JPH02108222A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH02108222A JPH02108222A JP26202788A JP26202788A JPH02108222A JP H02108222 A JPH02108222 A JP H02108222A JP 26202788 A JP26202788 A JP 26202788A JP 26202788 A JP26202788 A JP 26202788A JP H02108222 A JPH02108222 A JP H02108222A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 19
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229910005933 Ge—P Inorganic materials 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- XVOCEVMHNRHJMX-UHFFFAOYSA-N ethyl-hydroxy-oxogermane Chemical compound CC[Ge](O)=O XVOCEVMHNRHJMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 3
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 2
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- -1 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002291 germanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical class O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N boron;n-methylmethanamine Chemical compound [B].CNC RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SAXCKUIOAKKRAS-UHFFFAOYSA-N cobalt;hydrate Chemical compound O.[Co] SAXCKUIOAKKRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 229940074439 potassium sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気記録媒体に係り、特に磁気ディスク、フロ
ッピーディスク、磁気テープ等の磁気記録装置に用いら
れる磁気記録媒体であって、その保磁力特性が改善され
た磁気記録媒体に関するものである。
ッピーディスク、磁気テープ等の磁気記録装置に用いら
れる磁気記録媒体であって、その保磁力特性が改善され
た磁気記録媒体に関するものである。
[従来の技術]
磁気ディスク、フロッピーディスク、磁気テープ等の磁
気記録装置に用いられる磁気記録媒体には、近年、高記
録密度化の観点から、金属薄膜型の磁気記録媒体が一バ
インダーを用いる塗布型の磁気記録媒体に代わって用い
られ始めている。
気記録装置に用いられる磁気記録媒体には、近年、高記
録密度化の観点から、金属薄膜型の磁気記録媒体が一バ
インダーを用いる塗布型の磁気記録媒体に代わって用い
られ始めている。
この金属薄膜型の磁気記録媒体は、無電解めっき、電気
めっき、スパッタ、蒸着等の方法で容易に作成される。
めっき、スパッタ、蒸着等の方法で容易に作成される。
これらのうち無電解めっき法は、高い生産性と長年の技
術蓄積による技術面の向上から、広く実用化が進められ
ている。
術蓄積による技術面の向上から、広く実用化が進められ
ている。
従来、無電解めっき法により製造される磁気記録媒体は
、その磁性薄膜がCo(コバルト)−P(リン)又はC
o−Niにッケル)−pよりなるものが主流であり、一
部は既に製品化されている。
、その磁性薄膜がCo(コバルト)−P(リン)又はC
o−Niにッケル)−pよりなるものが主流であり、一
部は既に製品化されている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、従来の無電解めっき法により無電解めっ
き浴を用いて磁性膜を作成する場合、同一浴組成で無電
解めっき浴を調製しても、使用する薬品の実際上管理不
可能なわずかな純度の差異によるめっき浴の組成誤差、
或いはめつき日数の経過によるめっき浴の組成変化、即
ち、めっき浴の消耗度合又はめっき浴の昇温、降温の繰
り返し回数によるめっき浴の組成変化により、得られる
磁性膜はその電磁変換特性に強く影響する保磁力が著し
く変化する現象が見られる。このようなことから、従来
においては特定の無電解めっき浴から、許容範囲内の保
磁力を有する磁性膜は、限られた数量しか得ることがで
きないという欠点があった。
き浴を用いて磁性膜を作成する場合、同一浴組成で無電
解めっき浴を調製しても、使用する薬品の実際上管理不
可能なわずかな純度の差異によるめっき浴の組成誤差、
或いはめつき日数の経過によるめっき浴の組成変化、即
ち、めっき浴の消耗度合又はめっき浴の昇温、降温の繰
り返し回数によるめっき浴の組成変化により、得られる
磁性膜はその電磁変換特性に強く影響する保磁力が著し
く変化する現象が見られる。このようなことから、従来
においては特定の無電解めっき浴から、許容範囲内の保
磁力を有する磁性膜は、限られた数量しか得ることがで
きないという欠点があった。
本発明は上記従来の問題点を解決し、所望とする比較的
低い保磁力を有する磁気記録媒体を提供することを目的
とする。
低い保磁力を有する磁気記録媒体を提供することを目的
とする。
[課題を解決するための手段]
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上にC。
−P糸斑性膜が形成されてなる磁気記録媒体において、
該Co−P系磁性膜がCOに対して0゜01〜15瓜量
%のGa(ガリウム)及び/又はGe(ゲルマニウム)
を含有することを特徴とする。
該Co−P系磁性膜がCOに対して0゜01〜15瓜量
%のGa(ガリウム)及び/又はGe(ゲルマニウム)
を含有することを特徴とする。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明の磁気記録媒体は、Coに対して0.01〜15
重量%のGa及び/又はGeを含む、Co−Ca−P系
、Co−Ge−P系又はCo−Ga−Ge−P糸斑性膜
を非磁性基板上に形成したものである。Ga及び/又は
Geの量がCoに対して0.01重量%未満であっても
、15重量%を超えても、十分な保磁力の改善効果は得
られない。Ga及び/又はGeの含有量は特にCoに対
して0.1〜10!i量%、とりわけ0.1〜5重量%
であることが望ましい。
重量%のGa及び/又はGeを含む、Co−Ca−P系
、Co−Ge−P系又はCo−Ga−Ge−P糸斑性膜
を非磁性基板上に形成したものである。Ga及び/又は
Geの量がCoに対して0.01重量%未満であっても
、15重量%を超えても、十分な保磁力の改善効果は得
られない。Ga及び/又はGeの含有量は特にCoに対
して0.1〜10!i量%、とりわけ0.1〜5重量%
であることが望ましい。
なお、本発明の磁気記録媒体において、Co−G a
/ G e −P系磁性膜中のCo量は、磁性膜の総量
に対して50〜98重景%、特に70〜98重量%であ
ることが望ましい。また、PはCoに対して1〜10重
量%、特に2〜7重量%であることが望ましい。この、
Co −G a / G e −P糸斑性膜は、更にC
oに対して0.1〜60重量%、とりわけ1〜40重量
%のNiを含有することが望ましい。
/ G e −P系磁性膜中のCo量は、磁性膜の総量
に対して50〜98重景%、特に70〜98重量%であ
ることが望ましい。また、PはCoに対して1〜10重
量%、特に2〜7重量%であることが望ましい。この、
Co −G a / G e −P糸斑性膜は、更にC
oに対して0.1〜60重量%、とりわけ1〜40重量
%のNiを含有することが望ましい。
本発明に係る磁気記録媒体は、無電解めっき、電気めっ
き、スパッタリング、蒸着等の方法で常法に従って容易
に作成することが可能である。これらの方法のうち、無
電解めっき法は前述の如く生産性が高く、しかも長年の
技術蓄積がある点で極めて有利である。従って、本発明
の磁気記録媒体の作成方法としては、無電解めっき法が
最適である。
き、スパッタリング、蒸着等の方法で常法に従って容易
に作成することが可能である。これらの方法のうち、無
電解めっき法は前述の如く生産性が高く、しかも長年の
技術蓄積がある点で極めて有利である。従って、本発明
の磁気記録媒体の作成方法としては、無電解めっき法が
最適である。
無電解めっき洛中のコバルトイオン及びニッケルイオン
は水溶性化合物を用いて調製され、例えば、硫酸塩、塩
化物、硝酸塩、酢酸塩等の水溶性コバルト化合物又は水
溶性ニッケル化合物を用いて調製される。通常は硫酸塩
、塩化物が好適に用いられる。還元剤としては、次亜リ
ン酸塩、水素化ホウ素化合物、ヒドラジン、ジメチルア
ミンボラン等、好ましくは次亜リン酸塩が用いられる。
は水溶性化合物を用いて調製され、例えば、硫酸塩、塩
化物、硝酸塩、酢酸塩等の水溶性コバルト化合物又は水
溶性ニッケル化合物を用いて調製される。通常は硫酸塩
、塩化物が好適に用いられる。還元剤としては、次亜リ
ン酸塩、水素化ホウ素化合物、ヒドラジン、ジメチルア
ミンボラン等、好ましくは次亜リン酸塩が用いられる。
錯化剤としては、ジカルボン酸、オキシカルボン酸、ア
ミノ酸等の有機酸及びそれらの可溶性塩から選ばれる1
種又は2種以上が適宜用いられる。
ミノ酸等の有機酸及びそれらの可溶性塩から選ばれる1
種又は2種以上が適宜用いられる。
なお、無電解めっき浴中のコバルトイオン濃度は0.0
1〜0.5モル/lであることが好ましく、ニッケルイ
オン濃度はo、oot〜0.1モル/Aであることが好
ましい。
1〜0.5モル/lであることが好ましく、ニッケルイ
オン濃度はo、oot〜0.1モル/Aであることが好
ましい。
本発明に係る、Co −G a / G e −P 、
f−bn性膜を形成するための無電解めっき浴は、例え
ば、上記原料より調製される従来のCo−P糸斑性膜の
製造に用いる無電解めっき浴組成のものに、コバルト化
合物の総量に対して0.05〜15モル%のガリウム化
合物及び/又はゲルマニウム化合物を添加することによ
り調製することができる。ここで、ガリウム化合物とし
ては、ハロゲン化物、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩等、好ま
しくは硫酸塩、塩化物を用いることができる。また、ゲ
ルマニウム化合物としては、ハロゲン化物、ヘキサフル
オロゲルマニウム酸化物等、好ましくは塩化物を用いる
ことができる。
f−bn性膜を形成するための無電解めっき浴は、例え
ば、上記原料より調製される従来のCo−P糸斑性膜の
製造に用いる無電解めっき浴組成のものに、コバルト化
合物の総量に対して0.05〜15モル%のガリウム化
合物及び/又はゲルマニウム化合物を添加することによ
り調製することができる。ここで、ガリウム化合物とし
ては、ハロゲン化物、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩等、好ま
しくは硫酸塩、塩化物を用いることができる。また、ゲ
ルマニウム化合物としては、ハロゲン化物、ヘキサフル
オロゲルマニウム酸化物等、好ましくは塩化物を用いる
ことができる。
無電解めっき法による磁性膜の形成には、このようにし
て調製される無電解めっき浴を、苛性ソーダ又はアンモ
ニア化合物によりPH8〜11に調整し、また浴温を6
0〜90℃に調整した後、非磁性基板上 間は目的とする磁性膜の厚さにより適宜決定される。
て調製される無電解めっき浴を、苛性ソーダ又はアンモ
ニア化合物によりPH8〜11に調整し、また浴温を6
0〜90℃に調整した後、非磁性基板上 間は目的とする磁性膜の厚さにより適宜決定される。
なお、磁性膜を形成する非磁性基板としては、金属、プ
ラスチック、セラミック、ガラス等の基板が用いられ、
通常、これらは公知の方法に従ってN1−P無電解めっ
き、Pd触媒化処理等の表面処理を施した後、磁性膜の
形成に供される。
ラスチック、セラミック、ガラス等の基板が用いられ、
通常、これらは公知の方法に従ってN1−P無電解めっ
き、Pd触媒化処理等の表面処理を施した後、磁性膜の
形成に供される。
[作用]
特定量のGa及び/又はGeは、Co−P糸斑性膜にお
いて、その保磁力を低減させる作用を奏する。従って、
Coに対してGa及び/又はGeを0.01〜15重量
%含有するCo−Ga/Ge−P糸斑性膜によれば、他
の磁気特性を悪化させることなく保磁力を低下させ、容
易に所望の保磁力を得ることができる。
いて、その保磁力を低減させる作用を奏する。従って、
Coに対してGa及び/又はGeを0.01〜15重量
%含有するCo−Ga/Ge−P糸斑性膜によれば、他
の磁気特性を悪化させることなく保磁力を低下させ、容
易に所望の保磁力を得ることができる。
[実施例]
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
実施例1
硫酸コバルト0.05 mol/j2、硫酸ニッケル0
、 01 mo1/f、塩化ガリウムO,OO1m
ol/L、次亜リン酸ナトリウム0. 20mol /
11、ホウ酸0 、 50 mol/Il、酒石酸カ
リウムナトリウム0. 50 mol/uの組成を有
する無電解めっき浴(25℃)に、苛性ソーダ溶液を加
えpHを9.0に調整した。この浴を80℃に加温し、
常法に従って、脱脂、活性化処理の前処理を施したN1
−P無電解めっき被覆アルミニウム基板を90〜120
秒浸漬して、磁性膜を形成した。この磁性膜の組成はC
o:87重量%、Ni :8重量%、Ga11重量%、
P:4重量%であり、GaはCOに対して1.1重量%
含有されていた。
、 01 mo1/f、塩化ガリウムO,OO1m
ol/L、次亜リン酸ナトリウム0. 20mol /
11、ホウ酸0 、 50 mol/Il、酒石酸カ
リウムナトリウム0. 50 mol/uの組成を有
する無電解めっき浴(25℃)に、苛性ソーダ溶液を加
えpHを9.0に調整した。この浴を80℃に加温し、
常法に従って、脱脂、活性化処理の前処理を施したN1
−P無電解めっき被覆アルミニウム基板を90〜120
秒浸漬して、磁性膜を形成した。この磁性膜の組成はC
o:87重量%、Ni :8重量%、Ga11重量%、
P:4重量%であり、GaはCOに対して1.1重量%
含有されていた。
得られた磁気記録媒体の保磁力(He)、角形性(S)
、保磁力角形性(S″)を測定し、結果を第2表に示し
た。
、保磁力角形性(S″)を測定し、結果を第2表に示し
た。
実施例2
実施例1において、塩化ガリウムの代わりに塩化ゲルマ
ニウムO,OO1mol/f1を用いたこと以外は全く
同様にして磁性膜を形成した。
ニウムO,OO1mol/f1を用いたこと以外は全く
同様にして磁性膜を形成した。
形成された磁性膜の組成はCo:85重量%、Ni :
8重量%、Ge:3重量%、P:4重量%であり、Ge
はCoに対して3.5重量%含有されていた。
8重量%、Ge:3重量%、P:4重量%であり、Ge
はCoに対して3.5重量%含有されていた。
得られた磁気記録媒体の保磁力(He)、角形性(S)
、保磁力角形性(S″)を測定し、結果を第1表に示し
た。
、保磁力角形性(S″)を測定し、結果を第1表に示し
た。
比較例1
実施例1において、塩化ガリウムを用いないほかは全く
同様にして磁性膜を形成し、得られた磁気記録媒体の保
磁力(Hc)、角形性(S)、保磁力角形性(S“)を
測定し、結果を第1表に示した。
同様にして磁性膜を形成し、得られた磁気記録媒体の保
磁力(Hc)、角形性(S)、保磁力角形性(S“)を
測定し、結果を第1表に示した。
第 1 表
の磁気特性を悪化させることなく、保磁力を低下させる
ことができることが明らかである。
ことができることが明らかである。
[発明の効果]
以上詳述した通り、本発明に係る磁気記録媒体は、CO
に対して0.01〜15重量%のGa及び/又はGeを
含有するC o −G a / G e −P糸斑性膜
を形成してなるものであって、この磁気記録媒体によれ
ば、他の磁気特性を悪化させることなく、保磁力を低下
させることができ、このため、製造条件等の変動により
保磁力が許容範囲の上限を超えるような場合において、
保磁力を許容範囲内に容易に保つことが可能な磁気記録
媒体が提供される。
に対して0.01〜15重量%のGa及び/又はGeを
含有するC o −G a / G e −P糸斑性膜
を形成してなるものであって、この磁気記録媒体によれ
ば、他の磁気特性を悪化させることなく、保磁力を低下
させることができ、このため、製造条件等の変動により
保磁力が許容範囲の上限を超えるような場合において、
保磁力を許容範囲内に容易に保つことが可能な磁気記録
媒体が提供される。
代理人 弁理士 重 野 剛
第1表より、本発明に係る磁気記録媒体は、他手続補正
書 JS件の表示 昭和63年特許願第262027号 発明の名称 磁気記録媒体 補正をする者 事件との関係 特許出願人
書 JS件の表示 昭和63年特許願第262027号 発明の名称 磁気記録媒体 補正をする者 事件との関係 特許出願人
Claims (1)
- (1)非磁性基板上にCo−P系磁性膜が形成されてな
る磁気記録媒体において、該Co−P系磁性膜がCoに
対して0.01〜15重量%のGa及び/又はGeを含
有することを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26202788A JPH02108222A (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26202788A JPH02108222A (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02108222A true JPH02108222A (ja) | 1990-04-20 |
Family
ID=17370007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26202788A Pending JPH02108222A (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02108222A (ja) |
-
1988
- 1988-10-18 JP JP26202788A patent/JPH02108222A/ja active Pending
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