JPH0253215A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分Ｆｉｆ＞ 本発明は、ビデオテ・−ブレコーダ等の磁気記録再生装
置に装備される磁気ヘッドに関するものである。

（従来の技術） 従来より斯種磁気ヘッドに於いては、記録密度の向上を
図る為に、第８図及び第９図（ｇ）に示す如く、単結晶
フェライト等の強磁性酸化物からなる一対のコア半体（
ＩＨＩＩ）の突合せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟ん
で、センダストやアモルファス合金等からなる一対の強
磁性金属層（２０）　（２０）を形成し、磁気ギャップ
層（４）のトラック幅方向の両側には、ガラスからなる
非磁性部（３）（３１）を形成して、トラック幅ＴＷを
規制した複合型の磁気ヘッドが提案されている（例えば
特開昭６ｌ−２６５７１４（（：１１Ｂ５／１８７］）
。

１記磁気ヘツドの特徴は、強磁性金属層（２０）とコア
半体（ｉ）（ｏ）との境界面（５１）が磁気ギャップ形
成面に対して非平行、即ち曲面に形成されていることで
あり、これによって境界面（５１）が擬似ギャップとな
ることを回避している。

上記磁気ヘッドの製造工程を第９図（ａ）〜（８）に基
づいて説明する。

第９図（＆）に示す如く、強磁性酸化物の基板（１２）
の表面に、エツチング或は回転砥石による溝加工を施し
て、多数の円弧溝（１７）をトラック幅よりも狭いピッ
チで形成する。

次に、同図（ｂ）の如く基板（１２）の表面に強磁性金
属薄膜（２８）をスパッタリングにより所定厚さに形成
した後、同図（ｅ）の如く、強磁性金属薄膜（２８）の
表面を平面に研磨する。

その後、同図（ｄ）の如く、トラック幅規制溝（１３）
を凹設することによって、トラック幅ＴＷに一致する幅
の凸条を繰り返し形成する。

更に同図（ｅ）に示す如く、トラック幅規制溝（１３）
にガラス（３２）を充填した後、その表面に鏡面研磨を
施し、ブロック半体（６０）を製造する。

次に同図＜ｒ＞の如く、上記工程を経た一対のブロック
半体（６０）　（６０）の一方に、巻線用溝（８）及び
ガラス渭く９）を凹設した後、両ブロック半体く６０）
（６０）を非磁性層（４１）を介して互いに溶着し、ヘ
ッドブロック（７０）を製造する。

最後に、上記ヘッドブロック（７０）を図中ａ−ａ線及
びａ′−ａ”線に沿ってスライスし、更に磁気テープと
の対接面を曲面に研磨することによって、同図し）及び
第８図に示す磁気へラドチップが完成する。

（解決しようとする課題） ところが、第９図に示す方法によって製造された磁気ヘ
ッドに於いては、同図録）に示す様に強磁性金属層〈２
０）が、磁気ヘッドの頭部〈フロントギャップ部）から
磁気ヘッドの下後端部（バックギャップ部）まで延びて
おり、該強磁性金属層（２０）に発生する渦電流に起因
して、磁気抵抗が増大し、再生効率の低下を招来する問
題があった。

然も、第９図の製造方法に於いては、同図（ｆ）に示す
ブロック半体の接合工程にて、両ブロック半体（７Ｇ）
　（７０）の接合位相にある程度のズレが生じることが
避けがたく、この結果、ギャップ幅にバラツキが生じる
問題があった。

本発明の目的は、強磁性金属層がフロントギャップ部に
のみ存在し、然も精度の良いギャップ幅を具えた磁気ヘ
ッドが得られる、磁気ヘッド製造方法を提供することで
ある。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、強磁性酸化物か
らなる基板（１２）の表面（溝加工面）に、底面（１４
）が溝加工面に対して傾き且つトラック幅より大なる幅
を有する溝〈１３）を複数条凹設する工程（第１図（、
）　（ｂ））と、前記工程を経た基板（１２）の表面に
、真空薄膜形成技術を用いて強磁性金属薄膜（２６）を
所定厚さに形成して、ブロック半体（７０）を製造する
工程（第１図（Ｃ））と、 前記工程を経た一対のブロック半体（７０）　＜７０＞
の少なくとも一方の接合面（１５）に、前記溝（１３）
の底面と交叉するコイル渭（６）を凹設すると共に、両
接合面（１５）のギヤ・ツブ形成面に鏡面仕上げを施し
た後、前記ギャップ形成面に非磁性層（４１）を挟んで
両ブロック半体（７０）　（７０）を互いに接合一体化
し、ヘッドブロック（７）を製造する工程（第１図（ｄ
）〜（ｆ））と、 前記ヘッドブロック（７）の強磁性金属薄膜（２６）の
表面に対し、トラック幅規制溝（７２）を所定のアジマ
ス角度θの方向に凹設した後、該トラック幅規制溝（７
２）に非磁性資材を充填する工程（第１図録）（１１）
）と、 前記工程を経たヘッドブロック（７）の非磁性資材の形
成面を研磨し、磁気テープとの摺接面（）ｌ）を形成し
た後、該ヘッドブロック（７）をトラック幅規制溝（７
２）に沿って磁気ギャップＪｌ（４）毎にスライスして
、磁気へラドチップを製造する工程（第１図（ｉＨｊ）
、第２図） とから構成される。

（作用及び効果） 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法に於いては、第１図
（ｅ）（ｆ）に示す如く両ブロック半体くフ０）を接合
一体止してヘッドブロック（７）を製造した後に、同図
（ｇ）に示す如く該ヘッドブロック（７）にトラック幅
規制溝（７２）を加工する順序が採られるから、ブロッ
ク半体の接合時の位相のズレは問題にならず、トラック
幅の精度はトラック幅規制溝（）２）の加工精度にのみ
依存するから、従来よりも正確なトラック幅が得られる
。

又、第１図（ｄ）に示す様に、強磁性金属薄膜（２６）
は、基板（１２）の接合面（１５）と直交する面上に形
成されているから、第２図の如く最終的に得られた磁気
ヘッドに於いて、強磁性金属Ｊｍｌ（２＞はフロントギ
ャップ部にのみ存在し、パックギャップ部には存在しな
い、従って、強磁性金属層（２）に発生する渦電流の影
響は最小限に抑制され、高い再生効率が得られる。

（実施例） 実施例は本発明を説明するためのものであって、特許請
求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様
に解すべきではない。

本発明に係る磁気ヘッドは、第２図に示す如く、強磁性
酸化物からなる一対の磁気コア半体（１）（１１）の突
合せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟んで一対の強磁性
金属層（２）（２）を形成している。

強磁性金属層（２）とコア半体＜１＞（１１）との境界
線（５）は、磁気ギャップ層〈４〉の形成面に対して傾
斜しており、これによって擬似ギャップの発生を回避し
ている。

又、強磁性金属層（２）は、後述の製造方法から明らか
な通り、フロントギャップ部にのみ存在し、パックギャ
ップ部には存在しない。

以下、第１図（ａ）〜（ｊ＞、第３図乃至第６図に基づ
いて、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する。

先ず第１図（ａ）に示す如く、強磁性酸化物のブ１コッ
クを切断して一対の基板（１２）を製造する。

次に同図（ｂ）に示す如く、両基板（１２）の表面（１
加工面）に複数条の渭（１３）を凹設する。該渭（１３
）は、第６図（＆）に示す様に底面（１４）が渭加工面
に対して傾き、溝幅Ｗがトラック幅よりも大きく、且つ
底面（１４）上端部における深さＤが、最終的に磁気ヘ
ッドとなったときのギャップ部のデプスエンド（第２図
及び第３図中（６１））よりも５μ論程度深く形成され
る。

第１図（ｅ）に示す如く、両基板（１２）の表面に、ス
パッタリングによって強磁性金属薄膜〈２６）を形成し
て、ブロック半体（７０）を製造する。尚、強磁性金属
薄膜り２６）の厚さは、前記基板〈１２）の溝（１３）
の最大深さよりも厚く形成される。

次に同図（ｄ）の如く、一方のブロック半体〈７０〉の
接合面（１５）にコイル溝（６）を凹設する。該コイル
溝（６）は、第３図に示す様に前記溝（１３）の底面（
１４）と交叉する位置に開設され、この結果、コイル溝
（６）内面に強磁性金属薄膜（２６）が露出することに
なる。従って、最終的に磁気ヘッドとなったとき、磁気
ギャップ層の両側には強磁性金属層（２）のみが配置さ
れ、基板（１２）の資材である強磁性酸化物は介在しな
い。

更に、前記一対のブロック半体（７０）　（７０）の接
合面（１５）に対して、鏡面研摩を施す。

その後、第１図（ｅ）に示す如く、一方のブロック半体
（）０）の鏡面研磨面に対し、゛２０ントギャ・ンプ部
には非磁性層（４１）を、パックギャップ部にはガラス
層（４２）をスパッタリング等によりギャップ長に一致
する厚さに形成する。

次に第１図（ｆ）の如く両ブロック半体く７０）を互い
に溶着固定する。溶着は、例えば第４図の如くヘッドブ
ロック（７）を一対の加圧治具（８）によって挟圧する
と共にコイル渭（６）にガラス棒（３３）を挿入した状
態で、これらを加熱炉内に収容し、ガラス棒の溶融温度
まで昇温することによって行なわれる。

その後、前記ヘッドブロック（７）の強磁性金属薄膜（
２６）の表面に対し、第１図（ｇ）の如くトラック幅規
制溝（７２）を凹設する。尚、第１図（ｇ）は、ヘラド
ブ；ｌツク（７）に対する溝加工領域をハツチングにて
示す平面図と、該ヘッドブロック（７）の溝加工後の側
面図を示しており、トラック幅規制１ｌ（７２）の方向
は、ヘッドブロック（７）の接合面に対して所定のアジ
マス角度θ（例えば１０度）だけ傾いている。又、トラ
ック幅規制溝（）２）の深さは、前記デプスエンド（６
１）よりも深く形成される。

次に、同図（ｈ）に示す如くヘッドブロック（７）の１
−ラック幅規制溝（７２）の形成面にガラス（３２）を
充填する、ガラス（３２）の充填には、例えば第５図に
示す様に、カーボン製のベース板（８２）の凹部にヘッ
ドブロック（７）を収容し、該ヘッドブロック（７）の
頭部に、前記ガラス棒（３３）よりも融点の低いガラス
板（３４）を載置し、更にカーボン製の加圧板（８１）
によって前記ガラス板（３４）を下圧した状態で、これ
らを加熱し、ガラス板（３４）を溶融せしめる方法が採
用可能である。

第１図（ｉ）の如く前記ヘッドブロック（））の頭部に
曲面研磨を施して、テープ対接面（７１）を形成する。

尚、研磨は、テープ対接面（７１）に第２図に示す如く
磁気ギャップ層（４）及び強磁性金属層（２）（２）が
露出する深さ味で施される。

第１図（ｊ）は同図（ｇ＞と同様の平面図であって、ハ
ツチング領域を切断線としてヘッドプロ・ンク（７）を
スライスすれば、第２図に示す磁気ヘッドチ・・・ブが
完成する。

第２図の如く、上記方法によって製造された磁気ヘッド
に於いては、強磁性金属層（２）とコア半体（１）（１
１）との境界線（５）が磁気ギャップ層（４）に対して
傾斜することになる。この理由を第７図を用いて説明す
る。

第７図は、第１図（ｂ）に示す基板（１２）に対して、
同図（ｉ＞に示すテープ対接面（７１）の加工が施され
るごとによって、テープ対接面（）１）土に現れる講（
１３）の底面（１４〉の形状が台形となる様子を表して
いる７即ら、底面（１４）は前述の如く基板（１２）の
溝加ＬｔｆＦｉ＜１７ａンに対して傾いているから、該
底面（］４）と７・−プ対接面で７１）との交叉線＜１
４１１）は、基板（１２）の磁気ギャップ層側のエツジ
線（１２ｂ）に対して非平行ヒなる。最終的には、前記
交叉線（１４１ｋ＞が、第２１）の磁気ヘッドの境界線
（５）に相当するから、該境界線（５）は、磁気ギャッ
プ層（４）に対して傾斜す一部のＣ゛ある。

（￥１面及び上記実施例の説明は、本発明を説明するた
めのものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定
し、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。

又、本発明の各部横或は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能て島る
、−４とは勿論である。

例えば、強磁性金属層（２）の資材としては、センダス
ト合金の他、アモルファス合金、パーマロイ等が使用回
前である。

又、第１図（ｂ）に示す涌（１３）の底面（１４）の形
状は、第６図（ｂｅｅ）に示す様に逆Ｖ字状或は曲面状
であ−）ても、上記同様の効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図（、）〜・（ｊ）は本発明に係る磁気ヘッドの製
造方法を示す工程図、第２図は前記方法によって製造さ
れた磁気ヘッドの斜面図、第３図は１イル溝が開設され
た基板の一部を示す斜面図、第４１ノは一対のブロック
半体の溶着方法を示す正面図、第５図はヘッドブロック
の頭部にガラス部を形成する方法を示す正面図、第６図
はコア半体の清の形状を示す断面図、第７図は強磁性金
属層とコア半体との境界線がギャップ形成面に対して傾
くことを説明する図、第８図は従来の磁気ヘッドの平面
図、第９図は従来の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図
である。 （１）（１１）・・・コア半体 （４）・・・磁気ギャップ層 （２６）・・・強磁性金属薄膜 （）２）・・・トラック幅規制溝 （２）・・・強磁性金属層 （１３）・・・溝 （６）・・・コイル溝 （）１）・・・テープ対接面

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ［１］強磁性酸化物からなる一対の磁気コア半体（１）
   （１１）の突合せ部に、磁気ギャップ層（４）を挟んで
   一対の強磁性金属層（２）（２）を形成し、強磁性金属
   層（２）とコア半体（１）（１１）との境界線（５）が
   磁気ギャップ形成面に対して傾斜した磁気ヘッドの製造
   方法であって、 ａ）強磁性酸化物からなる基板（１２）の表面（溝加工
   面）に、底面（１４）が溝加工面に対して傾き且つトラ
   ック幅より大なる幅を有する所定深さの溝（１３）を複
   数条凹設する工程と、ｂ）前記工程を経た基板（１２）
   の表面に、真空薄膜形成技術を用いて強磁性金属薄膜（
   ２６）を所定厚さに形成して、ブロック半体（７０）を
   製造する工程と、 ｃ）前記工程を経て得られた一対のブロック半体（７０
   ）（７０）の少なくとも一方の接合面（１５）に、前記
   溝（１３）の底面と交叉するコイル溝（６）を凹設する
   と共に、両接合面（１５）のギャップ形成面に鏡面仕上
   げを施した後、該ギャップ形成面に非磁性層（４１）を
   挟んで両ブロック半体（７０）（７０）を互いに接合一
   体化し、ヘッドブロック（７）を製造する工程と、 ｄ）前記ヘッドブロック（７）の強磁性金属薄膜（２６
   ）の表面に対し、トラック幅規制溝（７２）を所定のア
   ジマス角度θの方向に凹設した後、該トラック幅規制溝
   （７２）に非磁性資材を充填する工程と、 ｅ）前記工程を経たヘッドブロック（７）の非磁性資材
   の形成面を研磨し、磁気テープとの対接面（７１）を形
   成した後、該ヘッドブロック（７）をトラック幅規制溝
   （７２）に沿って磁気ギャップ層（４）毎にスライスし
   て、磁気ヘッドチップを製造する工程 とからなる磁気ヘッドの製造方法。