JPH02110804A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置
に装備される磁気ヘッドに関するものである。

（従来の技術） 従来より斯種磁気ヘッドに於いては、記録密度の向上を
図る為に、磁気ギャップ部に強磁性金属層を具えた所謂
複合型の磁気ヘッドが提案されている（例えば特開昭６
０−２２９２１０［（１；１１Ｂ５／１８７））。

第８図は複合型磁気ヘッドの一例を示しており、単結晶
フェライト等の強磁性酸化物からなる一対のコア半体（
１）（１１）の突会せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟
んで、センダストやアモルファス自余等からなる一対の
強磁性金属層（２０）　（２０）を形成し、磁気ギャッ
プ層（４）のトラック幅方向の両側には、ガラスからな
る非磁性部（３）（３１）を形成して、トラック幅を規
制している。

上記磁気ヘッドの特徴は、強磁性金属！　（２０）とコ
ア半体（１）（１１）との境界面（５１）が磁気ギャッ
プ形成面に対して非平行に形成されていることであり、
これによって境界面（５１）が擬似ギャップとなること
を回避している。

上記磁気ヘッドの製造工程を第９図（ａ）〜（ｒ）に基
づいて説明する。

第９図（ａ＞に示す如く、強磁性酸化物の基板（１２）
の表面に、エツチング等により多数の溝（１７）を所定
ピッチで形成する。

次に、同図（ｌ））の如く基板（１２）の表面に強磁性
金属薄膜（２８）をスパッタリングにより所定厚さに形
成した後、更に同図（ｃ）の如く、強磁性金属薄膜（２
８）の表面にガラス１！　（２９）を形成する。

次に、同図（ｄ）の如く表面を研磨した後、該表面に同
図（ｅ）の如くトラック幅規制（７５）を凹設する。

その後、同図（ｆ）に示す如く、前記トラック幅規制ｊ
Ｍ（７５）にガラス（３２）を充填すると共に、一対の
基板（１２）　（１２）を非磁性層を介して互いに接、
６−体止して、ヘッドブロック（７０）を製造する。

最後に、上記ヘッドブロック（７０）を破線Ａに沿って
スライスすることにより、第８図の磁気ヘッドチップが
完成する。

（解決しようとする課題） ところが、第９図（ｄ）に示す研磨工程或は同図（ｅ）
に示す溝加工工程で、クラック（９）やカゲ（９１）が
発生することがあった。これは、同図（ｂ）（ｃ）に示
す強磁性金属薄膜（２８）とガラスｌ　（２９）の熱膨
張係数の差に起因して、基板（１２）に過大な内部応力
が生じることによるものである。

又、同図（ｅ）の溝加工に於いてバリ（９２）が発生す
ることは避は難く、このバリ（９２）を除去するには、
第１０図の如く基板表面を所定深さｌ４（３μＩｌｌ程
度）まで研摩する必要があるから、これによってトラッ
ク幅Ｔに誤差しを生しることになる。

従って、従来の複合ヘッドの製造方法に於いては、歩留
りが悪いばかりでなく、ギャップ幅の精度が悪い問題が
あった。

本発明の目的は、製造中に従来の如きクラックやカケの
発生がなく、然も精度の高いギャップ幅が得られる復自
型磁気ヘッドの製造方法を提供することである。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、強磁性酸化物か
らなる基板（１２）の表面（溝加工面）に、底面がｉ１
４加工面に対して傾き且つトラック幅よりも大なる幅を
有する所定深さの切欠き講（１３）を複数条凹設する第
１工程（第１図（ａ））と、前記工程を経た基板（１２
）の表面に、真空薄膜形成技術を用いて強磁性金属薄膜
（２１）を形成した後、該薄膜形成面を、強磁性金属の
充填された前記切欠き講（１３）が露出する深さまで研
磨して、接合面（１５）を具えたブロック半体（７０）
を製造する第２工程（第１図（ｌｘ）（ｃ））と、 前記工程を経て得られた一対のブロック半体（７０）（
７０）の少なくとも一方の接合面（１５）に、前記溝（
１３）と交叉する方向に伸びる所定深さのコイル溝（６
）を凹設すると共に、両接合面（１５）の磁気ギャンプ
部の形成面に非磁性層（４１）を挟んで、両ブロック半
体（７０）　（７０）を互いに接合一体化し、ヘッドブ
ロック（７）を製造する第３工程（第１図（ｄ）〜（ｇ
））と、 前記ヘッドブロック（７）のテープ対接面の加工面に、
トラック幅規制溝（７２）を凹設した後、該トラック幅
規制１ｌｌ（７２）に非磁性資材を充填する第４工程（
第１図（ｂ）（ｉン）と、 前記工程を経たヘッドブロック（７）の非磁性資材の形
成面を研磨し、磁気テープとの対接面（７１）を形成し
た後、該ヘッドブロック（７）をトラック幅規制溝（７
２）に沿って磁気ギャップ層（４）毎にスライスして、
磁気へッドナンプ（７３）を製造する第５工程（第１図
（ｊ）　（ｋ））とから構成される。

又、本発明の他の製造方法は、前記第１及び第２工程（
第１図（ａ）〜（ｃ））の後、第６ｒｉｌの如くブロッ
ク半体（７０）の接合面（１５）に、切欠き溝（１３）
に沿って沖びるトラック幅規制溝（７４）を切欠き講（
１３）と同一ピッチで凹設し、その後、前記第３工程（
第１図（、Ｊ）〜（ｇ））中に前記トラック幅規制溝（
７４）に非磁性資材を充填する処理を加え、前記第４工
程（第１図（ｈ）（ｉ））を省略して、最後に前記第５
１程（第１図（ｊ）　（ｋ））を行なうものである。

（（ヤ用及び効果） 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法に於いては、第１図
（ｂ）（ｃ）に示す如く、強磁性金属Ｉｌｌ！！（２１
）のみが形成された基板（１２）に対して表面研磨が施
されるから、強磁性膜の形成によって基板（１２）に生
じる内部応力は僅かであり、従って、表面研磨の際に従
来の如きクラックやカケが発生することはなく、これに
よって歩留りが向上する。

然も第１図（１１）及び第６図に示すトラック幅規制ｉ
Ｒ（７２）　（７４）の加工工程にて、第１０図の如き
パリが発生したとしても、このパリは第１図（ｊ）の対
接面加工工程で除去され、トラック幅の精度はトラック
幅規制ｉＭ　（７２）　（７４）の加工精度にのみ依存
するから、従来よりも正確なトラック幅が得られる。

（実施例） 実施例は本発明を説明するためのものであって、特許請
求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様
に解すべきではない。

本発明に係る磁気ヘッドは、第７図に示す如く、強磁性
酸化物からなる一対の磁気コア半体（１）（１１）の突
合せ部に、磁気ギャップ層〈４ンを挟んで一対の強磁性
金属層（２＞（２）を形成している。

強磁性金属層（２）とコア半体（１）（１１）との境界
線（５）は、磁気ギャップＮ（４）の形成面に対して傾
斜しており、これによって擬似ギヤングの発生を回避し
ている。

以下、第１図（（Ｌ）〜（ｋ）、第２図乃至第６図に基
づいて、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する。

先ず第１図（ａ）に示す如く、強磁性酸化物のブロック
を切断して一対の基板（１２）　（１２）を製造し、各
基板（１２）の表面（溝加工面）に、切欠き溝（１３）
を一定ピツチで凹設する。該切欠き消（１３）は、第２
図の如く底面（１４）が溝加工面に対して傾いている。

切欠き１！４（１３）の幅Ｗはｌ・ランク幅よりも大き
く、例えば略５０μ輪に形成される。又、消深さＤは第
９図（ａ）に示す従来の講深さり、よりも十分に浅く、
例えば略３０μ謡に形成される。

第１図（ｂ）に示す如く、両基板（１２）の表面に、ス
パッタリングによって強磁性金属薄膜（２１）を形成し
て、ブロック半体（７０）を製造する。尚、強磁性金属
薄膜（２１）の厚さは、前記基板（１２）の切欠き講（
１３）の最大深さよりも厚く形成される。

次に同図（ｃ）の如く、前記基板（１２）の薄膜形成面
を、強磁性金属の充填された前記切欠き講（１３）が露
出する深さまで研磨して、接合面（１５）を具えたブロ
ック半体（７０）を製造する。

該ブロック半体（７０）は、前述の如く小なる幅及び深
さの切欠き清（１３）に強磁性金属を充填したものに過
ぎないから、研摩工程にて強磁性金属薄膜（２１）或は
基板（１２）にクラックやカケが生じることはない。

次に同図（ｄ）の如く、一方のブロック半体（７０）の
接合面（１５）に、複数条のコイル溝（６）を、前記切
欠きｉｎ　（１３）と交叉する方向に開設する。この際
に発生するパリは２〜３μＩｆｆの研摩によって除去す
る。

更に、前記一対のブロック半１４ｃ　（７０）　（７０
）の接合面（１５）に対して、鏡面研摩を施す。

その後、第１図（ｃ）に示す如く、一方のブロック半体
（７０）の鏡面研磨面に対し、フロントギャップ部には
非磁性７１（４１）を、バックギャップ部にはガラス層
（４２）をスパッタリング等によりギャップ長に一致す
る厚さに形成する。

次に第１図（ｆ）の如く両ブロック半体（７０）を互い
に溶着固定する。溶着は、例えば第３図の如くブロック
半体（７０）　（７０）を一対の加圧治具（８）によっ
て挟圧すると共に、コイル溝（６）にガラス棒（３３）
を挿入した状態で、これらを加熱炉内に収容し、ガラス
棒の溶融温度まで昇温することによって行なわれる。

そのｊ妾、前記工程を経て接きされたブロック半体を第
１図（ｇ）の如くコイル溝（６）毎に切断し、複数のヘ
ッドブロック（７）を得る。

前記ヘッドブロック（７）の対接面側の端面に対し、第
１図（１１）の如くトラック幅規制溝（７２）を凹設す
る。トラック幅規制溝（７２）の方向は、ヘッドブロッ
ク（７）の接合面に対して所定のアジマス角度θ（例え
ば１０度）だけ傾いている。

次に、同図（ｉ）に示す如くヘッドブロック（７）のト
ラック幅規制溝（７２）の形成面にガラス（３２）を充
填する。ガラス（３２）の充填には、例えば第４図に示
す様に、カーボン製のベース板〈８２）の凹部にヘッド
ブロック（７）を収容し、該ヘッドブロック（７）の頭
部に、前記ガラス棒（３３）よりも融点の低いガラス板
（３４）を載置し、更にカーボン製の加圧板（８１）に
よって前記ガラス板（３４）を下圧した状態で、これら
を加熱し、ガラス板（３４）を溶融せしめる方法が採用
可能である。

第１図（ｊ）の如く前記ヘッドブロック（７）の頭部に
曲面研磨を施して、テープ対接面（７１）を形成する。

Ｈ，後に、第１図（ｋ）の如くヘッドブロック（７）を
磁気ギャップ層（４）毎にスライスすれば、第７図に示
す磁気ヘッドチップが完成する。

上記製造方法によれば、第１図（ａ）に示す切欠き溝（
１３）の精度が多少悪くとも、同図（１１）の溝加工に
てトラック幅が規定されるから、精度の高い磁気ヘッド
が得られる。

第７図の如く、上記方法によって製造された磁気ヘッド
に於いては、強磁性金属層（２）とコア半体（１）（１
１）との境界線（５）が磁気ギャップ層（４）に対して
傾斜することになる。

又、本発明の効果が得られる他の製造方法として、第１
図（ａ）（ｂＨｃ）の工程を経た後、第６Ｉ７１ノ如く
ブロック半体（７０）の接合面（１５）に、切欠き溝〈
１３）に沿って伸びるトラック幅規制溝（７４）を切欠
き清（１３）と同一ピッチで凹設し、その１表、第１図
（ｄ）（ｅ）（ｆ）輸）に示す工程に於いて　第３図の
処理にて前記トラック幅規制溝（７４）に非磁性資材を
充填し、第１図（ｈ）（ｉ）の工程は省略して、最ｔ＆
に同図（ｊ）　（ｋ）の工程を行なうことも可能である
。

図面及び上記実施例の説明は、本発明を説明するための
ものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、
或は範囲を減縮する様に解すべきではない。

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず。

特許請求の範囲に記載の技術的範囲内て種々の変形が可
能であることは勿論である。

例えば、強磁性金属層（２）の資材としては、センダス
トき金の他、アモルファス合金、パーマロイ等が使用可
能である。

又、第１図（ａ）に示す切欠き講（１３）の底面（１４
）の形状は、第５図（ａ）　（ｂ）　（ｃ　）　（ｄ）
に示す様に単なる斜面の他、曲面状や逆Ｖ字状てあって
も、上記同様の効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１１２Ｉ（ａ）〜（ｋ）は本発明に係る磁気へウドの
製造方法を示す工程図、第２図は切欠き溝の形状を示す
断面図、第３１２Ｉは一対のブロック半体の溶着方法を
示す正面図、第４図はヘッドブロックの頭部にガラス部
を形成する方法を示す一部破断正面図、第５図は切欠き
清の他の形状を示す断面図、第６図は、本発明の他の製
造方法の一工程を示す図、第７図は本発明の製造方法に
よる磁気ヘッドの斜面図、第８図は従来の磁気ヘンドの
斜面図、第９図（ａ）〜（ＤはＣｔ来の磁気ヘッドの製
造方法を示す工程図、第１０図は従来グ）製造方法の問
題点を説明する基板の拡大断面図である９ ＜１）（１１）・・・コア半体　　　（２）・・・強磁
性金属層（４）・・・磁気ギャップ層　　（１３）・・
・清（２１）・・・強磁性金属薄膜　（６）・・・コイ
ル清（７２）・・・トラック幅規制溝（７１）・・・テ
ープ対接面第　９　　図（ｆ） （Ｃ）　　　　　　　　　　　　　　（ｄ）ｊａＢ図 第７図 づｌ 第８回 （ａ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　強磁性酸化物からなる一対の磁気コア半体（１）（
   １１）の突合せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟んで一
   対の強磁性金属層（２）（２）を形成し、強磁性金属層
   （２）とコア半体（１）（１１）との境界線（５）が磁
   気ギャップ形成面に対して傾斜した磁気ヘッドの製造方
   法であって、 ａ）強磁性酸化物からなる基板（１２）の表面（溝加工
   面）に、底面が溝加工面に対して傾き且つトラック幅よ
   りも大なる幅を有する所定深さの切欠き溝（１３）を複
   数条凹設する工程と、ｂ）前記工程を経た基板（１２）
   の表面に、真空薄膜形成技術を用いて強磁性金属薄膜（
   ２１）を形成した後、該薄膜形成面を、強磁性金属の充
   填された前記切欠き溝（１３）が露出する深さまで研磨
   して、接合面（１５）を具えたブロック半体（７０）を
   製造する工程と、 ｃ）前記工程を経て得られた一対のブロック半体（７０
   ）（７０）の少なくとも一方の接合面（１５）に、前記
   溝（１５）と交叉する方向に伸びる所定深さのコイル溝
   （６）を凹設すると共に、両接合面（１５）の磁気ギャ
   ップ部の形成面に非磁性層（４１）を挟んで、両ブロッ
   ク半体（７０）（７０）を互いに接合一体化し、ヘッド
   ブロック（７）を製造する工程と、 ｄ）前記ヘッドブロック（７）のテープ対接面の加工面
   に、トラック幅規制溝（７２）を凹設した後、該トラッ
   ク幅規制溝（７２）に非磁性資材を充填する工程と、 ｅ）前記工程を経たヘッドブロック（７）を研磨し、磁
   気テープとの対接面（７１）を形成した後、該ヘッドブ
   ロック（７）をトラック幅規制溝（７２）に沿って磁気
   ギャップ層（４）毎にスライスして、磁気ヘッドチップ
   （７３）を製造する工程とからなる磁気ヘッドの製造方
   法。 ［２］強磁性酸化物からなる一対の磁気コア半体（１）
   （１１）の突合せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟んで
   一対の強磁性金属層（２）（２）を形成し、強磁性金属
   層（２）とコア半体（１）（１１）との境界線（５）が
   磁気ギャップ形成面に対して傾斜した磁気ヘッドの製造
   方法であって、 ａ）強磁性酸化物からなる基板（１２）の表面（溝加工
   面）に、底面が溝加工面に対して傾き且つトラック幅よ
   りも大なる幅を有する所定深さの切欠き溝（１３）を複
   数条凹設する工程と、ｂ）前記工程を経た基板（１２）
   の表面に、真空薄膜形成技術を用いて強磁性金属薄膜（
   ２１）を形成した後、該薄膜形成面を、強磁性金属の充
   填された前記切欠き溝（１３）が露出する深さまで研磨
   して、接合面（１５）を具えたブロック半体（７０）を
   製造する工程と、 ｃ）前記ブロック半体（７０）の接合面（１５）に、前
   記切欠き溝（１３）に沿って伸びるトラック幅規制溝（
   ７４）を凹設すると共に、一対のブロック半体（７０）
   （７０）の少なくとも一方の接合面（１５）に、前記溝
   （１５）と交叉する方向に伸びる所定深さのコイル溝（
   ６）を凹設する工程と、 ｄ）前記接合面（１５）の磁気ギャップ部の形成面に非
   磁性層（４１）を形成すると共に、前記トラック幅規制
   溝（７４）に非磁性資材を充填して両ブロック半体（７
   ０）（７０）を互いに接合一体化し、ヘッドブロック（
   ７）を製造する工程と、 ｅ）前記ヘッドブロック（７）を研磨し、磁気テープと
   の対接面（７１）を形成した後、該ヘッドブロック（７
   ）をトラック幅規制溝（７２）に沿って磁気ギャップ層
   （４）毎にスライスして、磁気ヘッドチップ（７３）を
   製造する工程 とからなる磁気ヘッドの製造方法。