JPH0211085B2 - - Google Patents
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- JPH0211085B2 JPH0211085B2 JP15317079A JP15317079A JPH0211085B2 JP H0211085 B2 JPH0211085 B2 JP H0211085B2 JP 15317079 A JP15317079 A JP 15317079A JP 15317079 A JP15317079 A JP 15317079A JP H0211085 B2 JPH0211085 B2 JP H0211085B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、塗膜あるいは塗装面その他の被測定
物表面のうねりあるいはゆず肌等の平担度を測定
する平担度測定装置に関する。
物表面のうねりあるいはゆず肌等の平担度を測定
する平担度測定装置に関する。
従来、日本では工業製品の光沢度測定法を規定
した日本工業規格(JIS Z8741)に準じて、塗膜
の光沢度測定はなされているが、そのほか塗膜の
表面状態の良否を左右する因子としてのうねり、
ゆず肌などの平担度測定に関する規定はなされて
いない。その理由は、これらの平担度を有効にか
つ正確に測定する方法、装置がほとんど見当らな
いことが考えられる。ただしこれら平担度測定
法、装置は全く存在しないわけではなく、二、三
の装置が考案あるいは市販されているが、塗膜あ
るいは塗装面のうねり、ゆず肌等の平担度には測
定原理が適合しないことにより測定感度不足とか
あるいは肉眼判定のため同じ測定者でも測定する
時期によつて値が異なつたり、測定者が変ると異
なつた値になつたりする欠点があるなどの理由
で、満足すべき測定はほとんど行われず、製品の
品質管理も不十分である。
した日本工業規格(JIS Z8741)に準じて、塗膜
の光沢度測定はなされているが、そのほか塗膜の
表面状態の良否を左右する因子としてのうねり、
ゆず肌などの平担度測定に関する規定はなされて
いない。その理由は、これらの平担度を有効にか
つ正確に測定する方法、装置がほとんど見当らな
いことが考えられる。ただしこれら平担度測定
法、装置は全く存在しないわけではなく、二、三
の装置が考案あるいは市販されているが、塗膜あ
るいは塗装面のうねり、ゆず肌等の平担度には測
定原理が適合しないことにより測定感度不足とか
あるいは肉眼判定のため同じ測定者でも測定する
時期によつて値が異なつたり、測定者が変ると異
なつた値になつたりする欠点があるなどの理由
で、満足すべき測定はほとんど行われず、製品の
品質管理も不十分である。
たとえば、次の様な従来技術がある。この技術
は検査すべき被測定面の斜め上方から1本又は複
数本のスリツト先を照射し、前記被測定面上に結
像させ、この被測定面上のスリツト像に対しほぼ
真上方向からテレビカメラで観察するものであ
る。したがつて被測定面に凹凸があれば前記スリ
ツト像が変形するので、この変形の具合を上記テ
レビカメラを通して観察できる。この技術の根本
原理は被測定面上にスリツト像をつくる光切断法
にもとずくものである。
は検査すべき被測定面の斜め上方から1本又は複
数本のスリツト先を照射し、前記被測定面上に結
像させ、この被測定面上のスリツト像に対しほぼ
真上方向からテレビカメラで観察するものであ
る。したがつて被測定面に凹凸があれば前記スリ
ツト像が変形するので、この変形の具合を上記テ
レビカメラを通して観察できる。この技術の根本
原理は被測定面上にスリツト像をつくる光切断法
にもとずくものである。
したがつてこの技術による塗膜のうねり、ゆず
肌を測定する場合の欠点は被測定面の凹凸とスリ
ツト像の倍率は1対1の関係すなわちスリツト像
の変形量の拡大率がわずかに1倍にとどまること
である。さらに被測定面とされる鋼板面は作業能
率上同時に広範囲の部分を観察する必要があるた
め、テレビカメラの撮像倍率ははなはだ縮小系と
なり、結局スリツト像の変形量は最終的に1倍以
下に縮小されることになる。したがつてこのよう
な方法で検査し得る測定対象面は、鋼材、板材な
どかなり大型の材料表面に生ずる比較的大きな凹
凸たとえば凹凸波長が数十ミリメートル(mm)以
上、凹凸の深さ、高さは数ミリメートル(mm)以
上のものにのみ適用され得るものと考えるのが妥
当である。したがつて波長がミリメートル(mm)
程度、凹凸の高さ、深さがミクロメートル(μm)
程度の塗膜のうねり、ゆず肌等の測定には測定感
度的にとうてい適用不可能といわざるを得ない。
肌を測定する場合の欠点は被測定面の凹凸とスリ
ツト像の倍率は1対1の関係すなわちスリツト像
の変形量の拡大率がわずかに1倍にとどまること
である。さらに被測定面とされる鋼板面は作業能
率上同時に広範囲の部分を観察する必要があるた
め、テレビカメラの撮像倍率ははなはだ縮小系と
なり、結局スリツト像の変形量は最終的に1倍以
下に縮小されることになる。したがつてこのよう
な方法で検査し得る測定対象面は、鋼材、板材な
どかなり大型の材料表面に生ずる比較的大きな凹
凸たとえば凹凸波長が数十ミリメートル(mm)以
上、凹凸の深さ、高さは数ミリメートル(mm)以
上のものにのみ適用され得るものと考えるのが妥
当である。したがつて波長がミリメートル(mm)
程度、凹凸の高さ、深さがミクロメートル(μm)
程度の塗膜のうねり、ゆず肌等の測定には測定感
度的にとうてい適用不可能といわざるを得ない。
さらにこの技術は、上記大型で広範囲に亘り平
面的な被測定面上に断片的に散在する凹凸欠陥に
よるスリツト像の変形量を基準値と比較して、前
記凹凸の有無のみを判定する目的で開発されたこ
とから、この点に関して微小な凹凸が表面全域に
わたつて連続的にくり返えされる塗膜のうねじや
ゆず肌の良否を定量的に測定することに適しない
ことが欠点として指摘できる。
面的な被測定面上に断片的に散在する凹凸欠陥に
よるスリツト像の変形量を基準値と比較して、前
記凹凸の有無のみを判定する目的で開発されたこ
とから、この点に関して微小な凹凸が表面全域に
わたつて連続的にくり返えされる塗膜のうねじや
ゆず肌の良否を定量的に測定することに適しない
ことが欠点として指摘できる。
またこの従来技術は、被測定面全体が曲面の場
合に、スリツト像の変形量が曲面の影響をうけ、
正しい凹凸測定に適しないという欠点を有する。
さらにこの従来技術は、スリツト像の変形の光電
検出系にテレビカメラ、モニターテレビなどを配
設するため装置が大型、高価になるという欠点を
有する。
合に、スリツト像の変形量が曲面の影響をうけ、
正しい凹凸測定に適しないという欠点を有する。
さらにこの従来技術は、スリツト像の変形の光電
検出系にテレビカメラ、モニターテレビなどを配
設するため装置が大型、高価になるという欠点を
有する。
さらにこの従来技術は前記四つの欠点があるほ
か、さらに被測定面上で検出すべく凹凸の大きさ
と、スリツト光巾の関係について何ら規定されて
いないことから、かような方法で塗膜のうねりや
ゆず肌を精度良く測定できないことは明らかであ
る。
か、さらに被測定面上で検出すべく凹凸の大きさ
と、スリツト光巾の関係について何ら規定されて
いないことから、かような方法で塗膜のうねりや
ゆず肌を精度良く測定できないことは明らかであ
る。
次に肉眼判定にもとずく従来技術について説明
する。光源から出た光は平行光線を出すためのレ
ンズを通り、黒線が多数本平行にきざまれた透明
アクリル製の縞目模様の標準板を通過する。そし
て塗膜に至つた光線は平担な面に当たると正反射
して黒線が平行に見えるが、ゆず肌などの平担で
ない面に当たると乱反射あるいは正反射方向が変
化し黒線の縞目模様がゆがんで見える。そしてゆ
がみによつて隣接する黒線が接触する直前の黒線
と黒線の間隔を肉眼で判定し、その間隔の値を平
担度と定義している。しかしこのような装置は、
標準板に刻まれている黒線間隔を0.5〜5mmの間
で13段階に分けているため13種類の標準板を必要
とする。そのため被測定面のゆず肌等の平担度を
あらかじめ測定者が推定し前記標準板を適当に選
択、差しかえながら、前記隣接する黒線が接触し
たかいなかを肉眼で判定するので、測定能率が低
いとか同じ測定者でも測定時期によつて判定値が
異なつたり、また測定者が変ると異なつた値にな
つたりする欠点がある。
する。光源から出た光は平行光線を出すためのレ
ンズを通り、黒線が多数本平行にきざまれた透明
アクリル製の縞目模様の標準板を通過する。そし
て塗膜に至つた光線は平担な面に当たると正反射
して黒線が平行に見えるが、ゆず肌などの平担で
ない面に当たると乱反射あるいは正反射方向が変
化し黒線の縞目模様がゆがんで見える。そしてゆ
がみによつて隣接する黒線が接触する直前の黒線
と黒線の間隔を肉眼で判定し、その間隔の値を平
担度と定義している。しかしこのような装置は、
標準板に刻まれている黒線間隔を0.5〜5mmの間
で13段階に分けているため13種類の標準板を必要
とする。そのため被測定面のゆず肌等の平担度を
あらかじめ測定者が推定し前記標準板を適当に選
択、差しかえながら、前記隣接する黒線が接触し
たかいなかを肉眼で判定するので、測定能率が低
いとか同じ測定者でも測定時期によつて判定値が
異なつたり、また測定者が変ると異なつた値にな
つたりする欠点がある。
更に、この技術は、前述の技術と同様縞目模様
を拡大結像させるものでないため、大型な表面の
大きな凹凸にしか適用できないという欠点を有す
る。
を拡大結像させるものでないため、大型な表面の
大きな凹凸にしか適用できないという欠点を有す
る。
以上従来技術の代表例について記述したが、こ
こで記述した上記欠点や問題点は、前記以外の従
来技術の全ての平担度測定装置に大なり小なり包
含されるものである。
こで記述した上記欠点や問題点は、前記以外の従
来技術の全ての平担度測定装置に大なり小なり包
含されるものである。
本発明は、発明者等が、前記従来の平担度測定
装置の有していた欠点、問題点を解消すべく研
究、開発する過程で到達し得たもので、明暗が交
互に繰り返される格子像を測定試料表面で反射さ
せて結像させ、平担度に応じた格子像のゆがみを
検出すれば、試料の平担度が検出できるのではな
いかという着眼点に基づくものである。
装置の有していた欠点、問題点を解消すべく研
究、開発する過程で到達し得たもので、明暗が交
互に繰り返される格子像を測定試料表面で反射さ
せて結像させ、平担度に応じた格子像のゆがみを
検出すれば、試料の平担度が検出できるのではな
いかという着眼点に基づくものである。
本発明は、塗膜または塗装面の様な試料表面の
平担度でも正しく、即ち人間の感じる平担感(官
能値)に比例した測定値が得られる平担度測定装
置を提供することを目的とするものである。
平担度でも正しく、即ち人間の感じる平担感(官
能値)に比例した測定値が得られる平担度測定装
置を提供することを目的とするものである。
本発明の平担度測定装置は、光源と、該光源に
近接して配置され、測定対象に応じて調整された
ピツチで明暗が交互に多数繰返えされる格子と、
測定対象に応じた倍率を得るために所定の焦点距
離を有し、且つ該格子に対して調整された所定位
置に配置するとともに、測定対象に応じた倍率を
得るために所定の焦点距離を有し、且つ該格子に
対して調整された所定位置に配置するとともに、
測定対象に応じた試料上の照明スポツト径を得る
ために調整されたレンズ有効径を有する測定しよ
うとする試料表面により反射させて格子像を結像
させるレンズと、該レンズによる前記格子像の結
像位置に配置されるとともに、測定対象に応じた
浮上り量を得るために試料からの距離を調整した
位置に配置され、格子像強度を光電変換する光電
変換素子と、該光電変換素子に接続され該光電変
換素子からの電気信号に基づき演算して求めた格
子像のピツチPi′と試料が平面鏡などのように平
担で格子像にゆがみがないときの格子像のピツチ
である基準ピツチPo′との差の絶対値|Po′−
Pi′|を基準ピツチPo′で除したゆがみ率δi=
|Po′−Pi′|/Po′を演算する信号処理回路と、前記 格子または光電変換素子の少くともいずれか一方
を格子の明暗境界線が互いに横切る様に移動可能
にした構成、もしくは等価の構成により、格子像
強度分布を検出可能にした構成より成り、前記ゆ
がみ率を検出することにより試料の平担度を測定
するものである。
近接して配置され、測定対象に応じて調整された
ピツチで明暗が交互に多数繰返えされる格子と、
測定対象に応じた倍率を得るために所定の焦点距
離を有し、且つ該格子に対して調整された所定位
置に配置するとともに、測定対象に応じた倍率を
得るために所定の焦点距離を有し、且つ該格子に
対して調整された所定位置に配置するとともに、
測定対象に応じた試料上の照明スポツト径を得る
ために調整されたレンズ有効径を有する測定しよ
うとする試料表面により反射させて格子像を結像
させるレンズと、該レンズによる前記格子像の結
像位置に配置されるとともに、測定対象に応じた
浮上り量を得るために試料からの距離を調整した
位置に配置され、格子像強度を光電変換する光電
変換素子と、該光電変換素子に接続され該光電変
換素子からの電気信号に基づき演算して求めた格
子像のピツチPi′と試料が平面鏡などのように平
担で格子像にゆがみがないときの格子像のピツチ
である基準ピツチPo′との差の絶対値|Po′−
Pi′|を基準ピツチPo′で除したゆがみ率δi=
|Po′−Pi′|/Po′を演算する信号処理回路と、前記 格子または光電変換素子の少くともいずれか一方
を格子の明暗境界線が互いに横切る様に移動可能
にした構成、もしくは等価の構成により、格子像
強度分布を検出可能にした構成より成り、前記ゆ
がみ率を検出することにより試料の平担度を測定
するものである。
本発明の平担度測定装置の測定原理は第1図に
示したように明暗が交互に繰返えされる格子LG
をレンズLで試料Tを介して結像し、該結像面に
格子像強度を光電変換する光電変換素子Dを配設
し、該光電変換素子Dと前記格子像LGIの明暗境
界線が互いに横切るようにいずれか一方を移動さ
せるか、あるいはその他の方法で前記光電変換素
子Dと格子像LGIの明暗境界線が互いに横切るの
と同等の効果を得るようにして、その移動または
同等の効果に伴う格子像強度変化を光電変換し、
格子像LGIのピツチあるいは幅の変化即ち格子像
LGIのゆがみを検出して試料の平担度を測定する
装置において、試料が完全鏡面で格子像LGIに全
くゆがみのないときの格子像の基準ピツチPo′ま
たは幅Wao′,Wbo′(第2図a)と、試料が平担
でない場合で格子像LGIにゆがみがあるときの格
子像のピツチPi′または幅Wai′,Wbi′(第2図b)
の差の絶対値を、前記ゆがみのないときの格子像
の基準ピツチPo′または幅Wao′,Wbo′で除した
ゆがみ率で試料の平担度を測定するものである。
示したように明暗が交互に繰返えされる格子LG
をレンズLで試料Tを介して結像し、該結像面に
格子像強度を光電変換する光電変換素子Dを配設
し、該光電変換素子Dと前記格子像LGIの明暗境
界線が互いに横切るようにいずれか一方を移動さ
せるか、あるいはその他の方法で前記光電変換素
子Dと格子像LGIの明暗境界線が互いに横切るの
と同等の効果を得るようにして、その移動または
同等の効果に伴う格子像強度変化を光電変換し、
格子像LGIのピツチあるいは幅の変化即ち格子像
LGIのゆがみを検出して試料の平担度を測定する
装置において、試料が完全鏡面で格子像LGIに全
くゆがみのないときの格子像の基準ピツチPo′ま
たは幅Wao′,Wbo′(第2図a)と、試料が平担
でない場合で格子像LGIにゆがみがあるときの格
子像のピツチPi′または幅Wai′,Wbi′(第2図b)
の差の絶対値を、前記ゆがみのないときの格子像
の基準ピツチPo′または幅Wao′,Wbo′で除した
ゆがみ率で試料の平担度を測定するものである。
ここで被測定試料表面の平担度すなわち凹凸の
大きさについて、試料の一例として塗膜を例にと
り説明する。
大きさについて、試料の一例として塗膜を例にと
り説明する。
塗膜には、ゆずの皮のような凹凸があり、これ
を一般にゆず肌と呼んでいる。ゆず肌は、いろい
ろな大きさの凹面と凸面が交互に連なつた面であ
るが、塗料の物性、塗装条件等によつて、凹凸の
大きさの平均値が異なり、それが見たときのゆず
肌の良し悪し(ゆず肌感)に関係してくる。
を一般にゆず肌と呼んでいる。ゆず肌は、いろい
ろな大きさの凹面と凸面が交互に連なつた面であ
るが、塗料の物性、塗装条件等によつて、凹凸の
大きさの平均値が異なり、それが見たときのゆず
肌の良し悪し(ゆず肌感)に関係してくる。
一般に凹凸の大きさは、凸の山と凹の谷との段
差hだけで規定されるが、ゆず肌の良し悪しは段
差hだけでは決まらず、凹凸の繰り返し周期すな
わち波長λにも左右される。すなわち、段差hが
小さく波長λが大きい程、ゆず肌感は良く、逆に
段差hが大きく波長λが小さい程、ゆず肌感が悪
いと感ずる。
差hだけで規定されるが、ゆず肌の良し悪しは段
差hだけでは決まらず、凹凸の繰り返し周期すな
わち波長λにも左右される。すなわち、段差hが
小さく波長λが大きい程、ゆず肌感は良く、逆に
段差hが大きく波長λが小さい程、ゆず肌感が悪
いと感ずる。
したがつて、本発明の平担度測定装置は、この
段差hと周期あるいは波長λの両方に関係する物
理量を検出する必要がある。
段差hと周期あるいは波長λの両方に関係する物
理量を検出する必要がある。
ここで、凹面および凸面をある曲率半径rの球
面とすると、凹凸の曲率半径rと、段差hと波長
λの間には r=(h/2)2+(λ/4)2/h の関係がある。本発明者等はこの式に示されるよ
うに、段差hが小さく波長λが大きい程、曲率半
径rが大きく、逆に段差hが大きく波長λが小さ
い程、曲率半径rが小さくなり、この曲率半径r
が上述したゆず肌感に対応すると言う知見に到達
した。すなわち、凹凸の曲率半径を何らかの手段
により検出すれば凹凸の大きさ(平担度)が検出
できるというものである。
面とすると、凹凸の曲率半径rと、段差hと波長
λの間には r=(h/2)2+(λ/4)2/h の関係がある。本発明者等はこの式に示されるよ
うに、段差hが小さく波長λが大きい程、曲率半
径rが大きく、逆に段差hが大きく波長λが小さ
い程、曲率半径rが小さくなり、この曲率半径r
が上述したゆず肌感に対応すると言う知見に到達
した。すなわち、凹凸の曲率半径を何らかの手段
により検出すれば凹凸の大きさ(平担度)が検出
できるというものである。
そこで本発明者らは、凹凸の曲率半径を検出す
る具体的手段についていろいろ考え、実験解析を
重ねた結果、上述の明暗が交互に繰り返される格
子像を測定試料表面で反射させて結像させ、結像
した格子像のゆがみ、すなわち、ゆがみ率を検出
するという本発明に到達したのである。
る具体的手段についていろいろ考え、実験解析を
重ねた結果、上述の明暗が交互に繰り返される格
子像を測定試料表面で反射させて結像させ、結像
した格子像のゆがみ、すなわち、ゆがみ率を検出
するという本発明に到達したのである。
すなわち、凹凸面のある箇所に入射した光は、
その箇所の曲率および入射角とに対応して反射す
る。したがつて、平面鏡の様な平担面で反射させ
た場合に比べ、凹凸の曲率半径rが小さく、曲率
1/rが大きい曲面の場合は、反射光の方向はその 位置により大きく変化することになる。
その箇所の曲率および入射角とに対応して反射す
る。したがつて、平面鏡の様な平担面で反射させ
た場合に比べ、凹凸の曲率半径rが小さく、曲率
1/rが大きい曲面の場合は、反射光の方向はその 位置により大きく変化することになる。
さらに、凹凸面を曲率半径rの球面鏡と考える
と2/rが焦点距離であり、結像倍率は焦点距離に 反比例するので、格子像は曲率半径rが小さい
程、高倍率で拡大あるいは縮小される、換言すれ
ば格子像が大きくゆがめられることになる。これ
は、凹凸面の再結像作用によつて生起されるもの
である。
と2/rが焦点距離であり、結像倍率は焦点距離に 反比例するので、格子像は曲率半径rが小さい
程、高倍率で拡大あるいは縮小される、換言すれ
ば格子像が大きくゆがめられることになる。これ
は、凹凸面の再結像作用によつて生起されるもの
である。
したがつて、凹凸面の曲率半径rが小さい程、
格子像が大きくゆがめられることになる。
格子像が大きくゆがめられることになる。
そこで本発明者らは、目標である凹凸面の曲率
半径rを検出するため、この曲率半径rと対応関
係を有するゆがみの検出尺度として、ゆがみ率 δi=|Po′−Pi′|/Po′に到達したのである。
半径rを検出するため、この曲率半径rと対応関
係を有するゆがみの検出尺度として、ゆがみ率 δi=|Po′−Pi′|/Po′に到達したのである。
Po′は、試料が平面鏡などの様に平担で格子像に
ゆがみがないときの格子像のピツチであり、
Pi′は、凹凸のある試料の場合のゆがみのある格
子像のピツチであり、ゆがみが大きい程、両者の
ピツチの差は大きくなり、ピツチPo′で除したゆ
がみ率も大きくなる。
ゆがみがないときの格子像のピツチであり、
Pi′は、凹凸のある試料の場合のゆがみのある格
子像のピツチであり、ゆがみが大きい程、両者の
ピツチの差は大きくなり、ピツチPo′で除したゆ
がみ率も大きくなる。
上述の様に本発明は、このゆがみ率により試料
表面の凹凸の大きさ、すなわち曲率半径を検出す
ることにより、試料の平担度を精度良く測定する
ものである。
表面の凹凸の大きさ、すなわち曲率半径を検出す
ることにより、試料の平担度を精度良く測定する
ものである。
第2図cおよび第2図dは、第2図aおよび第
2図bのライン1a,1bにそつて光電変換素子
を移動させたときの出力信号を示す。
2図bのライン1a,1bにそつて光電変換素子
を移動させたときの出力信号を示す。
したがつて本発明は、ゆがみを測定すべく格子
像LGIを被測定試料Tを介して規定の距離だけ離
れた空間に結像させることにより、塗膜のような
被測定試料面の小さなうねりあるいはゆず肌を構
成する連続的な凹凸面鏡による結像作用を利用し
て、前記格子像のゆがみを増巾させ、定量的な光
電測定を容易にし測定感度を向上させるととも
に、前記格子LGを多数本同時に結像させ、その
格子像LGIを光軸と直交する方向に連続的に光電
測定することにより、塗膜の局部的な表面状態に
とらわれず比較的広範囲のうねりやゆず肌の平均
的良否を前記ゆがみ率で定量的に得ることがで
き、人間の官能値と非常に良い直線関係をもたら
すことができるという利点を有する。
像LGIを被測定試料Tを介して規定の距離だけ離
れた空間に結像させることにより、塗膜のような
被測定試料面の小さなうねりあるいはゆず肌を構
成する連続的な凹凸面鏡による結像作用を利用し
て、前記格子像のゆがみを増巾させ、定量的な光
電測定を容易にし測定感度を向上させるととも
に、前記格子LGを多数本同時に結像させ、その
格子像LGIを光軸と直交する方向に連続的に光電
測定することにより、塗膜の局部的な表面状態に
とらわれず比較的広範囲のうねりやゆず肌の平均
的良否を前記ゆがみ率で定量的に得ることがで
き、人間の官能値と非常に良い直線関係をもたら
すことができるという利点を有する。
すなわち本発明は、第1図に示すごとく前記ス
リツト光に代る明暗が交互に多数くり返えされる
格子LGをレンズLにより被測定面としての試料
Tを介して、規定の距離だけ離れた空間に前記格
子像LGIを結像させる。したがつてこのようにし
て得られた格子像のゆがみは、前記レンズLによ
る拡大結像作用のほか塗膜のうねり、ゆず肌を微
小な凹凸面鏡の集合と見なしたこれら凹凸面を介
する再結像作用により第2図dに示すごとく塗膜
のうねり、ゆず肌の良否に応じてそれぞれ相隣り
合つた格子像は拡大されたり縮小したりする。換
言すれば前記各格子像のピツチPi′が広くなつた
り狭くなつたりする。すなわち本発明は、ゆがみ
を増巾させるので、塗膜のうねりやゆず肌の様な
小さな凹凸から大きな凹凸まで高感度な測定を可
能にするものである。
リツト光に代る明暗が交互に多数くり返えされる
格子LGをレンズLにより被測定面としての試料
Tを介して、規定の距離だけ離れた空間に前記格
子像LGIを結像させる。したがつてこのようにし
て得られた格子像のゆがみは、前記レンズLによ
る拡大結像作用のほか塗膜のうねり、ゆず肌を微
小な凹凸面鏡の集合と見なしたこれら凹凸面を介
する再結像作用により第2図dに示すごとく塗膜
のうねり、ゆず肌の良否に応じてそれぞれ相隣り
合つた格子像は拡大されたり縮小したりする。換
言すれば前記各格子像のピツチPi′が広くなつた
り狭くなつたりする。すなわち本発明は、ゆがみ
を増巾させるので、塗膜のうねりやゆず肌の様な
小さな凹凸から大きな凹凸まで高感度な測定を可
能にするものである。
また本発明は、従来技術の欠点を解消するため
に従来のスリツト光の代りに第1図のように明暗
が多数本交互にくり返えされるピツチPの格子
LGを用い、これらをすべて同時に塗膜のような
被測定面を介して規定の距離だけ離れた空間であ
る結像面に結像させる。
に従来のスリツト光の代りに第1図のように明暗
が多数本交互にくり返えされるピツチPの格子
LGを用い、これらをすべて同時に塗膜のような
被測定面を介して規定の距離だけ離れた空間であ
る結像面に結像させる。
このようにして結像された格子像LGIは、被測
定面上の直径数十ミリメートル(mm)に至る部分
を介して結像されるので、本発明は、前記格子像
LGIを該結像面において光軸と直交する方向に連
続的に光電測定することにより、塗膜の断片的な
る表面状態あるいは凹凸の有無のみを検出するこ
となく、凹凸面が連続的にくり返えし構成される
塗膜の広範囲のうねりやゆず肌の平均的良否を同
時に定量的に測定することができるという利点を
有する。この本発明の利点は、後述するように基
準となる人間の官能値と非常によい直線関係をも
たらすものである。
定面上の直径数十ミリメートル(mm)に至る部分
を介して結像されるので、本発明は、前記格子像
LGIを該結像面において光軸と直交する方向に連
続的に光電測定することにより、塗膜の断片的な
る表面状態あるいは凹凸の有無のみを検出するこ
となく、凹凸面が連続的にくり返えし構成される
塗膜の広範囲のうねりやゆず肌の平均的良否を同
時に定量的に測定することができるという利点を
有する。この本発明の利点は、後述するように基
準となる人間の官能値と非常によい直線関係をも
たらすものである。
さらに本発明は、前記結像面に格子像の強度を
検出すべく通常の光電変換素子Dを配設するのみ
でよいため従来装置に比べ装置の小型化、コスト
低減を図ることができるという利点を有する。
検出すべく通常の光電変換素子Dを配設するのみ
でよいため従来装置に比べ装置の小型化、コスト
低減を図ることができるという利点を有する。
また本発明は、上述の様な構成作用より成るの
で、従来装置のように測定者または測定時間、測
定時期による差が無いという利点を有する。
で、従来装置のように測定者または測定時間、測
定時期による差が無いという利点を有する。
本発明の平担度測定装置は、実施するに当り以
下の様な実施の態様を採り得る。
下の様な実施の態様を採り得る。
本発明の第1の態様(特許請求の範囲第2項記
載)は、本発明の信号処理回路に、試料により反
射され結像された格子像の各ピツチ毎のゆがみ率
δi=|Po′−Pi′|/Po′をn個加算し、nにより除
し て平均ゆがみ率を求める算術平均回路を付加
し、前記平均ゆがみ率を検出することにより試料
の平担度を測定するものである。
載)は、本発明の信号処理回路に、試料により反
射され結像された格子像の各ピツチ毎のゆがみ率
δi=|Po′−Pi′|/Po′をn個加算し、nにより除
し て平均ゆがみ率を求める算術平均回路を付加
し、前記平均ゆがみ率を検出することにより試料
の平担度を測定するものである。
本第1の態様は、試料全体に亘る格子像の各ピ
ツチの平均値を求めて、平均ゆがみ率を検出す
ることにより試料の平担度を測定するものである
ため、前述の本発明の作用効果に加えて、試料表
面上に局部的に存在する凹凸などの表面性状の異
常や試料全体に一様に存在する曲りの影響を受け
ることなく、精度良く試料の平担度の測定をする
ことができるという利点を有する。
ツチの平均値を求めて、平均ゆがみ率を検出す
ることにより試料の平担度を測定するものである
ため、前述の本発明の作用効果に加えて、試料表
面上に局部的に存在する凹凸などの表面性状の異
常や試料全体に一様に存在する曲りの影響を受け
ることなく、精度良く試料の平担度の測定をする
ことができるという利点を有する。
本発明の第2の態様(特許請求の範囲第3項記
載)は、本発明の信号処理回路に、試料により反
射され結像された格子像の各ピツチPi′の平均値
P′を演算するとともに、該平均値′と基準ピツチ
Po′とゆがみ率δiで表わされる偏差σ を演算する偏差検出回路を付加し、該偏差を検出
することにより試料の平担度を測定するものであ
る。
載)は、本発明の信号処理回路に、試料により反
射され結像された格子像の各ピツチPi′の平均値
P′を演算するとともに、該平均値′と基準ピツチ
Po′とゆがみ率δiで表わされる偏差σ を演算する偏差検出回路を付加し、該偏差を検出
することにより試料の平担度を測定するものであ
る。
本第2の態様は、試料により反射され結像され
た格子像の各ピツチPi′の平均値′に対する偏差
を検出することにより、試料の平担度を測定する
ものであるため、前述の本発明の作用効果に加え
て、試料表面上に局部的に存在する凹凸などの表
面性状の異常による影響や、試料全体に及びうね
りや曲りおよびその変化による影響を受けること
なく、精度良く試料の平担度の測定をすることが
できるという利点を有する。
た格子像の各ピツチPi′の平均値′に対する偏差
を検出することにより、試料の平担度を測定する
ものであるため、前述の本発明の作用効果に加え
て、試料表面上に局部的に存在する凹凸などの表
面性状の異常による影響や、試料全体に及びうね
りや曲りおよびその変化による影響を受けること
なく、精度良く試料の平担度の測定をすることが
できるという利点を有する。
また本発明は、試料の一例として自動車の塗膜
の様な試料の平担度の測定に適用する場合には、
その光学系の設定について以下の様な態様を採り
得る。
の様な試料の平担度の測定に適用する場合には、
その光学系の設定について以下の様な態様を採り
得る。
すなわち本態様は、本発明の平担度測定装置に
おける矩形波格子のピツチPと投影倍率βとの積
βPを 0.375mmβP1.5mm を満足するように設定することにより、格子像の
ゆがみが顕著にあらわれるようにするため、一層
官能値と直線関係を有する前記ゆがみ率、平均ゆ
がみ率および偏差が得られ、精度よく塗膜の平担
度を測定することができる。
おける矩形波格子のピツチPと投影倍率βとの積
βPを 0.375mmβP1.5mm を満足するように設定することにより、格子像の
ゆがみが顕著にあらわれるようにするため、一層
官能値と直線関係を有する前記ゆがみ率、平均ゆ
がみ率および偏差が得られ、精度よく塗膜の平担
度を測定することができる。
すなわち、塗膜により反射して結像した格子像
のピツチPo′は、矩形波格子のピツチPと投影倍
率βとの積βPに等しく(Po′=βP)、上述したゆ
がみ率δiの式 δi=|Po′−Pi′|/Po′ より、分母を構成する結像した格子像Po′が、分
子を構成する試料表面の凹凸の大きさ、すなわち
曲率半径rに対して適切にチユーニングされてい
ないと、ゆがみ率δiが必要以上に大きくなつた
り、小さくなつたりすることにより、測定の直線
性、感度、および測定領域に影響を及ぼす。上記
積βP(分母)が小さ過ぎる場合は、ゆがみ率δiが
大きくなり過ぎ、いわゆる低平担度領域では曲率
半径rのわずかな変化に対し、ゆがみ率δiが急激
に変化する。逆に、積βPが大き過ぎる場合は、
ゆがみ率が小さくなり過ぎ、いわゆる高平担度領
域では曲率半径rの大きな変化に対してもわずか
しかゆがみ率δiが変化しないことになる。
のピツチPo′は、矩形波格子のピツチPと投影倍
率βとの積βPに等しく(Po′=βP)、上述したゆ
がみ率δiの式 δi=|Po′−Pi′|/Po′ より、分母を構成する結像した格子像Po′が、分
子を構成する試料表面の凹凸の大きさ、すなわち
曲率半径rに対して適切にチユーニングされてい
ないと、ゆがみ率δiが必要以上に大きくなつた
り、小さくなつたりすることにより、測定の直線
性、感度、および測定領域に影響を及ぼす。上記
積βP(分母)が小さ過ぎる場合は、ゆがみ率δiが
大きくなり過ぎ、いわゆる低平担度領域では曲率
半径rのわずかな変化に対し、ゆがみ率δiが急激
に変化する。逆に、積βPが大き過ぎる場合は、
ゆがみ率が小さくなり過ぎ、いわゆる高平担度領
域では曲率半径rの大きな変化に対してもわずか
しかゆがみ率δiが変化しないことになる。
この様な理由から、塗膜における積βPを上述
の範囲内で設定する必要がある。しかし、本態様
は、試料を自動車用の塗膜に限定した場合の例で
あり、他の試料の場合は、当然、積βPの範囲は
異なつたものになる。
の範囲内で設定する必要がある。しかし、本態様
は、試料を自動車用の塗膜に限定した場合の例で
あり、他の試料の場合は、当然、積βPの範囲は
異なつたものになる。
更に、本態様は、上記した態様の平担度測定に
おいて光電変換素子がレンズの開口を見込む試料
上の大きさすなわち視野Sを試料表面の凹凸やゆ
ず肌等のうねじの波長λに対して S≪λ/2 を満足するように設定するか、あるいは試料から
光電変換素子までの距離すなわち浮上り量△b
を、ゆず肌等のうねりの曲率半径rに対して △b≪r/2 を満足するように設定することにより、うねり及
びゆず肌等の影響による格子像のぼけを除去し、
より一層官能値と直線的関係を有する前記ゆがみ
率、平均ゆがみ率および偏差が得られ、一層精度
よく塗膜の平担度を測定することができる。
おいて光電変換素子がレンズの開口を見込む試料
上の大きさすなわち視野Sを試料表面の凹凸やゆ
ず肌等のうねじの波長λに対して S≪λ/2 を満足するように設定するか、あるいは試料から
光電変換素子までの距離すなわち浮上り量△b
を、ゆず肌等のうねりの曲率半径rに対して △b≪r/2 を満足するように設定することにより、うねり及
びゆず肌等の影響による格子像のぼけを除去し、
より一層官能値と直線的関係を有する前記ゆがみ
率、平均ゆがみ率および偏差が得られ、一層精度
よく塗膜の平担度を測定することができる。
すなわち、第1図に示す様に格子像の結像に関
与する光は、塗膜試料の照明スポツト径である測
定視野Sで反射されたものである。この測定視野
Sの中に含まれる塗膜表面には凹凸があるので、
レンズから結像面までの距離がその部位によりそ
れぞれ異なるため、結像した格子像がぼけること
になる。本態様においては、試料が塗膜であるの
で、凹凸面が球面になるため凹凸の半波長λ/2ご とに凹面と凸面が繰り返されることになる。した
がつて、測定視野Sをλ/2より極端に小さく設定 することにより、凹面と凸面を等価的に平面とみ
なすことができるので、像のぼけを除くことがで
きることになる。
与する光は、塗膜試料の照明スポツト径である測
定視野Sで反射されたものである。この測定視野
Sの中に含まれる塗膜表面には凹凸があるので、
レンズから結像面までの距離がその部位によりそ
れぞれ異なるため、結像した格子像がぼけること
になる。本態様においては、試料が塗膜であるの
で、凹凸面が球面になるため凹凸の半波長λ/2ご とに凹面と凸面が繰り返されることになる。した
がつて、測定視野Sをλ/2より極端に小さく設定 することにより、凹面と凸面を等価的に平面とみ
なすことができるので、像のぼけを除くことがで
きることになる。
加えて本態様は、前記した平担度測定装置にお
いて、上記測定視野Sを試料表面の凹凸やゆず肌
等のうねりの波長λに対して S≦λ/20 の関係を満足させるか、あるいは、上記浮上り量
△bを試料表面の凹凸やゆず肌等のうねりの曲率
半径rに対して △b≦r/20 の関係を満足させるように設定するか、更には上
記浮上り量△bを試料表面の凹凸やゆず肌等のう
ねりの曲率半径rに対して r/20<△b≦r/3 を満足させると共に、測定視野Sを試料表面の凹
凸やゆず肌等のうねりの波長λと、浮上り量△b
とを次の関係 λ/20<S≦1(−0.0204・△b)+3.0 を満足するように設定することにより、上述した
理由によつてうねり及びゆず肌等の影響による格
子像のぼけを完全に除去し、一層官能値と直線関
係を有する前記ゆがみ率、平均ゆがみ率および偏
差が得られ、一層精度よく塗膜の平担度を測定す
ることができる。
いて、上記測定視野Sを試料表面の凹凸やゆず肌
等のうねりの波長λに対して S≦λ/20 の関係を満足させるか、あるいは、上記浮上り量
△bを試料表面の凹凸やゆず肌等のうねりの曲率
半径rに対して △b≦r/20 の関係を満足させるように設定するか、更には上
記浮上り量△bを試料表面の凹凸やゆず肌等のう
ねりの曲率半径rに対して r/20<△b≦r/3 を満足させると共に、測定視野Sを試料表面の凹
凸やゆず肌等のうねりの波長λと、浮上り量△b
とを次の関係 λ/20<S≦1(−0.0204・△b)+3.0 を満足するように設定することにより、上述した
理由によつてうねり及びゆず肌等の影響による格
子像のぼけを完全に除去し、一層官能値と直線関
係を有する前記ゆがみ率、平均ゆがみ率および偏
差が得られ、一層精度よく塗膜の平担度を測定す
ることができる。
本態様において、発明者等は、格子のピツチP
の変化によつて、平均ゆがみ率および偏差と試料
の平担度官能値との関係がどのように変化するか
について、実験により確認した。
の変化によつて、平均ゆがみ率および偏差と試料
の平担度官能値との関係がどのように変化するか
について、実験により確認した。
上記実験における試料として、平担度を段階的
に変化させた塗膜を用い、格子のピツチPを3.0
mm、2.5mm、2.0mm、1.5mm、1.0mm、0.5mm、0.375
mm、0.25mm、0.125mmと変化させ、且つ投影倍率
βを1倍と5倍とに変化させ、格子像の平均ゆが
み率および偏差と平担度官能値との関係を実験的
に検討した。
に変化させた塗膜を用い、格子のピツチPを3.0
mm、2.5mm、2.0mm、1.5mm、1.0mm、0.5mm、0.375
mm、0.25mm、0.125mmと変化させ、且つ投影倍率
βを1倍と5倍とに変化させ、格子像の平均ゆが
み率および偏差と平担度官能値との関係を実験的
に検討した。
元来、試料の平担度官能値としては、視感によ
る感覚的平担度順位が用いられており、順位は平
担度の比例量ではなく、平担度の差に大小があつ
ても、その順位は1番、2番というふうにつけら
れるもので、各順位間の平担度の差の大小は不明
なものである。
る感覚的平担度順位が用いられており、順位は平
担度の比例量ではなく、平担度の差に大小があつ
ても、その順位は1番、2番というふうにつけら
れるもので、各順位間の平担度の差の大小は不明
なものである。
そこで上記する本実験においては、被験者10名
による一対比較官能検査を行ない、その官能検査
データをシエツフエの一対比較法の一変法である
中屋変法に基づく統計処理を行なつて、実際の平
担度と比例量である平担度官能値を得てこれを用
いた。
による一対比較官能検査を行ない、その官能検査
データをシエツフエの一対比較法の一変法である
中屋変法に基づく統計処理を行なつて、実際の平
担度と比例量である平担度官能値を得てこれを用
いた。
上記実験結果の一例を第3図に示す。第3図の
横軸は、前記の如くして求めた平担度官能値であ
り、縦軸は、数十本の格子像のピツチの変化より
求めた前記ゆがみ率の平均値即ち平均ゆがみ率お
よび格子像ピツチの偏差である。
横軸は、前記の如くして求めた平担度官能値であ
り、縦軸は、数十本の格子像のピツチの変化より
求めた前記ゆがみ率の平均値即ち平均ゆがみ率お
よび格子像ピツチの偏差である。
投影倍率β=1としたときと、β=5としたと
きとの実験結果を整理すると、平均ゆがみ率およ
び偏差と平担度官能値との関係は、ピツチP単独
に依存して変わるのではなく、投影倍率βとピツ
チPとの積βPによつて変わることが判つた。第
3図においては、上記βPをパラメータとして示
してあるもので、第3図より、βPが3.0mmの如く
大きい場合は、高平担度領域で平均ゆがみ率およ
び偏差が小さくかつ横軸とほぼ平行となるもので
ある。即ち、平担度が変わつても平均ゆがみ率お
よび偏差が殆んど変わらないことが判り、また
βPが0.125mmの如く小さいと、中平担度から低平
担度にわたる領域で平担度の僅かな変化に対して
平均ゆがみ率、偏差は急激に変化し、直線性が低
下することが判る。そしてβPの値がその中間の
例えば0.25mm乃至2.5mmの如き適当な値である場
合においては、高平担度から低平担度にわたる広
い領域で平均ゆがみ率および偏差がほぼ直線的に
変化することが判る。
きとの実験結果を整理すると、平均ゆがみ率およ
び偏差と平担度官能値との関係は、ピツチP単独
に依存して変わるのではなく、投影倍率βとピツ
チPとの積βPによつて変わることが判つた。第
3図においては、上記βPをパラメータとして示
してあるもので、第3図より、βPが3.0mmの如く
大きい場合は、高平担度領域で平均ゆがみ率およ
び偏差が小さくかつ横軸とほぼ平行となるもので
ある。即ち、平担度が変わつても平均ゆがみ率お
よび偏差が殆んど変わらないことが判り、また
βPが0.125mmの如く小さいと、中平担度から低平
担度にわたる領域で平担度の僅かな変化に対して
平均ゆがみ率、偏差は急激に変化し、直線性が低
下することが判る。そしてβPの値がその中間の
例えば0.25mm乃至2.5mmの如き適当な値である場
合においては、高平担度から低平担度にわたる広
い領域で平均ゆがみ率および偏差がほぼ直線的に
変化することが判る。
従つて、試料を介して格子を結像し、その格子
像の平均ゆがみ率および偏差で平担度を表わそう
とする場合、少なくとも 0.25mm≦βP≦2.5mm の関係を満足する必要がある。また前記平均ゆが
み率および偏差と平担度官能値との間の直線性が
一層つくなるのは、次の関係 0.375mmβP≦1.5mm を満足するときであることが判る。
像の平均ゆがみ率および偏差で平担度を表わそう
とする場合、少なくとも 0.25mm≦βP≦2.5mm の関係を満足する必要がある。また前記平均ゆが
み率および偏差と平担度官能値との間の直線性が
一層つくなるのは、次の関係 0.375mmβP≦1.5mm を満足するときであることが判る。
更に上記した広い領域で比例関係を保ちつゝ、
平担度の変化に対して平均ゆがみ率および偏差の
変化が大きく、直線性がよいのは、βP=0.5mmか
ら1.5mmのときであることが判る。
平担度の変化に対して平均ゆがみ率および偏差の
変化が大きく、直線性がよいのは、βP=0.5mmか
ら1.5mmのときであることが判る。
加えて、発明者等の理論的検討によれば、試料
表面が平面ではなくてゆず肌などによる連続した
小さなうねりがあると格子がレンズにより結像さ
れる光電変換素子上で、格子像がぼけることが判
つた。
表面が平面ではなくてゆず肌などによる連続した
小さなうねりがあると格子がレンズにより結像さ
れる光電変換素子上で、格子像がぼけることが判
つた。
これは、該表面が一種の凸面鏡あるいは凹面鏡
としての作用をし、格子がレンズで試料を介して
結像される場合、格子がレンズにより結像される
と共に、更に前記した試料表面の凸面鏡あるいは
凹面鏡の作用で結像されるため、試料が平面であ
る場合の結像位置である光電変換素子位置の前後
にずれた位置に結像されることによるものと考え
られる。
としての作用をし、格子がレンズで試料を介して
結像される場合、格子がレンズにより結像される
と共に、更に前記した試料表面の凸面鏡あるいは
凹面鏡の作用で結像されるため、試料が平面であ
る場合の結像位置である光電変換素子位置の前後
にずれた位置に結像されることによるものと考え
られる。
上述の如く、試料表面が平面ではなく、これが
うねつていたりすると、この試料表面を介して結
像された格子像のぼけには、試料表面の光沢によ
るものと、試料表面のうねりなどによるものとの
両方の情報が含まれており、結像された格子像の
ゆがみで平担度を表わすためには試料の光沢が格
子像を結像するためにある程度以上の大きさを必
要とするほか、試料表面のうねりなどによるぼけ
を除き鮮明な格子像を得る必要がある。
うねつていたりすると、この試料表面を介して結
像された格子像のぼけには、試料表面の光沢によ
るものと、試料表面のうねりなどによるものとの
両方の情報が含まれており、結像された格子像の
ゆがみで平担度を表わすためには試料の光沢が格
子像を結像するためにある程度以上の大きさを必
要とするほか、試料表面のうねりなどによるぼけ
を除き鮮明な格子像を得る必要がある。
試料表面のゆず肌等のうねりの波長をλとする
と、測定視野Sが、次の関係 S≪λ/2 ……(1) を満足するようにすれば、ゆず肌等のうねりによ
るぼけを除くことができる。
と、測定視野Sが、次の関係 S≪λ/2 ……(1) を満足するようにすれば、ゆず肌等のうねりによ
るぼけを除くことができる。
次に測定視野Sが上記(1)式を満足しない場合、
即ち試料表面を平面とみなすことができない場合
について検討してみると、試料表面がうねつてい
ると、うねりによる一種の凸面鏡あるいは凹面鏡
の作用により、格子像の位置が試料が平面である
場合に予定される結像位置からずれるが、その距
離、即ち凹凸面鏡の頂点から、正規の結像位置よ
りずれた結像位置までの距離をb′として、上記凸
凹面鏡の焦点距離をf′とし、試料が平面である場
合における試料表面から、格子の正規の結像位置
である光電変換素子までの距離(以後浮上り量と
する)を△bとすれば、球面反射鏡の結像公式よ
り、例えば、試料表面が凹面の場合には b′=△bf′/△b−f′=△b/△b/f′−1 となる。
即ち試料表面を平面とみなすことができない場合
について検討してみると、試料表面がうねつてい
ると、うねりによる一種の凸面鏡あるいは凹面鏡
の作用により、格子像の位置が試料が平面である
場合に予定される結像位置からずれるが、その距
離、即ち凹凸面鏡の頂点から、正規の結像位置よ
りずれた結像位置までの距離をb′として、上記凸
凹面鏡の焦点距離をf′とし、試料が平面である場
合における試料表面から、格子の正規の結像位置
である光電変換素子までの距離(以後浮上り量と
する)を△bとすれば、球面反射鏡の結像公式よ
り、例えば、試料表面が凹面の場合には b′=△bf′/△b−f′=△b/△b/f′−1 となる。
上式において、△b/f′≪1あるいは、
△b≪f′であれば
b′−△b(本式の負号は物体の反対側に像が
できることを意味する。) 即ち、正規の位置(試料が平面の場合の結像位
置)に結像されるものである。このことは、試料
表面が凹面である場合も同様である。
できることを意味する。) 即ち、正規の位置(試料が平面の場合の結像位
置)に結像されるものである。このことは、試料
表面が凹面である場合も同様である。
次に、ゆず肌等のうねりの曲率半径をrとする
と、 f′=r/2 であり、 浮上り量△bが次の関係 △b≪λ/2 ……(2) を満足するようにすれば、試料表面を平面と見な
すことができない場合であつても、うねりによる
ぼけを除くことができるものである。
と、 f′=r/2 であり、 浮上り量△bが次の関係 △b≪λ/2 ……(2) を満足するようにすれば、試料表面を平面と見な
すことができない場合であつても、うねりによる
ぼけを除くことができるものである。
上記(1)式及び(2)式は、理論的に導かれたもので
あるが、実験的にも S≪λ/2あるいは△b≪λ/2 となすと、試料表面のゆず肌等のうねりによるぼ
けを除くことができ、格子像の平均ゆがみ率およ
び偏差を以て平担度を精度よく表わすことがでひ
ることが確認された。
あるが、実験的にも S≪λ/2あるいは△b≪λ/2 となすと、試料表面のゆず肌等のうねりによるぼ
けを除くことができ、格子像の平均ゆがみ率およ
び偏差を以て平担度を精度よく表わすことがでひ
ることが確認された。
更に実験的に試料表面のゆず肌等のうねりによ
るぼけを完全に除くためには、 S≦λ/20……(3)あるいは△b≦r/20……(4) に設定すればよいことが確認された。
るぼけを完全に除くためには、 S≦λ/20……(3)あるいは△b≦r/20……(4) に設定すればよいことが確認された。
以上述べた(1)式乃至(4)式は、測定視野Sあるい
は浮上り量△bのいずれか一方単独で試料表面の
ゆず肌等うねり等による格子像のぼけを除去する
ための条件を求めたものであつた。そこで測定視
野Sと浮上り量△bとの両者の複合により、上記
(3)式あるいは(4)式の条件の場合と同程度に試料表
面のゆず肌等のうねりによる格子像のぼけを除去
し、格子像の平均ゆがみ率および偏差により平担
度を精度よく表わす場合について実験的に検討し
た。
は浮上り量△bのいずれか一方単独で試料表面の
ゆず肌等うねり等による格子像のぼけを除去する
ための条件を求めたものであつた。そこで測定視
野Sと浮上り量△bとの両者の複合により、上記
(3)式あるいは(4)式の条件の場合と同程度に試料表
面のゆず肌等のうねりによる格子像のぼけを除去
し、格子像の平均ゆがみ率および偏差により平担
度を精度よく表わす場合について実験的に検討し
た。
実験検討用試料としては、平担度の範囲が低平
担度から超高平担度に及び広い領域を有する自動
車用塗膜を選んで行つた。試料のゆず肌の目安と
してのそのうねりの波長λと、曲率半径rとにつ
いては、触針式表面性状測定機を用いて測定した
ところによれば、 λ3mm、r400mm であつた。このことは、測定視野S、あるいは浮
上り量△b単独でうねりによるぼけを除くために
は、(3)式及び(4)式より S≦0.15 あるいは △b≦20mm にすればよく、測定視野Sと浮上り量△bとの両
者で上記うねりによるぼけを除くためには S>0.15mm、△b>20mmとなり、 測定視野Sを浮上り量△bとの下限は決まるが、
その上限が決まらないので、これを実験的に検討
した。この実験においては、△bを30mm、40mm、
50mm、60mm……と変化させ、夫々の△bの値に対
して、測定視野Sを0.2mm、0.3mm、0.4mmと変化さ
せて一連の実験を行なつた。この一連の実験結果
を横軸に△bをとり、縦軸にSをとつて整理する
と第4図の如くなる。第4図において〇記号を付
したものは、うねりによるぼけが除去され、平均
ゆがみ率、および偏差と平担度官能値との直線関
係が良好なものに付し、×記号はうねりによるぼ
けを除くことができず、平均ゆがみ率および偏差
と平担度官能値との直線関係が良好でないことを
示している。第4図において直線1は、△b=
r/20=20(mm)を示し、直線2は、S=λ/20
=0.15(mm)を表わしている。
担度から超高平担度に及び広い領域を有する自動
車用塗膜を選んで行つた。試料のゆず肌の目安と
してのそのうねりの波長λと、曲率半径rとにつ
いては、触針式表面性状測定機を用いて測定した
ところによれば、 λ3mm、r400mm であつた。このことは、測定視野S、あるいは浮
上り量△b単独でうねりによるぼけを除くために
は、(3)式及び(4)式より S≦0.15 あるいは △b≦20mm にすればよく、測定視野Sと浮上り量△bとの両
者で上記うねりによるぼけを除くためには S>0.15mm、△b>20mmとなり、 測定視野Sを浮上り量△bとの下限は決まるが、
その上限が決まらないので、これを実験的に検討
した。この実験においては、△bを30mm、40mm、
50mm、60mm……と変化させ、夫々の△bの値に対
して、測定視野Sを0.2mm、0.3mm、0.4mmと変化さ
せて一連の実験を行なつた。この一連の実験結果
を横軸に△bをとり、縦軸にSをとつて整理する
と第4図の如くなる。第4図において〇記号を付
したものは、うねりによるぼけが除去され、平均
ゆがみ率、および偏差と平担度官能値との直線関
係が良好なものに付し、×記号はうねりによるぼ
けを除くことができず、平均ゆがみ率および偏差
と平担度官能値との直線関係が良好でないことを
示している。第4図において直線1は、△b=
r/20=20(mm)を示し、直線2は、S=λ/20
=0.15(mm)を表わしている。
また直線3は、〇記号と×記号との境界線であ
り、この直線3を数式で表わすと、 S=−0.0204・△b+3.0 となる。上記直線2と直線3との交点の△bは、 △b=140mm となる。
り、この直線3を数式で表わすと、 S=−0.0204・△b+3.0 となる。上記直線2と直線3との交点の△bは、 △b=140mm となる。
従つて、測定視野Sと、浮上り量△bとの両者
の選択によつて、試料表面のゆず肌等のうねりに
よるぼけを除き得て、平均ゆがみ率、および偏差
と平担度官能値との直線関係が良好に保たれるの
は、上記3つの直線1,2,3で囲まれる領域内
となり、浮上り量△bと測定視野Sとが次の関係 20mm<△b140mm 0.15mm<S(−0.0204・△b+3.0)mm を満足する場合である。上記△b=140mmr/3で あるので、上記関係を一般化すれば、 r/20<△b≦r/3 λ/20<S≦−0.0204・△b+3.0 ……(5) 次の実験結果の例を第5図に示す。これは実際
の自動車の塗装された面のほとんどが曲率半径
1000mm程度の曲面であることから、前記ゆがみ検
出量である平均ゆがみ率および偏差について試料
全体の曲りに対する効果、特徴を調べるものであ
る。
の選択によつて、試料表面のゆず肌等のうねりに
よるぼけを除き得て、平均ゆがみ率、および偏差
と平担度官能値との直線関係が良好に保たれるの
は、上記3つの直線1,2,3で囲まれる領域内
となり、浮上り量△bと測定視野Sとが次の関係 20mm<△b140mm 0.15mm<S(−0.0204・△b+3.0)mm を満足する場合である。上記△b=140mmr/3で あるので、上記関係を一般化すれば、 r/20<△b≦r/3 λ/20<S≦−0.0204・△b+3.0 ……(5) 次の実験結果の例を第5図に示す。これは実際
の自動車の塗装された面のほとんどが曲率半径
1000mm程度の曲面であることから、前記ゆがみ検
出量である平均ゆがみ率および偏差について試料
全体の曲りに対する効果、特徴を調べるものであ
る。
第5図の横軸はその表面が平担でゆず肌などが
存在しない平面鏡と実際の自動車の曲面を想定し
た曲率半径1000mmの凸面鏡である。縦軸は前記平
均ゆがみ率および格子像ピツチの偏差である。そ
の結果、検出量が平均ゆがみ率の場合には試料面
が平担でゆず肌がなくとも試料全体の曲率半径に
よつてその大きさが変化する。換言すれば、検出
量が平均ゆがみ率の場合には試料全体の曲率半径
が一定のとき同一評価基準で測定できるが試料全
体の曲率半径が異なる場合には困難である。一方
検出量が格子像ピツチの偏差の場合には、曲率半
径が異なつても試料が平担でゆず肌がなければほ
とんど同一の大きさとなる。換言すればピツチの
偏差は、試料の曲率半径に依存しないで平面から
曲面まで同一評価基準で測定できる効果があるこ
とを示している。
存在しない平面鏡と実際の自動車の曲面を想定し
た曲率半径1000mmの凸面鏡である。縦軸は前記平
均ゆがみ率および格子像ピツチの偏差である。そ
の結果、検出量が平均ゆがみ率の場合には試料面
が平担でゆず肌がなくとも試料全体の曲率半径に
よつてその大きさが変化する。換言すれば、検出
量が平均ゆがみ率の場合には試料全体の曲率半径
が一定のとき同一評価基準で測定できるが試料全
体の曲率半径が異なる場合には困難である。一方
検出量が格子像ピツチの偏差の場合には、曲率半
径が異なつても試料が平担でゆず肌がなければほ
とんど同一の大きさとなる。換言すればピツチの
偏差は、試料の曲率半径に依存しないで平面から
曲面まで同一評価基準で測定できる効果があるこ
とを示している。
したがつてゆがみ検出量平均ゆがみ率は、すべ
ての試料がその全体にわたつて曲りのない平面状
態のものどおしかあるいはすべての試料の全体の
曲率半径が同一のものどおしのゆず肌測定が可能
なことを示し、またゆがみ検出量偏差は前記のほ
か測定すべき試料が平面、曲面ともに混存する場
合とか測定すべき試料全体がすべて曲面でかつそ
れら試料全体の曲率半径がすべて異なる試料が混
存する場合にも有効な測定ができることを示して
いる。
ての試料がその全体にわたつて曲りのない平面状
態のものどおしかあるいはすべての試料の全体の
曲率半径が同一のものどおしのゆず肌測定が可能
なことを示し、またゆがみ検出量偏差は前記のほ
か測定すべき試料が平面、曲面ともに混存する場
合とか測定すべき試料全体がすべて曲面でかつそ
れら試料全体の曲率半径がすべて異なる試料が混
存する場合にも有効な測定ができることを示して
いる。
上記理論及び実験に従つた本発明に係る第1実
施例について、第6図乃至第16図に従つて以下
説明する。第1実施例の平担度測定装置は、本発
明の第1の態様に属する。
施例について、第6図乃至第16図に従つて以下
説明する。第1実施例の平担度測定装置は、本発
明の第1の態様に属する。
第1実施例装置全体の側面配置図を示す第6図
において、通常のタングステンランプ、あるいは
ハロゲンランプ、又は放電灯等より成る光源10
1よりの光線は、直線又は反射鏡102により反
射され、2枚1組のコンデンサレンズ103によ
り格子106を照明する。104は、上記照明光
線より赤外線領域の光を吸収する防熱フイルタで
あり、105は光源絞りであつて、上記照明光束
のうち均一な明るさの部分のみを取出すと共に、
後述する如く格子106の投影像の大きさを規定
するためのものである。
において、通常のタングステンランプ、あるいは
ハロゲンランプ、又は放電灯等より成る光源10
1よりの光線は、直線又は反射鏡102により反
射され、2枚1組のコンデンサレンズ103によ
り格子106を照明する。104は、上記照明光
線より赤外線領域の光を吸収する防熱フイルタで
あり、105は光源絞りであつて、上記照明光束
のうち均一な明るさの部分のみを取出すと共に、
後述する如く格子106の投影像の大きさを規定
するためのものである。
格子106は、第7図に示される如く、明部と
暗部とが同一ピツチで約10mmの長さにわたつて交
互に繰返して形成され、上記長さから次の長さで
は、別のピツチで明部と暗部とが繰返して形成さ
れるもので、明から明に至るピツチ、あるいは暗
から暗に至るピツチをPとすると、例えば左から
P1=0.5mmの格子の20本が10mmにわたつて繰返さ
れ、次にP2=0.4mmのピツチで明暗格子25本が10
mmに亘つて繰返され、以下同様にP3=0.30mmのピ
ツチの明暗格子が約10mmに亘り、次いでP4=0.20
mmのピツチの明暗格子が、次いでP5=0.15mmのピ
ツチの明暗格子が、P6=0.10mmのピツチの明暗格
子が、P7=0.075mmの明暗格子が次いで0.05mmの
明暗格子が夫々約10mmに亘つて形成されているも
のである。
暗部とが同一ピツチで約10mmの長さにわたつて交
互に繰返して形成され、上記長さから次の長さで
は、別のピツチで明部と暗部とが繰返して形成さ
れるもので、明から明に至るピツチ、あるいは暗
から暗に至るピツチをPとすると、例えば左から
P1=0.5mmの格子の20本が10mmにわたつて繰返さ
れ、次にP2=0.4mmのピツチで明暗格子25本が10
mmに亘つて繰返され、以下同様にP3=0.30mmのピ
ツチの明暗格子が約10mmに亘り、次いでP4=0.20
mmのピツチの明暗格子が、次いでP5=0.15mmのピ
ツチの明暗格子が、P6=0.10mmのピツチの明暗格
子が、P7=0.075mmの明暗格子が次いで0.05mmの
明暗格子が夫々約10mmに亘つて形成されているも
のである。
このように形成される格子106は、第6図に
示される如くホルダ107に保持されており、上
記ホルダ107は移動ステージ108とギヤ結合
している。上記移動ステージ108はパルスモー
タ109とギヤ結合しており、該モータ109の
駆動により格子106は光軸と直交する方向に移
動することができる。この際格子106は、明部
と暗部との境界線が移動方向に直交するようにホ
ルダ107に保持されている。
示される如くホルダ107に保持されており、上
記ホルダ107は移動ステージ108とギヤ結合
している。上記移動ステージ108はパルスモー
タ109とギヤ結合しており、該モータ109の
駆動により格子106は光軸と直交する方向に移
動することができる。この際格子106は、明部
と暗部との境界線が移動方向に直交するようにホ
ルダ107に保持されている。
110は、格子106を試料120を介して受
光絞り122上に結像させる投影レンズであり、
絞り111は、投影レンズ110のアパーチヤー
をきめる絞りで、測定視野を測定対象に応じて変
えられるよう、第8図A,B,C,Dに示される
よう虹彩絞りから成つている。同上図においてリ
ング状部材401には円周上等間隔に小孔が穿設
されており、これらの小孔に一端に突起が形成さ
れる複数枚の羽根402が、上記突起と小孔とが
互に回動可能に枢支されている。上記羽根402
の他端に突設される突起は、上記リング状部材4
01に重ね合わされる環状リング403に放避状
に等間隔に多数穿設される溝孔内に嵌合して案内
されている。
光絞り122上に結像させる投影レンズであり、
絞り111は、投影レンズ110のアパーチヤー
をきめる絞りで、測定視野を測定対象に応じて変
えられるよう、第8図A,B,C,Dに示される
よう虹彩絞りから成つている。同上図においてリ
ング状部材401には円周上等間隔に小孔が穿設
されており、これらの小孔に一端に突起が形成さ
れる複数枚の羽根402が、上記突起と小孔とが
互に回動可能に枢支されている。上記羽根402
の他端に突設される突起は、上記リング状部材4
01に重ね合わされる環状リング403に放避状
に等間隔に多数穿設される溝孔内に嵌合して案内
されている。
従つて、環状リング403をリング状部材40
1に対して回動すると、溝孔に案内されて各羽根
402は一斎に回動し、多数の各羽根402の内
側円弧の包絡線で決まる絞り開口が変化し、絞り
開口を連続的に変えることができる。
1に対して回動すると、溝孔に案内されて各羽根
402は一斎に回動し、多数の各羽根402の内
側円弧の包絡線で決まる絞り開口が変化し、絞り
開口を連続的に変えることができる。
上記虹彩絞りに換えて、これを第9図A,Bに
示される如き、固定絞り板502に対し可動絞り
板501を軸505により回動可能に軸支し、上
記固定絞り板502には、投影レンズ110の口
径とほゞ等しい孔504を形成し、固定絞り板5
02には、上記軸505を中心とし、上記孔50
4の中心と軸505との間隔の半径をなす円周上
に、孔504より小径の多数の小孔503を形成
し、固定絞り板502に対し、可動絞り板501
を回動し、孔504の中心と各小孔503の中心
とを合致せしめるようなすことにより絞り開口を
断続的に変化せしめるようなした絞りを用いても
よい。
示される如き、固定絞り板502に対し可動絞り
板501を軸505により回動可能に軸支し、上
記固定絞り板502には、投影レンズ110の口
径とほゞ等しい孔504を形成し、固定絞り板5
02には、上記軸505を中心とし、上記孔50
4の中心と軸505との間隔の半径をなす円周上
に、孔504より小径の多数の小孔503を形成
し、固定絞り板502に対し、可動絞り板501
を回動し、孔504の中心と各小孔503の中心
とを合致せしめるようなすことにより絞り開口を
断続的に変化せしめるようなした絞りを用いても
よい。
第6図において、鏡胴112は、前記した光源
101、反射鏡102、コンデンサ103、防熱
フイルタ104、光源絞り105、投影レンズ1
10、投影レンズ絞り111等を相互に定位置に
保持すると共に、不用な光が漏光するのを遮光す
るためのものである。
101、反射鏡102、コンデンサ103、防熱
フイルタ104、光源絞り105、投影レンズ1
10、投影レンズ絞り111等を相互に定位置に
保持すると共に、不用な光が漏光するのを遮光す
るためのものである。
113は、上記鏡胴112、並びに鏡胴112
内に保持される上記各部品に加えて格子106、
ホルダ107、格子移動ステージ108、パルス
モータ109、等より成る格子投影ユニツトPR
全体をその光軸方向に移動させる案内レールであ
り、上記格子投影ユニツトPRの鏡胴112には
ラツク114が形成されている。これらの構成
は、後述する光電変換ユニツトRと関連するもの
である。
内に保持される上記各部品に加えて格子106、
ホルダ107、格子移動ステージ108、パルス
モータ109、等より成る格子投影ユニツトPR
全体をその光軸方向に移動させる案内レールであ
り、上記格子投影ユニツトPRの鏡胴112には
ラツク114が形成されている。これらの構成
は、後述する光電変換ユニツトRと関連するもの
である。
上記投影ユニツトPRの投影光軸上において筐
体125には、試料120が試料ホルダ121と
試料吸着用永久磁石126,127,128によ
り配設されていて、上記投影光線を反射散乱せし
めるよう配設され、その正反射光軸上の上記格子
106の結像位置に受光絞り122と光電変換素
子123とから成る光電変換ユニツトRが配設さ
れている。124は、上記反射光軸上に沿つて光
電変換ユニツトRを案内する案内レールであり、
光電変換ユニツトRより突出するL型アーム11
8には、上記光電変換ユニツトRの移動方向と平
行するラツク119が形成されている。129は
上記光電変換ユニツトRを上記格子像の明暗境界
線に対し光軸と直交する方向に、L型アーム11
8上を移動する移動ステージであるのでこれによ
り格子像が光電変換される。
体125には、試料120が試料ホルダ121と
試料吸着用永久磁石126,127,128によ
り配設されていて、上記投影光線を反射散乱せし
めるよう配設され、その正反射光軸上の上記格子
106の結像位置に受光絞り122と光電変換素
子123とから成る光電変換ユニツトRが配設さ
れている。124は、上記反射光軸上に沿つて光
電変換ユニツトRを案内する案内レールであり、
光電変換ユニツトRより突出するL型アーム11
8には、上記光電変換ユニツトRの移動方向と平
行するラツク119が形成されている。129は
上記光電変換ユニツトRを上記格子像の明暗境界
線に対し光軸と直交する方向に、L型アーム11
8上を移動する移動ステージであるのでこれによ
り格子像が光電変換される。
前記投影ユニツトPRの鏡胴112のラツク1
14と噛合するピニオン115と、上記ラツク1
19と噛合するピニオン117とは、中間歯車1
16を介して互に噛合しており、上記3個の歯車
は同一寸法形状のものである。
14と噛合するピニオン115と、上記ラツク1
19と噛合するピニオン117とは、中間歯車1
16を介して互に噛合しており、上記3個の歯車
は同一寸法形状のものである。
従つて中間歯車116を例えば矢印の反時計方
向に回動すると、投影ユニツトPRは筐体125
内を案内レール113に沿つて矢印方向(右方)
に移動すると共に、光電変換ユニツトRは、案内
レール124に沿つてこれと同量だけ矢印方向
(下方)へと移動し、浮上り量△bを変化し得る
ものであり、中間歯車116を逆方向に回転せし
めることにより、投影ユニツトPR及び光電変換
ユニツトRは逆方向に動作する。
向に回動すると、投影ユニツトPRは筐体125
内を案内レール113に沿つて矢印方向(右方)
に移動すると共に、光電変換ユニツトRは、案内
レール124に沿つてこれと同量だけ矢印方向
(下方)へと移動し、浮上り量△bを変化し得る
ものであり、中間歯車116を逆方向に回転せし
めることにより、投影ユニツトPR及び光電変換
ユニツトRは逆方向に動作する。
上記光電変換素子123は格子像の強度分布を
光電変換するためのもので、フオトダイオード、
フオトトランジスタ、太陽電池、光電管、光電子
増倍管等、その強度に応じて種々のものを使用し
得るものである。
光電変換するためのもので、フオトダイオード、
フオトトランジスタ、太陽電池、光電管、光電子
増倍管等、その強度に応じて種々のものを使用し
得るものである。
なお、筐体125は、暗箱を構成し、外部から
の光の侵入を遮断するものであることは、当然で
ある。
の光の侵入を遮断するものであることは、当然で
ある。
上記投影ユニツトPRと光電変換ユニツトRと
を含む筐体125を検出ヘツドIと呼ぶと、ケー
ブル130は、上記検出ヘツドIと、後述する電
気ユニツトEとを接続するもである。
を含む筐体125を検出ヘツドIと呼ぶと、ケー
ブル130は、上記検出ヘツドIと、後述する電
気ユニツトEとを接続するもである。
電気ユニツトEは、本発明の信号処理回路を構
成するものであり、電源スイツチ131と、パル
スモータ109の駆動スイツチ132と、光電変
換ユニツトRを移動させる移動ステージ129の
駆動スイツチ133と後述の信号処理回路のリセ
ツトスイツチ211,212,215と標準およ
び測定試料用スイツチ209,213と基準電圧
発生回路の電圧レベル設定つまみ205′と測定
する試料120のゆがみ率の値を表示する表示器
222とをその外部に有し、内部に第10図に示
す信号処理回路CPCを有している。
成するものであり、電源スイツチ131と、パル
スモータ109の駆動スイツチ132と、光電変
換ユニツトRを移動させる移動ステージ129の
駆動スイツチ133と後述の信号処理回路のリセ
ツトスイツチ211,212,215と標準およ
び測定試料用スイツチ209,213と基準電圧
発生回路の電圧レベル設定つまみ205′と測定
する試料120のゆがみ率の値を表示する表示器
222とをその外部に有し、内部に第10図に示
す信号処理回路CPCを有している。
第10図において、破線で囲まれる電気ユニツ
トEには、前記した矩形波格子像を光電変換する
光電変換ユニツトRを移動させることにより光電
変換素子123から格子像の間隔または幅が時間
的に変化する正弦波的信号Siが入力する。
トEには、前記した矩形波格子像を光電変換する
光電変換ユニツトRを移動させることにより光電
変換素子123から格子像の間隔または幅が時間
的に変化する正弦波的信号Siが入力する。
信号処理回路のブロツク201は増巾器、20
2は電気的雑音消去フイルター、203は前記電
気信号Siのピーク値を保持するためのピークホー
ルド回路で、この後信号Siは、各々のピーク値で
パルス信号を出力するコンパレータ204に入力
する。205は基準電圧発生回路でコンパレータ
204のスライスレベルを設定するための基準電
圧を発生する。コンパレータ204から出力され
た信号は、ゲート回路206で反転され信号Siの
ピーク値とピーク値の間隔すなわち格子像のピツ
チに比例するゲート信号に変換される。一方この
ゲート回路206の他端には、基準周波数信号発
生器206が接続されているので、前記ゲート信
号幅に比例する基準周波数のパルスの個数がカウ
ンタ208でカウントされる。209は第6図の
試料120が平面鏡のような完全平面のときに用
いる標準試料用スイツチでこのスイツチを閉じる
ことにより前記カウンタ208の出力である前記
基準周波数のパルスの個数(これをNoと定義す
る)が、記憶回路210に入力され、記憶回路2
10の出力は減算器216の一端に接続される。
212は記憶回路210のリセツトスイツチであ
る。
2は電気的雑音消去フイルター、203は前記電
気信号Siのピーク値を保持するためのピークホー
ルド回路で、この後信号Siは、各々のピーク値で
パルス信号を出力するコンパレータ204に入力
する。205は基準電圧発生回路でコンパレータ
204のスライスレベルを設定するための基準電
圧を発生する。コンパレータ204から出力され
た信号は、ゲート回路206で反転され信号Siの
ピーク値とピーク値の間隔すなわち格子像のピツ
チに比例するゲート信号に変換される。一方この
ゲート回路206の他端には、基準周波数信号発
生器206が接続されているので、前記ゲート信
号幅に比例する基準周波数のパルスの個数がカウ
ンタ208でカウントされる。209は第6図の
試料120が平面鏡のような完全平面のときに用
いる標準試料用スイツチでこのスイツチを閉じる
ことにより前記カウンタ208の出力である前記
基準周波数のパルスの個数(これをNoと定義す
る)が、記憶回路210に入力され、記憶回路2
10の出力は減算器216の一端に接続される。
212は記憶回路210のリセツトスイツチであ
る。
次に第6図の試料ホルダ121より前記平面鏡
を除去し、平担度を測定すべき試料を設置する。
そしてリセツトスイツチ211,215を閉成
し、前記ピークホールド回路203、カウンタ2
08、および後述する記憶回路214,219、
およびカウンタ221をリセツトする。また前記
標準試料用スイツチ209を開成するとともに測
定試料用スイツチ213を閉成しておく。このよ
うな状態において、電気信号Siは前記増幅器20
1、電気的雑音消去フイルタ202、ピークホー
ルド回路203、コンパレータ204を経てゲー
ト回路206に入力する。このゲート回路206
でつくられるゲート信号は各格子像のゆがみで生
じる信号Siの各ピーク値間隔の変化すなわち格子
像のピツチに応じてそれぞれ異なつた幅をもつこ
とになる。したがつてこのようなゲート回路20
6の他端に基準周波数信号発生器207を接続す
ればそれぞれゲート信号巾に応じたパルス数Ni
(ただしiはピーク値からピーク値一組を1とす
る1,2,3……nまでの整数)がカウンタ20
8より出力され測定試料用スイツチ213を通つ
て記憶回路214に入力する。この記憶回路21
4は前後段式の記憶回路で、はじめに格子像の最
初の一組の明から明の像間隔に対応するゲート信
号幅に比例した前記基準周波数のパルス数N1が
前段に入力する。そして次の格子像の明から明の
像間隔に比例するパルス数N2が前段に入力する
と、N1が後段に移り、さらに次の格子像の明か
ら明の像間隔に比例するパルス数N3が前段に入
力するとN2が後段に移るため、N1が押し出され
次の減算器211の一端に入力される。
を除去し、平担度を測定すべき試料を設置する。
そしてリセツトスイツチ211,215を閉成
し、前記ピークホールド回路203、カウンタ2
08、および後述する記憶回路214,219、
およびカウンタ221をリセツトする。また前記
標準試料用スイツチ209を開成するとともに測
定試料用スイツチ213を閉成しておく。このよ
うな状態において、電気信号Siは前記増幅器20
1、電気的雑音消去フイルタ202、ピークホー
ルド回路203、コンパレータ204を経てゲー
ト回路206に入力する。このゲート回路206
でつくられるゲート信号は各格子像のゆがみで生
じる信号Siの各ピーク値間隔の変化すなわち格子
像のピツチに応じてそれぞれ異なつた幅をもつこ
とになる。したがつてこのようなゲート回路20
6の他端に基準周波数信号発生器207を接続す
ればそれぞれゲート信号巾に応じたパルス数Ni
(ただしiはピーク値からピーク値一組を1とす
る1,2,3……nまでの整数)がカウンタ20
8より出力され測定試料用スイツチ213を通つ
て記憶回路214に入力する。この記憶回路21
4は前後段式の記憶回路で、はじめに格子像の最
初の一組の明から明の像間隔に対応するゲート信
号幅に比例した前記基準周波数のパルス数N1が
前段に入力する。そして次の格子像の明から明の
像間隔に比例するパルス数N2が前段に入力する
と、N1が後段に移り、さらに次の格子像の明か
ら明の像間隔に比例するパルス数N3が前段に入
力するとN2が後段に移るため、N1が押し出され
次の減算器211の一端に入力される。
減算器214の他端には、すでに試料として全
くゆがみのない平面鏡による格子像のピーク値間
隔に対応する基準パルス数N0の記憶回路210
より入力されているので、N0−N1、N1−N2…
…N0−Ni(ただしiは1,2,3……nの整数)
を次々に演算する。217は減算器216による
演算結果を絶対値化するための負から正への符号
変換器である。したがつて前記変換器217の出
力は、|N0−N1|、|N0−N2|……|N0−Ni|
のようになる。
くゆがみのない平面鏡による格子像のピーク値間
隔に対応する基準パルス数N0の記憶回路210
より入力されているので、N0−N1、N1−N2…
…N0−Ni(ただしiは1,2,3……nの整数)
を次々に演算する。217は減算器216による
演算結果を絶対値化するための負から正への符号
変換器である。したがつて前記変換器217の出
力は、|N0−N1|、|N0−N2|……|N0−Ni|
のようになる。
そして次の割算器218に送られ|N0−Ni
|/N0が計算されるとともに、その結果は次々
に記憶回路219に送られ加算される。そしてそ
の加算値o 〓i=1 |N0−Ni|/N0は次の平均化回路2
20に送られ1/2o 〓i=1 |N0−Ni|/N0が計算される。
|/N0が計算されるとともに、その結果は次々
に記憶回路219に送られ加算される。そしてそ
の加算値o 〓i=1 |N0−Ni|/N0は次の平均化回路2
20に送られ1/2o 〓i=1 |N0−Ni|/N0が計算される。
ただしnは、カウンタ221でカウントされた格
子像の明から明を1とする1,2,3……の整数
である。したがつて平均化回路220により前記
平均ゆがみ率も計算できる。この平均化回路は試
料の局所的な誤差を緩和し、平担度官能値との相
関を一層良いものにする。222は前記ゆがみ率
あるいは平均ゆがみ率を表示する表示器である。
子像の明から明を1とする1,2,3……の整数
である。したがつて平均化回路220により前記
平均ゆがみ率も計算できる。この平均化回路は試
料の局所的な誤差を緩和し、平担度官能値との相
関を一層良いものにする。222は前記ゆがみ率
あるいは平均ゆがみ率を表示する表示器である。
試料表面がうねつていたりすると、前記した如
く格子像が受光絞り122の位置から脱れ、光電
変換素子123は光電変換できなくなる。それ
故、格子像が受光絞り122の位置から脱れない
ようにするためには、投影レンズ110の投影倍
率βを大きく設定するか、光源絞り105の絞り
径dSを大きくする必要がある。しかしながら上記
絞り径dSをあまり大きくすると、光源101、反
射鏡102、コンデンサレンズ103による格子
106の照明光のスポツトの明るさが不均一とな
り、その結果、格子像の試料120による強度分
布に、照明光の強度分布が重なり、測定誤差が大
きくなる。そこで光源絞り105の絞り径dSとし
ては、光源101、反射鏡102、コンデンサレ
ンズ103で決まる照明光束のうち、均一な明る
さのスポツトが得られる範囲より大きくすること
はできず、本実施例においては、これを8mmφと
設定した。
く格子像が受光絞り122の位置から脱れ、光電
変換素子123は光電変換できなくなる。それ
故、格子像が受光絞り122の位置から脱れない
ようにするためには、投影レンズ110の投影倍
率βを大きく設定するか、光源絞り105の絞り
径dSを大きくする必要がある。しかしながら上記
絞り径dSをあまり大きくすると、光源101、反
射鏡102、コンデンサレンズ103による格子
106の照明光のスポツトの明るさが不均一とな
り、その結果、格子像の試料120による強度分
布に、照明光の強度分布が重なり、測定誤差が大
きくなる。そこで光源絞り105の絞り径dSとし
ては、光源101、反射鏡102、コンデンサレ
ンズ103で決まる照明光束のうち、均一な明る
さのスポツトが得られる範囲より大きくすること
はできず、本実施例においては、これを8mmφと
設定した。
格子像を忠実に光電変換するためには、受光絞
り122の絞り径d1を可及的に小さくするか、前
記投影倍率βを大きくする必要があるが、絞り径
d1をあまり小さくすると、受光素子123に入射
する光量が減少し、光電変換することができなく
なるし、また極端に小さい径の絞りを製作するこ
とは技術的にも困難であるので、本実施例におい
ては、これを0.2mmφと設定した。
り122の絞り径d1を可及的に小さくするか、前
記投影倍率βを大きくする必要があるが、絞り径
d1をあまり小さくすると、受光素子123に入射
する光量が減少し、光電変換することができなく
なるし、また極端に小さい径の絞りを製作するこ
とは技術的にも困難であるので、本実施例におい
ては、これを0.2mmφと設定した。
上記した如く、光源絞り105の絞り径dSをあ
まり大きくとれず、これをdS=8mmφとし、受光
絞り122の絞り径d1をあまり小さくすることが
できず、これをd1=0.2mmφとしたことから、格
子像の大きさを成る可く大きくし、且つ該像を光
電変換する際における分解能を高くするため、投
影倍率βはこれを大きくする必要があり、本実施
例においては、β=5と設定した。
まり大きくとれず、これをdS=8mmφとし、受光
絞り122の絞り径d1をあまり小さくすることが
できず、これをd1=0.2mmφとしたことから、格
子像の大きさを成る可く大きくし、且つ該像を光
電変換する際における分解能を高くするため、投
影倍率βはこれを大きくする必要があり、本実施
例においては、β=5と設定した。
投影レンズ110の焦点距離f=50mmであり、
格子106から投影レンズ110までの距離60mm
としているので、投影レンズ110から受光絞り
122までの距離は、300mmとなる。
格子106から投影レンズ110までの距離60mm
としているので、投影レンズ110から受光絞り
122までの距離は、300mmとなる。
上記構成よりなる本第1実施例の奏する作用効
果について、試料が自動車用塗膜の場合について
以下説明する。
果について、試料が自動車用塗膜の場合について
以下説明する。
試料が自動車用塗膜である場合、測定視野S及
び浮上り量△bを適当に設定する必要がある。自
動車用塗膜における平担度を表わす一例として、
ゆず肌の目安としての表面のうねりの曲率半径
は、r≧400mmであり、うねりの波長λは、λ
3mmである。
び浮上り量△bを適当に設定する必要がある。自
動車用塗膜における平担度を表わす一例として、
ゆず肌の目安としての表面のうねりの曲率半径
は、r≧400mmであり、うねりの波長λは、λ
3mmである。
格子像の上記ゆず肌によるぼけを除くには、前
記したように、S≦λ/20とするか、あるいは△
b≦r/20にするか、又はS≪λ/2にするか、あ るいは△b≦r/2にするか、又は、r/20<△
b≦r/3にし、且つλ/20<S≦(−0.0204・△b +3.0)にする必要がある。本実施例においては、
上記最後の関係をS、△bが満足するようにし
た。即ち、20mm<△b1140で、且つ 0.15mm<S(−0.0204・△b+3.0)となる。
記したように、S≦λ/20とするか、あるいは△
b≦r/20にするか、又はS≪λ/2にするか、あ るいは△b≦r/2にするか、又は、r/20<△
b≦r/3にし、且つλ/20<S≦(−0.0204・△b +3.0)にする必要がある。本実施例においては、
上記最後の関係をS、△bが満足するようにし
た。即ち、20mm<△b1140で、且つ 0.15mm<S(−0.0204・△b+3.0)となる。
浮上り量△bを大きくすると、測定視野Sが大
きくなるので、浮上り量をあまり大きくすること
ができず、本実施例においては、△b=50mmに設
定することにした。このように設定すると、0.15
mm<S≦1.98mmとなり、測定視野Sとしては、格
子像のぼけをできるだけ除去しかつ十分な光量が
得られるようにS=0.5mmにすることにした。
きくなるので、浮上り量をあまり大きくすること
ができず、本実施例においては、△b=50mmに設
定することにした。このように設定すると、0.15
mm<S≦1.98mmとなり、測定視野Sとしては、格
子像のぼけをできるだけ除去しかつ十分な光量が
得られるようにS=0.5mmにすることにした。
以上の如く、S=0.5mm、△b=50mmとすると
投影レンズ110から受光絞り122までの距離
が300mmであるから、投影レンズ絞り111の絞
り径d1はこれをd1=3mmφにする必要がある。
投影レンズ110から受光絞り122までの距離
が300mmであるから、投影レンズ絞り111の絞
り径d1はこれをd1=3mmφにする必要がある。
以上のことから、本実施例を用いて、自動車用
塗膜の平担度を測定せんとするときには、先ず試
料ホルダ121と試料吸着用永久磁石126,1
27,128の間に平面鏡を保持せしめ、中間歯
車116を回動して、上記平面鏡である試料12
0と受光絞り122との間隔を50mmとし、△b=
50mmに設定する。
塗膜の平担度を測定せんとするときには、先ず試
料ホルダ121と試料吸着用永久磁石126,1
27,128の間に平面鏡を保持せしめ、中間歯
車116を回動して、上記平面鏡である試料12
0と受光絞り122との間隔を50mmとし、△b=
50mmに設定する。
次にレンズ絞り111の環状リング403のノ
ブを回動操作し、その絞り径d1を、d1=3mmφに
する。そして次に電源スイツチ131を閉じ、光
源101を点灯し、光電変換素子123を動作状
態にすると共に、信号処理回路等電気ユニツトE
のすべてを動作状態にする。
ブを回動操作し、その絞り径d1を、d1=3mmφに
する。そして次に電源スイツチ131を閉じ、光
源101を点灯し、光電変換素子123を動作状
態にすると共に、信号処理回路等電気ユニツトE
のすべてを動作状態にする。
次にパルスモータ109の駆動スイツチ132
を閉成し、パルスモータ109を駆動して、矩形
波格子を移動させ、光軸にピツチP4=0.20mmの中
央付近の12あるいは13本目の格子がさしかゝつた
ところで上記スイツチ132を開放することによ
り、矩形波格子106のピツチを試料に応じてマ
ツチするピツチのものとする、上記の場合は、ピ
ツチP4=0.20mmにセツトされる。
を閉成し、パルスモータ109を駆動して、矩形
波格子を移動させ、光軸にピツチP4=0.20mmの中
央付近の12あるいは13本目の格子がさしかゝつた
ところで上記スイツチ132を開放することによ
り、矩形波格子106のピツチを試料に応じてマ
ツチするピツチのものとする、上記の場合は、ピ
ツチP4=0.20mmにセツトされる。
次にリセツトスイツチ211,212を閉じて
ピークホールド回路203、カウンタ208、お
よび記憶回路210をリセツトし、基準電圧レベ
ル設定つまみ205′を回動し、所定の電圧を発
生せしめるようにする。そして移動ステージ12
9を駆動せしめる駆動スイツチ133を閉じると
投影レンズ110により平面鏡を介して結像され
るゆがみのない格子像が光電変換される。
ピークホールド回路203、カウンタ208、お
よび記憶回路210をリセツトし、基準電圧レベ
ル設定つまみ205′を回動し、所定の電圧を発
生せしめるようにする。そして移動ステージ12
9を駆動せしめる駆動スイツチ133を閉じると
投影レンズ110により平面鏡を介して結像され
るゆがみのない格子像が光電変換される。
従つて光電変換素子123には、格子像の明部
と暗部に対応する光が交互に入射し、正弦波的な
電気信号Siに光電変換され出力する。
と暗部に対応する光が交互に入射し、正弦波的な
電気信号Siに光電変換され出力する。
上記電気信号Siは、電気ユニツトEの信号処理
回路の増巾器201に入力され、さらに電気的雑
音消去フイルタ202で電気的な雑音が消去され
た後、信号のピーク値を保持するピークホールド
回路203を経てコンパレータ204に入力す
る。このコンパレータ204の動作により上記信
号Siのピーク値のパルス信号が出力される。した
がつて試料120が平面鏡のときは格子像がゆが
まないので、コンパレータ204からは等間隔の
パルスが出力される。
回路の増巾器201に入力され、さらに電気的雑
音消去フイルタ202で電気的な雑音が消去され
た後、信号のピーク値を保持するピークホールド
回路203を経てコンパレータ204に入力す
る。このコンパレータ204の動作により上記信
号Siのピーク値のパルス信号が出力される。した
がつて試料120が平面鏡のときは格子像がゆが
まないので、コンパレータ204からは等間隔の
パルスが出力される。
205は基準電圧発生回路で既述の基準電圧レ
ベル設定つまみ205′の回動によりコンパレー
タ204のスライスレベルを設定するための基準
電圧を発生する。コンパレータ204から出力さ
れた信号は、ゲート回路206で反転され信号Si
のピーク値とピーク値の間隔に比例するゲート信
号に変換される。このゲート回路206の他端に
は、基準周波数信号発生器207が接続され、前
記ゲート信号幅に比例する基準周波数のパルスの
個数がカウンタ208でカウントされる。209
は試料120が平面鏡のような完全平面のときに
用いる標準試料用スイツチでこのスイツチを閉じ
ることにより前記カウンタ208の出力である前
記基準周波数のパルスの個数(これをN0と定義
する)が、記憶回路210に入力され、記憶回路
210の出力は減算器216の一端に接続され
る。
ベル設定つまみ205′の回動によりコンパレー
タ204のスライスレベルを設定するための基準
電圧を発生する。コンパレータ204から出力さ
れた信号は、ゲート回路206で反転され信号Si
のピーク値とピーク値の間隔に比例するゲート信
号に変換される。このゲート回路206の他端に
は、基準周波数信号発生器207が接続され、前
記ゲート信号幅に比例する基準周波数のパルスの
個数がカウンタ208でカウントされる。209
は試料120が平面鏡のような完全平面のときに
用いる標準試料用スイツチでこのスイツチを閉じ
ることにより前記カウンタ208の出力である前
記基準周波数のパルスの個数(これをN0と定義
する)が、記憶回路210に入力され、記憶回路
210の出力は減算器216の一端に接続され
る。
次に第6図の試料ホルダ121より前記平面鏡
を除去し、平担度を測定すべき試料を設置する。
そしてリセツトスイツチ211,215を再び閉
成し、前記ピークホールド回路203、カウンタ
208、および後述する記憶回路214,21
9、カウンタ221の内容をリセツトする。また
前記標準試料用スイツチ209を開成するととも
に測定試料用スイツチ213を閉成しておく。こ
のような状態において、電気信号Siは前記増幅器
201、電気的雑音消去フイルタ202、ピーク
ホールド回路203、コンパレータ204を経て
ゲート回路206に入力する。このゲート回路2
06でつくられるゲート信号は試料120の平担
度に依存する格子像のゆがみで生じる信号Siの各
ピーク値間隔の変化に応じてそれぞれの異なつた
幅をもつことになる。したがつてこのようなゲー
ト回路206の他端に接続された基準周波数信号
発生器207により、それぞれのゲート信号巾に
応じたパルス数N1(ただしiはピーク値からピー
ク値一組を1とする1,2,3,……nまでの整
数)がカウンタ208より出力され測定試料用ス
イツチ213を通つて記憶回路214に入力す
る。この記憶回路214は前後段式の記憶回路
で、はじめに格子像の最初の一組の明から明の像
間隔に対応するゲート信号幅に比例した前記基準
周波数のパルス数N1が前段に入力する。そして
次の格子像の明から明の像間隔に比例するパルス
数N2が前段に入力すると、N1が後段に移り、さ
らに次の格子像の明から明の像間隔に比例するパ
ルス数N2が前段に入力するとN2が後段に移るた
め、N1が押し出され次の減算器211の一端に
入力される。これを次々にくり返す。
を除去し、平担度を測定すべき試料を設置する。
そしてリセツトスイツチ211,215を再び閉
成し、前記ピークホールド回路203、カウンタ
208、および後述する記憶回路214,21
9、カウンタ221の内容をリセツトする。また
前記標準試料用スイツチ209を開成するととも
に測定試料用スイツチ213を閉成しておく。こ
のような状態において、電気信号Siは前記増幅器
201、電気的雑音消去フイルタ202、ピーク
ホールド回路203、コンパレータ204を経て
ゲート回路206に入力する。このゲート回路2
06でつくられるゲート信号は試料120の平担
度に依存する格子像のゆがみで生じる信号Siの各
ピーク値間隔の変化に応じてそれぞれの異なつた
幅をもつことになる。したがつてこのようなゲー
ト回路206の他端に接続された基準周波数信号
発生器207により、それぞれのゲート信号巾に
応じたパルス数N1(ただしiはピーク値からピー
ク値一組を1とする1,2,3,……nまでの整
数)がカウンタ208より出力され測定試料用ス
イツチ213を通つて記憶回路214に入力す
る。この記憶回路214は前後段式の記憶回路
で、はじめに格子像の最初の一組の明から明の像
間隔に対応するゲート信号幅に比例した前記基準
周波数のパルス数N1が前段に入力する。そして
次の格子像の明から明の像間隔に比例するパルス
数N2が前段に入力すると、N1が後段に移り、さ
らに次の格子像の明から明の像間隔に比例するパ
ルス数N2が前段に入力するとN2が後段に移るた
め、N1が押し出され次の減算器211の一端に
入力される。これを次々にくり返す。
減算器216の他端には、すでに試料として全
くゆがみのない平面鏡による格子像のピーク値間
隔に対応する基準パルス数N0が記憶回路210
より入力されているので、N0−N1、N0−N2…
…N0−Ni(ただしiは1,2,3……nの整数)
を次々に演算する。217は減算器216による
演算結果を絶対値化するための負から正への符号
変換器である。したがつて前記変換器217の出
力は|N0−N1|、|N0−N2|……|N0−Ni|の
ようになる。
くゆがみのない平面鏡による格子像のピーク値間
隔に対応する基準パルス数N0が記憶回路210
より入力されているので、N0−N1、N0−N2…
…N0−Ni(ただしiは1,2,3……nの整数)
を次々に演算する。217は減算器216による
演算結果を絶対値化するための負から正への符号
変換器である。したがつて前記変換器217の出
力は|N0−N1|、|N0−N2|……|N0−Ni|の
ようになる。
そして次の割算器218により|N0−Ni|/
N0が計算されるとともに、その結果は次々に記
憶回路219に送られ加算される。そしてその加
算値o 〓i=1 |N0−Ni|/N0は次の平均化回路220
に送られ1/no 〓i=1 |N0−Ni|/N0が計算される。ただ しnは、カウンタ221でカウントされた格子像
明から明を1とする1,2,3……の整数であ
る。したがつて平均化回路220により前記平均
ゆがみ率も計算できる。この平均化回路は試料の
局所的な誤差を緩和し、平担度官能値との相関を
一層良いものにする。222は前記ゆがみ率ある
いは平均ゆがみ率を表示する表示器である。ただ
し第10図は格子像の明像と明像の間隔の変化を
電気信号Siのピーク値とピーク値の間隔を測定し
てゆがみを検出する実施例を示したが。その他格
子像に暗像と暗像の間隔に対応する電気信号Siの
谷の値と谷の値の間隔を測定する方法、あるいは
格子像の明像による電気信号の半値巾と隣接する
暗像による電気信号の半値巾の和あるいは、格子
像の明像による電気信号の半値巾の中心と、次の
明像による電気信号の半値巾の中心との間隔ある
いは、格子像の暗像による電気信号の半値巾の中
心と、次の暗像による電気信号の半値巾の中心と
の間隔あるいは、格子像の各明、暗像による電気
信号の各半値巾などを測定してゆがみを検出でき
ることは云うまでもない。
N0が計算されるとともに、その結果は次々に記
憶回路219に送られ加算される。そしてその加
算値o 〓i=1 |N0−Ni|/N0は次の平均化回路220
に送られ1/no 〓i=1 |N0−Ni|/N0が計算される。ただ しnは、カウンタ221でカウントされた格子像
明から明を1とする1,2,3……の整数であ
る。したがつて平均化回路220により前記平均
ゆがみ率も計算できる。この平均化回路は試料の
局所的な誤差を緩和し、平担度官能値との相関を
一層良いものにする。222は前記ゆがみ率ある
いは平均ゆがみ率を表示する表示器である。ただ
し第10図は格子像の明像と明像の間隔の変化を
電気信号Siのピーク値とピーク値の間隔を測定し
てゆがみを検出する実施例を示したが。その他格
子像に暗像と暗像の間隔に対応する電気信号Siの
谷の値と谷の値の間隔を測定する方法、あるいは
格子像の明像による電気信号の半値巾と隣接する
暗像による電気信号の半値巾の和あるいは、格子
像の明像による電気信号の半値巾の中心と、次の
明像による電気信号の半値巾の中心との間隔ある
いは、格子像の暗像による電気信号の半値巾の中
心と、次の暗像による電気信号の半値巾の中心と
の間隔あるいは、格子像の各明、暗像による電気
信号の各半値巾などを測定してゆがみを検出でき
ることは云うまでもない。
上記説明において、試料が自動車用塗膜である
場合、上記の如く格子106のピツチをP4=0.2
mmに設定したが、測定対象が自動車用塗膜から他
のものに変わつた場合は、これを所望のピツチに
設定することができる。
場合、上記の如く格子106のピツチをP4=0.2
mmに設定したが、測定対象が自動車用塗膜から他
のものに変わつた場合は、これを所望のピツチに
設定することができる。
また、塗膜の平担度測定において、浮上り量△
bを△b=50mmに、測定視野SをS=0.5mm(レ
ンズ絞り111の絞り径d1=3mmφ)にしたの
で、ゆず肌などによる格子像のぼけの誤差の介入
は全くなく、精度の高い平担度測定が可能であ
る。
bを△b=50mmに、測定視野SをS=0.5mm(レ
ンズ絞り111の絞り径d1=3mmφ)にしたの
で、ゆず肌などによる格子像のぼけの誤差の介入
は全くなく、精度の高い平担度測定が可能であ
る。
更に、光源絞り105の絞り径dSを均一な明る
さの照明光束となるよう8mmφにしたので、照明
光のスポツトの明るさの不均一性による誤差の介
入も全くない。
さの照明光束となるよう8mmφにしたので、照明
光のスポツトの明るさの不均一性による誤差の介
入も全くない。
以上第6図から第10図を使つて本発明に関す
る第1実施例の構成、作用効果などを記述して来
たが、さらにこれらの実施例の実用性の利点を挙
げれば次のようになる。
る第1実施例の構成、作用効果などを記述して来
たが、さらにこれらの実施例の実用性の利点を挙
げれば次のようになる。
すなわち、従来の装置が机等の上に固定して使
用するのにくらべ、本発明によれば第6図の検出
ヘツドIに持ち運びできるほど小型にすることが
でき、かつ電気ユニツトEも測定者の肩から吊り
下げて持ち運ぶシヨルダ型にすることができる。
したがつて、従来の装置にくらべ持ち運びが自由
になるばかりでなく、検出ヘツドI、電気ユニツ
トEも小型になるため、実際の自動車の生産ライ
ンなどでの測定が可能になり、これまでの人間に
よる主観的な官能検査に代り得る客観的な検査が
実施でき、自動車などの塗装仕上り品質の管理が
飛躍的に向上するなどその実用効果ははかり知れ
ないものとなる。
用するのにくらべ、本発明によれば第6図の検出
ヘツドIに持ち運びできるほど小型にすることが
でき、かつ電気ユニツトEも測定者の肩から吊り
下げて持ち運ぶシヨルダ型にすることができる。
したがつて、従来の装置にくらべ持ち運びが自由
になるばかりでなく、検出ヘツドI、電気ユニツ
トEも小型になるため、実際の自動車の生産ライ
ンなどでの測定が可能になり、これまでの人間に
よる主観的な官能検査に代り得る客観的な検査が
実施でき、自動車などの塗装仕上り品質の管理が
飛躍的に向上するなどその実用効果ははかり知れ
ないものとなる。
次に本発明の第2の態様を第2実施例の平担度
測定装置に基づいて第11図を用いて説明する。
測定装置に基づいて第11図を用いて説明する。
本第2実施例装置は、本発明の第1の態様に属
する第1実施例装置の信号処理回路CPCに第1
1図に示す偏差検出回路DDCを付加したもので、
以下偏差検出回路DDCを中心に述べる。
する第1実施例装置の信号処理回路CPCに第1
1図に示す偏差検出回路DDCを付加したもので、
以下偏差検出回路DDCを中心に述べる。
偏差検出回路DDCは、加算器230と、カウ
ンタ231と、掛算器232と、減算器233
と、記憶回路234と、割算器235と、二乗器
236と、記憶回路237と、割算器238と、
平方根回路239と、表示器240とから成る。
ンタ231と、掛算器232と、減算器233
と、記憶回路234と、割算器235と、二乗器
236と、記憶回路237と、割算器238と、
平方根回路239と、表示器240とから成る。
信号処理回路CPCの割算器218より出力さ
れるゆがみ率δi=|N0−Ni|/N0を加算器23
0の一方に入力するとともに、カウンタ231か
ら送られる整数1を前記加算器230の他方の端
子より入力し加算する。そしてその加算値1+δi
を掛算器232の一方に入力するとともに、第1
0図の記憶回路210から送られる基準パルス
N0を掛算器232の他方に入力、演算する。そ
してその掛算された値N0(1+δi)を次の減算器
233の一方に入力する。ところでこの減算器2
33の他端子には、以下のようにして計算される
矩形波格子像のピツチの平均値にが入力されて
いる。すなわち、第10図の記憶回路214から
送られる矩形波格子像の各々のピツチに比例する
パルス数Niを記憶回路234に送りΣNiを計算
する。そしてこのΣNiを次の割算器235の一方
に送るとともに、この割算器235の他端子には
第10図のカウンタ221による矩形波格子像の
数nが接続されているので、=1/nΣNiが前記 減算器233の他端子に送られる。そして減算器
233の出力であるN0(1+δi)−)は次の二
乗器236に送られ(N0(1+δi)−)2が計算さ
れた後、さらに次の記憶回路237で加算、記憶
されo 〓i=1 {N0(1+δi)−}2なる残差平方和が計
算される。
れるゆがみ率δi=|N0−Ni|/N0を加算器23
0の一方に入力するとともに、カウンタ231か
ら送られる整数1を前記加算器230の他方の端
子より入力し加算する。そしてその加算値1+δi
を掛算器232の一方に入力するとともに、第1
0図の記憶回路210から送られる基準パルス
N0を掛算器232の他方に入力、演算する。そ
してその掛算された値N0(1+δi)を次の減算器
233の一方に入力する。ところでこの減算器2
33の他端子には、以下のようにして計算される
矩形波格子像のピツチの平均値にが入力されて
いる。すなわち、第10図の記憶回路214から
送られる矩形波格子像の各々のピツチに比例する
パルス数Niを記憶回路234に送りΣNiを計算
する。そしてこのΣNiを次の割算器235の一方
に送るとともに、この割算器235の他端子には
第10図のカウンタ221による矩形波格子像の
数nが接続されているので、=1/nΣNiが前記 減算器233の他端子に送られる。そして減算器
233の出力であるN0(1+δi)−)は次の二
乗器236に送られ(N0(1+δi)−)2が計算さ
れた後、さらに次の記憶回路237で加算、記憶
されo 〓i=1 {N0(1+δi)−}2なる残差平方和が計
算される。
そしてこの記憶回路237の出力o
〓i=1
{N0(1+
δi)−}2は次の割算器238の一方に送られる。
なおこの割算器238の他端子には、第10図の
カウンタ221によつて格子像のピツチ数を表わ
す整数nが接続されているのでo 〓i=1 {N0(1+δi)
−}/nが計算される。そこでこれを次にその
平方根を計算する回路239で計算すればこれは
すなわち格子像のピツチの偏差を意味する。次の
240は偏差の値を表示する表示器である。
δi)−}2は次の割算器238の一方に送られる。
なおこの割算器238の他端子には、第10図の
カウンタ221によつて格子像のピツチ数を表わ
す整数nが接続されているのでo 〓i=1 {N0(1+δi)
−}/nが計算される。そこでこれを次にその
平方根を計算する回路239で計算すればこれは
すなわち格子像のピツチの偏差を意味する。次の
240は偏差の値を表示する表示器である。
したがつて、本第2実施例装置は、第1実施例
装置に、簡単な信号処理回路である偏差検出回路
DDCを付加することにより、前記ゆがみ率のほ
か偏差についても簡単に計算、表示するものであ
るため、第1実施例装置が奏する作用効果に加え
て自動車のボデイーの様に測定面全体の中で曲率
が変化する試料であつても、試料全体に亘る曲り
の影響を除去するので精度良く平担度を検出する
ことができるという利点を有する。
装置に、簡単な信号処理回路である偏差検出回路
DDCを付加することにより、前記ゆがみ率のほ
か偏差についても簡単に計算、表示するものであ
るため、第1実施例装置が奏する作用効果に加え
て自動車のボデイーの様に測定面全体の中で曲率
が変化する試料であつても、試料全体に亘る曲り
の影響を除去するので精度良く平担度を検出する
ことができるという利点を有する。
したがつて本第2実施例装置はゆがみ率のほか
偏差についても検出できるため、測定対象とする
すべての試料の中に、平面試料とは曲面試料が混
存しても何ら平担度測定の機能を失わないばかり
か、さらに測定しようとするすべての試料が曲面
でかつその試料全体の曲率半径が異なるような場
合、すなわち自動車のボデイの様な測定面でも何
ら平担度測定の機能を失わないという利点を有す
る。
偏差についても検出できるため、測定対象とする
すべての試料の中に、平面試料とは曲面試料が混
存しても何ら平担度測定の機能を失わないばかり
か、さらに測定しようとするすべての試料が曲面
でかつその試料全体の曲率半径が異なるような場
合、すなわち自動車のボデイの様な測定面でも何
ら平担度測定の機能を失わないという利点を有す
る。
なお上記第1実施例においては、矩形波格子1
06として、第7図に示される如きものを用いた
が、これを第12図及び第13図に示す如き、機
械的にピツチが可変な矩形波格子となしてもよ
い。
06として、第7図に示される如きものを用いた
が、これを第12図及び第13図に示す如き、機
械的にピツチが可変な矩形波格子となしてもよ
い。
すなわち第12図は、上記機械的にピツチが可
変な矩形波格子の上面図を、第13図はその側面
図を示すものである。同上図において複数個の互
に交互に配列される矩形羽根301,302の上
側端部には、後述するパンタグラフ状の平行リン
ク305の支点306,307と連結するアーム
が付設されている。303,304は上記矩形羽
根301,302を挾み、これを一方向にのみ滑
動できるようにする案内部材である。平行リンク
305は、上記矩形羽根301,302による暗
部の間隔d′と明部の間隔dとを等しくし、しかも
その間隔d,d′を可変とするパンタグラフ機構で
ある。平行リンク305の各支点306,30
7,308の各支点間距離をなす支点306から
支点307までの距離と、支点306から支点3
08までの距離は互に等しく、且つ第8図の矢印
方向への各支点306,307,308の変位量
は同種の支点相互に夫々等しい。
変な矩形波格子の上面図を、第13図はその側面
図を示すものである。同上図において複数個の互
に交互に配列される矩形羽根301,302の上
側端部には、後述するパンタグラフ状の平行リン
ク305の支点306,307と連結するアーム
が付設されている。303,304は上記矩形羽
根301,302を挾み、これを一方向にのみ滑
動できるようにする案内部材である。平行リンク
305は、上記矩形羽根301,302による暗
部の間隔d′と明部の間隔dとを等しくし、しかも
その間隔d,d′を可変とするパンタグラフ機構で
ある。平行リンク305の各支点306,30
7,308の各支点間距離をなす支点306から
支点307までの距離と、支点306から支点3
08までの距離は互に等しく、且つ第8図の矢印
方向への各支点306,307,308の変位量
は同種の支点相互に夫々等しい。
平行リンク305の両端の支点のうち一方(左
端)は、前記案内部材303に連結されており、
他方(右端)は、案内部材303に螺入されるね
じ309に連結されている。
端)は、前記案内部材303に連結されており、
他方(右端)は、案内部材303に螺入されるね
じ309に連結されている。
従つて、ねじ309を回転させると、ねじ30
9は案内部材303に対してその軸方向に移動を
し、平行リンク305はパンタグラフ状に変形
し、各支点306,307,308が矢印方向の
いずれかに夫々一斎に等量変位する。そのため、
各支点306と夫々交互に連結している矩形羽根
301と302が矢印方向に夫々一斎に等量移動
をし、その光を透過する明部と光を遮断する暗部
との幅を等しく変化させ、明暗格子のピツチを変
えることができる。第8図及び第9図において、
矩形羽根301,302を2枚1組となすものに
ついて述べたが、これを多数枚とすることによ
り、任意のピツチの矩形波格子を形成することが
できる。
9は案内部材303に対してその軸方向に移動を
し、平行リンク305はパンタグラフ状に変形
し、各支点306,307,308が矢印方向の
いずれかに夫々一斎に等量変位する。そのため、
各支点306と夫々交互に連結している矩形羽根
301と302が矢印方向に夫々一斎に等量移動
をし、その光を透過する明部と光を遮断する暗部
との幅を等しく変化させ、明暗格子のピツチを変
えることができる。第8図及び第9図において、
矩形羽根301,302を2枚1組となすものに
ついて述べたが、これを多数枚とすることによ
り、任意のピツチの矩形波格子を形成することが
できる。
また前述の第1実施例装置では、矩形波格子像
のゆがみを光電検出する方法として、結像された
矩形波格子像の境界線に対し直交する方向に光電
変換ユニツトRを移動ステージ129で移動する
方法を示したが第14図〜16図に示すようにし
ても光電変換素子を移動するのと同等な電気信号
が得られることは云うまでもない。ここで第14
図は前記光電変換ユニツトRを回転させて矩形波
格子像のゆがみを光電検出する方法の配置図であ
る。601は矩形波格子像、602はモータ、6
03はモータのシヤフト、604はモータのシヤ
フト603に取付けられた充分大きな半径を有す
る支持棒、605は、支持棒の先端に取付けられ
た光電変換素子、606は受光絞りである。した
がつて、モータ602を駆動すれば、光電変換素
子605から前記電気信号Siが出力され、矩形波
格子像のゆがみを光電検出できる。
のゆがみを光電検出する方法として、結像された
矩形波格子像の境界線に対し直交する方向に光電
変換ユニツトRを移動ステージ129で移動する
方法を示したが第14図〜16図に示すようにし
ても光電変換素子を移動するのと同等な電気信号
が得られることは云うまでもない。ここで第14
図は前記光電変換ユニツトRを回転させて矩形波
格子像のゆがみを光電検出する方法の配置図であ
る。601は矩形波格子像、602はモータ、6
03はモータのシヤフト、604はモータのシヤ
フト603に取付けられた充分大きな半径を有す
る支持棒、605は、支持棒の先端に取付けられ
た光電変換素子、606は受光絞りである。した
がつて、モータ602を駆動すれば、光電変換素
子605から前記電気信号Siが出力され、矩形波
格子像のゆがみを光電検出できる。
第15図は振動ミラー法と称するゆがみ検出方
法の光学系配置図である。610は光源、611
は矩形波格子、612は投影レンズ、613は試
料、614は振動ミラー、615はミラー614
を振動させるガルバノメータ、616は格子像、
617は受光絞り、618は光電変換素子であ
る。したがつてガルバノメータ615を駆動さ
せ、ミラー614が規定の角度θだけ回転するよ
うにすれば、固定された受光絞り617、光電変
換素子618上を矩形波格子像が移動するので光
電変換素子618より前記電気信号Siが出力され
矩形波格子像のゆがみを光電検出できる。ただし
619は光学系の光軸を示す。
法の光学系配置図である。610は光源、611
は矩形波格子、612は投影レンズ、613は試
料、614は振動ミラー、615はミラー614
を振動させるガルバノメータ、616は格子像、
617は受光絞り、618は光電変換素子であ
る。したがつてガルバノメータ615を駆動さ
せ、ミラー614が規定の角度θだけ回転するよ
うにすれば、固定された受光絞り617、光電変
換素子618上を矩形波格子像が移動するので光
電変換素子618より前記電気信号Siが出力され
矩形波格子像のゆがみを光電検出できる。ただし
619は光学系の光軸を示す。
第16図は、イメージセンサを利用した矩形波
格子像とイメージセンサの位置関係を示す配置図
である。620,621は矩形波格子像の暗像、
622は矩形波格子像の明像である。623は複
数個の光検出器が直線上に複数個配列されたイメ
ージセンサである。
格子像とイメージセンサの位置関係を示す配置図
である。620,621は矩形波格子像の暗像、
622は矩形波格子像の明像である。623は複
数個の光検出器が直線上に複数個配列されたイメ
ージセンサである。
したがつて第16図に示すようなイメージセン
サを用い、矩形波格子像620,621,622
および光電変換素子623のいずれも移動させる
ことなく、矩形波格子像のピツチ、間隔または巾
の変化を簡単に測定して、格子像強度の分布を検
出することができる。
サを用い、矩形波格子像620,621,622
および光電変換素子623のいずれも移動させる
ことなく、矩形波格子像のピツチ、間隔または巾
の変化を簡単に測定して、格子像強度の分布を検
出することができる。
その他、本発明は、上述以外にも本発明の特許
請求の範囲の精神に反しない範囲で幾多の設計変
更および付加的変更が可能である。
請求の範囲の精神に反しない範囲で幾多の設計変
更および付加的変更が可能である。
第1図は、本発明の平担度測定の測定原理図を
示し、第2図は、第1図の測定原理による光学系
で得られた矩形波格子像の例を示すもので、同図
aは試料のゆず肌が全く存在しない平面鏡を介し
た矩形波格子像を示す図、同図bは試料にゆず肌
が存在する塗膜を介して得られたゆがんだ矩形波
格子像を示す図、同図cおよびdは、光電変換素
子の出力信号を示す図、第3図は、平均ゆがみ率
および偏差平担度官能値との関係が投影倍率β
と、矩形波格子のピツチPとの積(βP)により
変化する状態を実験的に調べた結果を示す図表で
あり、第4図は、測定視野Sと、浮上り量△bと
によつて、うねり等による矩形波格子像のゆがみ
を実験的に試した結果を示す図表、第5図は、試
料全体の曲率半径と検出量平均ゆがみ率および偏
差の関係を示す実験結果を示す図、第6図は、本
発明の第1実施例全体の側面配置図であり、第7
図は、同上実施例における矩形波格子の正面図、
第8図は、同上実施例のレンズ絞りの一例を示す
もので、同図Aは外観正面図、同図Bは、その横
断側面図、同図Cはその環状リングを取去つた背
面図、同図Dは、その環状リングの裏面図、第9
図は、同上実施例のレンズ絞りの他例を示すもの
で、同図Aは、その外観正面図、同図Bは、その
縦断側面図、第10図は、同上実施例におけるゆ
がみ率および平均ゆがみ率を計算する電気ユニツ
トE内の信号処理回路等のブロツク図、第11図
は同上実施例における偏差を計算する信号処理回
路のブロツク図、第12図及び第13図は、ピツ
チを可変な矩形波格子の他の例を示し、第12図
はその上面図、第13図は、その側面図、第14
図は、他の光電変換ユニツトの配置図、第15図
は他の光電変換ユニツトの配置図、および第16
図は他の光電変換ユニツトの配置図を夫々示す。 I……検出ヘツド、PR……パターン投影ユニ
ツト、101……光源、103……コンデンサレ
ンズ、105……光源絞り、106……矩形波格
子、107……ホルダ、108……移動ステー
ジ、109……パルスモータ、110……投影レ
ンズ、111……投影レンズ絞り、113,12
4……案内レール、114,119……ラツク、
115,117……ピニオン、116……中間歯
車、118……L型アーム、120……試料、1
21……試料ホルダ、R……光電変換ユニツト、
122……受光絞り、123……光電変換素子、
126,127,128……試料吸着用永久磁
石、129……移動ステージ、E……電気ユニツ
ト、CPC……信号処理回路、DDC……偏差検出
回路、130……ケーブル、131……電源スイ
ツチ、132,133……駆動スイツチ、21
1,212,215……リセツトスイツチ、20
9……標準試料用スイツチ、213……測定試料
用スイツチ、201……増巾器、202……電気
的雑音消去フイルタ、203……ピークホールド
回路、204……コンパレータ、205……基準
電圧発生回路、206……ゲート回路、207…
…基準周波数信号発生器、208,221……カ
ウンタ、210,214,219……記憶回路、
211,212,215……リセツトスイツチ、
209……標準試料用スイツチ、213……測定
試料用スイツチ、216……減算器、217……
符号変換器、218……割算器、220……平均
化回路、222……表示器、230……加算器、
231……カウンタ、232……掛算器、233
……減算器、234……記憶回路、235……割
算器、236……二乗器、237……記憶回路、
238……割算器、239……平方根を計算する
回路、240……表示器。
示し、第2図は、第1図の測定原理による光学系
で得られた矩形波格子像の例を示すもので、同図
aは試料のゆず肌が全く存在しない平面鏡を介し
た矩形波格子像を示す図、同図bは試料にゆず肌
が存在する塗膜を介して得られたゆがんだ矩形波
格子像を示す図、同図cおよびdは、光電変換素
子の出力信号を示す図、第3図は、平均ゆがみ率
および偏差平担度官能値との関係が投影倍率β
と、矩形波格子のピツチPとの積(βP)により
変化する状態を実験的に調べた結果を示す図表で
あり、第4図は、測定視野Sと、浮上り量△bと
によつて、うねり等による矩形波格子像のゆがみ
を実験的に試した結果を示す図表、第5図は、試
料全体の曲率半径と検出量平均ゆがみ率および偏
差の関係を示す実験結果を示す図、第6図は、本
発明の第1実施例全体の側面配置図であり、第7
図は、同上実施例における矩形波格子の正面図、
第8図は、同上実施例のレンズ絞りの一例を示す
もので、同図Aは外観正面図、同図Bは、その横
断側面図、同図Cはその環状リングを取去つた背
面図、同図Dは、その環状リングの裏面図、第9
図は、同上実施例のレンズ絞りの他例を示すもの
で、同図Aは、その外観正面図、同図Bは、その
縦断側面図、第10図は、同上実施例におけるゆ
がみ率および平均ゆがみ率を計算する電気ユニツ
トE内の信号処理回路等のブロツク図、第11図
は同上実施例における偏差を計算する信号処理回
路のブロツク図、第12図及び第13図は、ピツ
チを可変な矩形波格子の他の例を示し、第12図
はその上面図、第13図は、その側面図、第14
図は、他の光電変換ユニツトの配置図、第15図
は他の光電変換ユニツトの配置図、および第16
図は他の光電変換ユニツトの配置図を夫々示す。 I……検出ヘツド、PR……パターン投影ユニ
ツト、101……光源、103……コンデンサレ
ンズ、105……光源絞り、106……矩形波格
子、107……ホルダ、108……移動ステー
ジ、109……パルスモータ、110……投影レ
ンズ、111……投影レンズ絞り、113,12
4……案内レール、114,119……ラツク、
115,117……ピニオン、116……中間歯
車、118……L型アーム、120……試料、1
21……試料ホルダ、R……光電変換ユニツト、
122……受光絞り、123……光電変換素子、
126,127,128……試料吸着用永久磁
石、129……移動ステージ、E……電気ユニツ
ト、CPC……信号処理回路、DDC……偏差検出
回路、130……ケーブル、131……電源スイ
ツチ、132,133……駆動スイツチ、21
1,212,215……リセツトスイツチ、20
9……標準試料用スイツチ、213……測定試料
用スイツチ、201……増巾器、202……電気
的雑音消去フイルタ、203……ピークホールド
回路、204……コンパレータ、205……基準
電圧発生回路、206……ゲート回路、207…
…基準周波数信号発生器、208,221……カ
ウンタ、210,214,219……記憶回路、
211,212,215……リセツトスイツチ、
209……標準試料用スイツチ、213……測定
試料用スイツチ、216……減算器、217……
符号変換器、218……割算器、220……平均
化回路、222……表示器、230……加算器、
231……カウンタ、232……掛算器、233
……減算器、234……記憶回路、235……割
算器、236……二乗器、237……記憶回路、
238……割算器、239……平方根を計算する
回路、240……表示器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 光源と、該光源に近接して配置され、測定対
象に応じて調整されたピツチで明暗が交互に多数
繰返えされる格子と、測定対象に応じた倍率を得
るために所定の焦点距離を有し、且つ該格子に対
して調整された所定位置に配置するとともに、測
定対象に応じた試料上の照明スポツト径を得るた
めに調整されたレンズ有効径を有する測定しよう
とする試料表面により反射させて格子像を結像さ
せるレンズと、 該レンズによる前記格子像の結像位置に配置さ
れるとともに、測定対象に応じた浮上り量を得る
ために試料からの距離を調整した位置に配置さ
れ、格子像強度を光電変換する光電変換素子と、 該光電変換素子に接続され該光電変換素子から
の電気信号に基づき演算して求めた格子像のピツ
チPi′と試料が平面鏡などのように平担で格子像
にゆがみがないときの格子像のピツチである基準
ピツチPo′との差の絶対値|Po′−Pi′|を該基準
ピツチPo′で除したゆがみ率 δi=|Po′−Pi′|/Po′を演算する信号処理回路
と、 前記格子または光電変換素子の少くともいずれ
か一方を格子の明暗境界線が互いに横切る様に移
動可能にした構成もしくはそれと等価の構成によ
り、格子像強度分布を検出可能にした構成より成
り、 前記ゆがみ率を検出することにより試料の平担
度を測定するようにしたことを特徴とする平担度
測定装置。 2 前記信号処理回路に、試料により反射され結
像された格子像の各ピツチ毎のゆがみ率 δi=|Po′−Pi′|/Po′をn個加算し、nより除
し て平均ゆがみ率を求める算術平均回路を付加
し、前記平均ゆがみ率を検出することにより試料
の平担度を測定するようにしたことを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の平担度測定装置。 3 前記信号処理回路に、試料により反射され結
像された格子像の各ピツチPi′の平均値′を演算
するとともに、該平均値′と基準ピツチPo′とゆ
がみ率δiで表わされる偏差σ を演算する偏差検出回路を付加し、該偏差を検出
することにより試料の平担度を測定するようにし
たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
平担度測定装置。 4 装置の投影倍率βと格子のピツチPの積βP
を0.25mm≦βP≦2.5mmを満足するように設定して
塗膜のゆず肌の測定を可能にしたことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の平担度測定装置。 5 装置の投影倍率βと格子のピツチPの積βP
を0.375mm≦βP≦1.5mmを満足するように設定して
塗膜のゆず肌の測定を可能にしたことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の平担度測定装置。 6 装置の視野Sを試料表面の曲面あるいはうね
り並びにゆず肌の波長λに対してs<<λ/2を
満足するように設定するか、あるいは浮上り量△
bを試料表面の上記した曲面、うねり、あるいは
ゆず肌等の曲率半径rに対して△b<<r/2を
満足するようにしたことを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の平担度測定装置。 7 装置の視野sを試料表面の曲面等の波長λに
対してs≦λ/2を満足するように設定するか、
あるいは浮上り量△bを上記試料表面の曲面の曲
率半径rに対して△b≦r/20を満足するように
設定したことを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の平担度測定装置。 8 装置の浮上り量△bを試料表面の曲面等の曲
率半径rに対してr/20<△b≦r/3を満足す
るように設定すると共に、視野sと試料表面の曲
面等の波長λと、上記浮上り量△bとをλ/20<
s≦(−0.0204△b+3.0)を満足するように設定
したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の平担度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15317079A JPS5676004A (en) | 1979-11-26 | 1979-11-26 | Measuring device of flatness |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15317079A JPS5676004A (en) | 1979-11-26 | 1979-11-26 | Measuring device of flatness |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5676004A JPS5676004A (en) | 1981-06-23 |
| JPH0211085B2 true JPH0211085B2 (ja) | 1990-03-12 |
Family
ID=15556577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15317079A Granted JPS5676004A (en) | 1979-11-26 | 1979-11-26 | Measuring device of flatness |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5676004A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5833155A (ja) * | 1981-08-22 | 1983-02-26 | Datsuku Eng Kk | 記録用磁気テ−プの疵検査装置 |
| JPS60119404A (ja) * | 1983-12-01 | 1985-06-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 板ガラスの歪検査装置 |
| WO1990006505A1 (en) * | 1988-11-28 | 1990-06-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of and apparatus for detecting wrinkles in tapes |
| US5078496A (en) * | 1990-08-14 | 1992-01-07 | Autospect, Inc. | Machine vision surface characterization system |
| JPH04109263U (ja) * | 1991-03-08 | 1992-09-22 | 日本精工株式会社 | シール装置 |
| US5309222A (en) * | 1991-07-16 | 1994-05-03 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Surface undulation inspection apparatus |
| CN110044292A (zh) * | 2018-01-16 | 2019-07-23 | 郑州宇通客车股份有限公司 | 一种基于线结构光的三维测量方法和系统 |
| JP7767823B2 (ja) * | 2021-10-15 | 2025-11-12 | 大日本印刷株式会社 | 表面性状測定装置および表面性状測定方法 |
-
1979
- 1979-11-26 JP JP15317079A patent/JPS5676004A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5676004A (en) | 1981-06-23 |
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