜上に金属皮膜を析出形成し
、この金属皮膜を前記ガラス基板から剥離してスタンパ
を得るようにしている。
このようなスタンパを射出成形用スタンパとして用いる
場合、まず金属皮膜の析出面をラップ若しくはポリッシ
ングにより研磨することにより、スタンパの厚みを均一
にし、かつ鏡面出しを行う。
場合、まず金属皮膜の析出面をラップ若しくはポリッシ
ングにより研磨することにより、スタンパの厚みを均一
にし、かつ鏡面出しを行う。
そして、この研磨面を射出成形機の金型に取り付け、溶
融樹脂を射出させ金型を締めることにより。
融樹脂を射出させ金型を締めることにより。
光ディスクを複製製造することになる。
しかしながら、上記のように製造された従来の光デイス
ク複製用スタンパでは、型締めの圧力。
ク複製用スタンパでは、型締めの圧力。
金型と溶融樹脂の温度差、溶融樹脂圧等によってスタン
パが変形してしまい、成形によって得られる光ディスク
の品質（信号特性等）が低下し１歩留りの低下も余儀な
くされてしまうという問題があった。
パが変形してしまい、成形によって得られる光ディスク
の品質（信号特性等）が低下し１歩留りの低下も余儀な
くされてしまうという問題があった。
本発明はこのような従来技術の事情に鑑みてなされたも
のであって、信号特性の良好な高品質の光ディスクを多
数複製可能なスタンパを提供することを目的とする。
のであって、信号特性の良好な高品質の光ディスクを多
数複製可能なスタンパを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明によれば、ガラス基板
の表面上にフォトレジスト膜を設け、フォトリソグラフ
ィーにより該フォトレジスト膜に凹凸微細パターンを形
成する工程と、ガラス基板の凹凸微細パターンが設けら
れている側及びその反対側の面上にそれぞれ導電性皮膜
を形成した後、電鋳法により各導電性皮膜上に層を形成
する工程と、両面に電ｕＪｔｌが形成された一対のガラ
ス基板を、凹凸微細パターンの形成されている面側同士
を常温硬化性樹脂で接着する工程と、常温硬化性樹脂に
より接着された電ｔ４層とガラス基板との間で剥離を行
い、両面型スタンパを得る工程とを具備することを特徴
とする両面型スタンパの製造方法が提供される。
の表面上にフォトレジスト膜を設け、フォトリソグラフ
ィーにより該フォトレジスト膜に凹凸微細パターンを形
成する工程と、ガラス基板の凹凸微細パターンが設けら
れている側及びその反対側の面上にそれぞれ導電性皮膜
を形成した後、電鋳法により各導電性皮膜上に層を形成
する工程と、両面に電ｕＪｔｌが形成された一対のガラ
ス基板を、凹凸微細パターンの形成されている面側同士
を常温硬化性樹脂で接着する工程と、常温硬化性樹脂に
より接着された電ｔ４層とガラス基板との間で剥離を行
い、両面型スタンパを得る工程とを具備することを特徴
とする両面型スタンパの製造方法が提供される。
本発明では、ガラス基板の両面に電鋳層を形成し、さら
に１両面に′＃、ｇ ＩＩＩＪが設けられた一対のガラ
ス基板を凹凸微細パターン側の電鋳層を対向させて常温
硬化性樹脂で接着して両面型スタンパとすることにより
、スタンパの平面度が著しく向上し、また光デイスク複
製時にスタンパの変形も防止されるようになり、信号特
性の良好な高品質の光ディスクが歩留り良く、大・量に
複製できるようになる。
に１両面に′＃、ｇ ＩＩＩＪが設けられた一対のガラ
ス基板を凹凸微細パターン側の電鋳層を対向させて常温
硬化性樹脂で接着して両面型スタンパとすることにより
、スタンパの平面度が著しく向上し、また光デイスク複
製時にスタンパの変形も防止されるようになり、信号特
性の良好な高品質の光ディスクが歩留り良く、大・量に
複製できるようになる。
次に本発明を実施例により更に詳述する。
（実施例１）
第１図は本発明の実施例による両面型スタンパの製造方
法の工程図である。
法の工程図である。
先ず、ガラス基板ｌの片面にフォトレジスト膜２を塗布
しく工程Ａ）、レーザー露光・現像することにより凹凸
微細パターン２′を形成する（工程Ｂ）０次にガラス基
板１の両面に無電解メツキ、真空蒸着、Ｎｉスパッタ等
により導電性皮膜３を形成しく工程Ｃ）、その後Ｎ１電
鋳を行い、電鋳Ｎ４を形成する（工程Ｄ）。
しく工程Ａ）、レーザー露光・現像することにより凹凸
微細パターン２′を形成する（工程Ｂ）０次にガラス基
板１の両面に無電解メツキ、真空蒸着、Ｎｉスパッタ等
により導電性皮膜３を形成しく工程Ｃ）、その後Ｎ１電
鋳を行い、電鋳Ｎ４を形成する（工程Ｄ）。
この両面に電膜層４が形成されたガラス基板１と。
同様にして作製した両面に電ｔＪＪ！４が形成された別
のガラス基板１とを、凹凸微細パターン２′が形成され
た電鋳層４の面同士を対向させ常温硬化性＊ ＩＩＩ
５で接着する（工程Ｅ）、そして常温硬化性樹脂５で接
着された一組の電鋳層４を両側のガラス基板ｌから剥離
し、残留フォトレジストを除去して両面スタンバ６を得
る（工程Ｆ）、この時の両面スタンパ６の平面度は殆ん
どＯであった０以上のようにして作製した両面スタンバ
を射出成形機の中央部゛に固定し、各々スタンパ面に同
時に同量の溶融樹脂を射出して、同時に金型で型締めし
て光ディスクを複製した０両面スタンバ６の一方のスタ
ンパ側から複製された１枚目及び５ｏｏｏ枚目のディス
クをそれぞれＡ□、Ａｓｅ。。とじ、もう一方のスタン
パ側から複製された１枚目及び５０００枚目のディスク
をそれぞれＢ１．Ｂ、。。。とじた時、これらのディス
クからは何れも第２図に示すような良好な信号特性（Ｉ
ｎ部のトラッキング誤差信号の対半径特性）が得られた
。
のガラス基板１とを、凹凸微細パターン２′が形成され
た電鋳層４の面同士を対向させ常温硬化性＊ ＩＩＩ
５で接着する（工程Ｅ）、そして常温硬化性樹脂５で接
着された一組の電鋳層４を両側のガラス基板ｌから剥離
し、残留フォトレジストを除去して両面スタンバ６を得
る（工程Ｆ）、この時の両面スタンパ６の平面度は殆ん
どＯであった０以上のようにして作製した両面スタンバ
を射出成形機の中央部゛に固定し、各々スタンパ面に同
時に同量の溶融樹脂を射出して、同時に金型で型締めし
て光ディスクを複製した０両面スタンバ６の一方のスタ
ンパ側から複製された１枚目及び５ｏｏｏ枚目のディス
クをそれぞれＡ□、Ａｓｅ。。とじ、もう一方のスタン
パ側から複製された１枚目及び５０００枚目のディスク
をそれぞれＢ１．Ｂ、。。。とじた時、これらのディス
クからは何れも第２図に示すような良好な信号特性（Ｉ
ｎ部のトラッキング誤差信号の対半径特性）が得られた
。
（実施例２）
Ｎｉ電電画面片側のみ凹凸微細形状を有するガラス基板
を２個１両側に凹凸微細形状を有するガラス基板を９個
作製する。片側のみ凹凸微細形状を有する２個のガラス
基板を面と面を対向させて両端におき、その間に、両側
に凹凸微細形状を有する９個のガラス基板がくるように
し、隣り合ったガラス基板のＮｉ電祈面同士を常温硬化
性樹脂で接着後、ガラス基板を剥離していき、１０個の
両面スタンバを同時に得た。出来上がった１０個の両面
スタンバの一方のスタンパ側から複製された１枚目及び
５０００枚目のディスクをそれぞれＩＡｌ、２Ａ□、３
Ａ１゜・・−、ｌ０Ａ１；ＩＡｉ、ａ、、２Ａ、、、。
を２個１両側に凹凸微細形状を有するガラス基板を９個
作製する。片側のみ凹凸微細形状を有する２個のガラス
基板を面と面を対向させて両端におき、その間に、両側
に凹凸微細形状を有する９個のガラス基板がくるように
し、隣り合ったガラス基板のＮｉ電祈面同士を常温硬化
性樹脂で接着後、ガラス基板を剥離していき、１０個の
両面スタンバを同時に得た。出来上がった１０個の両面
スタンバの一方のスタンパ側から複製された１枚目及び
５０００枚目のディスクをそれぞれＩＡｌ、２Ａ□、３
Ａ１゜・・−、ｌ０Ａ１；ＩＡｉ、ａ、、２Ａ、、、。
、・、ＩＯＡ、、、、とし、もう−方のスタンパ側から
複製された１枚目及び５０００枚目のディスクをそれぞ
れ１８１．２８１．・・・、ｌ０Ｂ１．；ＩＢ□。。。
複製された１枚目及び５０００枚目のディスクをそれぞ
れ１８１．２８１．・・・、ｌ０Ｂ１．；ＩＢ□。。。
２Ｂ、。。。、・・・、１０Ｂ、。ｏｏとした時、これ
らのディスクからは何れも第３図に示すような良好なる
信号特性が得られた。
らのディスクからは何れも第３図に示すような良好なる
信号特性が得られた。
（比較例）
ガラス基板の表面上にフォトレジスト膜を塗布し、レー
ザー露光・現像することにより凹凸微細パターンを形成
し、Ｎｉスパッタ法により導電性皮膜を形成後、Ｎｉ電
鋳することにより、ガラス基板の片面にスタンパを形成
した。このスタンパをガラス基板から剥離し、残留フォ
トレジストを除去した後、このスタンバを射出成形機の
一方の金型に取り付け、溶融樹脂を射出し、他方の金型
で型締めを行ない光ディスクを複製した。このような従
来方法によるスタンバにより複製された１枚目及び５０
００枚目のディスクをそれぞれＤｌｙＤｇＯｌＩＯとし
た時、これらのディスクでは何れも第４図に示すように
複製枚数が多くなるにつれて悪化してしまう信号特性と
なった。
ザー露光・現像することにより凹凸微細パターンを形成
し、Ｎｉスパッタ法により導電性皮膜を形成後、Ｎｉ電
鋳することにより、ガラス基板の片面にスタンパを形成
した。このスタンパをガラス基板から剥離し、残留フォ
トレジストを除去した後、このスタンバを射出成形機の
一方の金型に取り付け、溶融樹脂を射出し、他方の金型
で型締めを行ない光ディスクを複製した。このような従
来方法によるスタンバにより複製された１枚目及び５０
００枚目のディスクをそれぞれＤｌｙＤｇＯｌＩＯとし
た時、これらのディスクでは何れも第４図に示すように
複製枚数が多くなるにつれて悪化してしまう信号特性と
なった。
以上詳細に説明したように、本発明によれば。
平面度が殆んど０である両面型スタンパを量産すること
が可能となる。したがって、本発明の両面型スタンパを
用いることにより、信号特性の良好な高品質の光ディス
クを大音に複製することが可能となる。
が可能となる。したがって、本発明の両面型スタンパを
用いることにより、信号特性の良好な高品質の光ディス
クを大音に複製することが可能となる。
第１１閑は本発明しこよる両面型スタンパの製造方法の
工程図、第２図ないし第４図はそれぞれ実施例１、実施
例２及び比較例で複製された光ディスクの信号特性を示
す図である。 ■・・ガラス基板 ２・・・フォトレジスト膜
２′・・・凹凸微細パターン ３・・・導電性皮膜４・
・・電鋳層 も・・・常温硬化性樹脂６・・
・両面スタンパ 特許出願人 株式会社 リ コ 第１図 第２図
工程図、第２図ないし第４図はそれぞれ実施例１、実施
例２及び比較例で複製された光ディスクの信号特性を示
す図である。 ■・・ガラス基板 ２・・・フォトレジスト膜
２′・・・凹凸微細パターン ３・・・導電性皮膜４・
・・電鋳層 も・・・常温硬化性樹脂６・・
・両面スタンパ 特許出願人 株式会社 リ コ 第１図 第２図
Claims (1)
- （１）ガラス基板の表面上にフォトレジスト膜を設け、
フォトリソグラフィーにより該フォトレジスト膜に凹凸
微細パターンを形成する工程と、ガラス基板の凹凸微細
パターンが設けられている側及びその反対側の面上にそ
れぞれ導電性皮膜を形成した後、電鋳法により各導電性
皮膜上に電鋳層を形成する工程と、 両面に電鋳層が形成された一対のガラス基板を、凹凸微
細パターンの形成されている面側同士を対向させ常温硬
化性樹脂で接着する工程と、 常温硬化性樹脂により接着された電鋳層とガラス基板と
の間で剥離を行い、両面型スタンパを得る工程とを具備
することを特徴とする両面型スタンパの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30851888A JPH02154343A (ja) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | 両面型スタンパの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30851888A JPH02154343A (ja) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | 両面型スタンパの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02154343A true JPH02154343A (ja) | 1990-06-13 |
Family
ID=17981990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30851888A Pending JPH02154343A (ja) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | 両面型スタンパの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02154343A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1514673A3 (en) * | 2003-09-10 | 2005-06-08 | TDK Corporation | Disc-shaped recording medium manufacturing method and stamper member usable for disc-shaped recording medium manufacturing method |
| WO2011100647A3 (en) * | 2010-02-12 | 2012-01-05 | Solexel, Inc. | Double-sided reusable template for fabrication of semiconductor substrates for photovoltaic cell and microelectronics device manufacturing |
-
1988
- 1988-12-05 JP JP30851888A patent/JPH02154343A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1514673A3 (en) * | 2003-09-10 | 2005-06-08 | TDK Corporation | Disc-shaped recording medium manufacturing method and stamper member usable for disc-shaped recording medium manufacturing method |
| WO2011100647A3 (en) * | 2010-02-12 | 2012-01-05 | Solexel, Inc. | Double-sided reusable template for fabrication of semiconductor substrates for photovoltaic cell and microelectronics device manufacturing |
| CN102844883A (zh) * | 2010-02-12 | 2012-12-26 | 速力斯公司 | 用于制造光电池和微电子器件的半导体衬底的双面可重复使用的模板 |
| US9401276B2 (en) | 2010-02-12 | 2016-07-26 | Solexel, Inc. | Apparatus for forming porous silicon layers on at least two surfaces of a plurality of silicon templates |
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