JPH02106824U - - Google Patents
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- JPH02106824U JPH02106824U JP1605389U JP1605389U JPH02106824U JP H02106824 U JPH02106824 U JP H02106824U JP 1605389 U JP1605389 U JP 1605389U JP 1605389 U JP1605389 U JP 1605389U JP H02106824 U JPH02106824 U JP H02106824U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma generation
- tube
- plasma
- microwave
- oscillation source
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図はこの考案の一実施例に係るマイクロ波
プラズマ処理装置を示す概略構成図、第２図はこ
の考案の変形例を示す概略構成図、第３図は従来
のマイクロ波プラズマ処理装置を示す概略構成図
である。 １……マイクロ波発振源、２……アイソレータ
、３……パワーモニタ、４……整合器、５……プ
ラズマ発生炉、６……アイソレータ、７……プラ
ズマ発生管、１１……被処理物、１３……ガス輸
送管、１４……処理室、１５……原料ガスボンベ
、１７……伸縮導波管。
プラズマ処理装置を示す概略構成図、第２図はこ
の考案の変形例を示す概略構成図、第３図は従来
のマイクロ波プラズマ処理装置を示す概略構成図
である。 １……マイクロ波発振源、２……アイソレータ
、３……パワーモニタ、４……整合器、５……プ
ラズマ発生炉、６……アイソレータ、７……プラ
ズマ発生管、１１……被処理物、１３……ガス輸
送管、１４……処理室、１５……原料ガスボンベ
、１７……伸縮導波管。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 マイクロ波発振源と、このマイクロ波発振源に
アイソレータ、方向性結合器、整合器を直列に介
して連設されたプラズマ発生炉と、このプラズマ
発生炉に貫通装着されたプラズマ発生管と、この
プラズマ発生管に連設されプラズマ発生管にて発
生した活性化ガスを輸送するガス輸送管と、この
ガス輸送管に連設され被処理物に上記活性化ガス
を照射する処理室とを備えたマイクロ波プラズマ
処理装置において、 上記マイクロ波発振源と上記プラズマ発生炉と
の間に伸縮導波管が設けられ、この伸縮導波管に
より上記プラズマ発生炉と上記プラズマ発生管と
の相対位置が可変となることを特徴とするマイク
ロ波プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1605389U JPH02106824U (ja) | 1989-02-14 | 1989-02-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1605389U JPH02106824U (ja) | 1989-02-14 | 1989-02-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02106824U true JPH02106824U (ja) | 1990-08-24 |
Family
ID=31228647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1605389U Pending JPH02106824U (ja) | 1989-02-14 | 1989-02-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02106824U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003052807A1 (en) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Tokyo Electron Limited | Plasma processor |
-
1989
- 1989-02-14 JP JP1605389U patent/JPH02106824U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003052807A1 (en) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Tokyo Electron Limited | Plasma processor |
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