JPH02111741A - 光学活性2−(1−ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法 - Google Patents
光学活性2−(1−ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法Info
- Publication number
- JPH02111741A JPH02111741A JP26492088A JP26492088A JPH02111741A JP H02111741 A JPH02111741 A JP H02111741A JP 26492088 A JP26492088 A JP 26492088A JP 26492088 A JP26492088 A JP 26492088A JP H02111741 A JPH02111741 A JP H02111741A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- naphthylmethyl
- succinic acid
- formula
- added
- mmol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- IAQHIBLUEJOQEX-UHFFFAOYSA-N 2-(naphthalen-1-ylmethyl)butanedioic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(CC(=O)O)C(O)=O)=CC=CC2=C1 IAQHIBLUEJOQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 14
- 230000006340 racemization Effects 0.000 title description 5
- IAQHIBLUEJOQEX-LBPRGKRZSA-N (2s)-2-(naphthalen-1-ylmethyl)butanedioic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C[C@@H](CC(=O)O)C(O)=O)=CC=CC2=C1 IAQHIBLUEJOQEX-LBPRGKRZSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 87
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 28
- 239000002585 base Substances 0.000 abstract description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 9
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract description 5
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 206010020772 Hypertension Diseases 0.000 abstract description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 3
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 87
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 81
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 68
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 53
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 34
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 32
- -1 succinic acid diester Chemical class 0.000 description 31
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 26
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 25
- IAQHIBLUEJOQEX-GFCCVEGCSA-N (2r)-2-(naphthalen-1-ylmethyl)butanedioic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C[C@H](CC(=O)O)C(O)=O)=CC=CC2=C1 IAQHIBLUEJOQEX-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 24
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 23
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 20
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 13
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 11
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 11
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 11
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- KMPWYEUPVWOPIM-KODHJQJWSA-N cinchonidine Chemical compound C1=CC=C2C([C@H]([C@H]3[N@]4CC[C@H]([C@H](C4)C=C)C3)O)=CC=NC2=C1 KMPWYEUPVWOPIM-KODHJQJWSA-N 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 10
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MIDXCONKKJTLDX-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylcyclopentane-1,2-dione Chemical compound CC1CC(C)C(=O)C1=O MIDXCONKKJTLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 8
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N L-histidine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 8
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 235000013736 caramel Nutrition 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 8
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 7
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- LSGDSLLKMMMLAS-GFCCVEGCSA-N (2R)-2-(naphthalen-1-ylmethyl)butanedioyl dichloride Chemical compound C1=CC=C2C(C[C@H](CC(=O)Cl)C(Cl)=O)=CC=CC2=C1 LSGDSLLKMMMLAS-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 6
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 6
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 6
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- KMPWYEUPVWOPIM-UHFFFAOYSA-N cinchonidine Natural products C1=CC=C2C(C(C3N4CCC(C(C4)C=C)C3)O)=CC=NC2=C1 KMPWYEUPVWOPIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- UMPSXRYVXUPCOS-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC(Cl)=C1Cl UMPSXRYVXUPCOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N Dimethyl succinate Chemical compound COC(=O)CCC(=O)OC MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 4
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 4
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- DZUVNFGGHZODSB-MRXNPFEDSA-N (2r)-4-morpholin-4-yl-2-(naphthalen-1-ylmethyl)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C([C@H](C(=O)O)CC=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C(=O)N1CCOCC1 DZUVNFGGHZODSB-MRXNPFEDSA-N 0.000 description 3
- BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical compound C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKMROQRQHGEIOW-UHFFFAOYSA-N Diethyl succinate Chemical compound CCOC(=O)CCC(=O)OCC DKMROQRQHGEIOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 3
- DWAYENIPKPKKMV-ILKKLZGPSA-N [(2s)-3-(1h-imidazol-3-ium-4-yl)-1-methoxy-1-oxopropan-2-yl]azanium;dichloride Chemical compound Cl.Cl.COC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 DWAYENIPKPKKMV-ILKKLZGPSA-N 0.000 description 3
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 3
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 3
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCEJTXWZGWBSPX-UHFFFAOYSA-N 2-(naphthalen-1-ylmethylidene)butanedioic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C=C(CC(=O)O)C(O)=O)=CC=CC2=C1 OCEJTXWZGWBSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutan-2-one Chemical compound CC(C)C(C)=O SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 2
- 229910000288 alkali metal carbonate Chemical class 0.000 description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 2
- HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N anhydrous collidine Natural products CC1=CC=NC(C)=C1C HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940030600 antihypertensive agent Drugs 0.000 description 2
- 239000002220 antihypertensive agent Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N collidine Natural products CC1=CC=C(C)C(C)=N1 UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N sym-collidine Natural products CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ONDSBJMLAHVLMI-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyldiazomethane Chemical compound C[Si](C)(C)[CH-][N+]#N ONDSBJMLAHVLMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FMCGSUUBYTWNDP-ONGXEEELSA-N (1R,2S)-2-(dimethylamino)-1-phenyl-1-propanol Chemical compound CN(C)[C@@H](C)[C@H](O)C1=CC=CC=C1 FMCGSUUBYTWNDP-ONGXEEELSA-N 0.000 description 1
- KWGRBVOPPLSCSI-PSASIEDQSA-N (1s,2r)-2-(methylamino)-1-phenylpropan-1-ol Chemical compound CN[C@H](C)[C@@H](O)C1=CC=CC=C1 KWGRBVOPPLSCSI-PSASIEDQSA-N 0.000 description 1
- UJGXKWXFTJIRDO-LBPRGKRZSA-N (4-nitrophenyl)methyl (2s)-2-amino-3-(1h-imidazol-5-yl)propanoate Chemical compound C([C@H](N)C(=O)OCC=1C=CC(=CC=1)[N+]([O-])=O)C1=CNC=N1 UJGXKWXFTJIRDO-LBPRGKRZSA-N 0.000 description 1
- WXUAQHNMJWJLTG-VKHMYHEASA-N (S)-methylsuccinic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](C)CC(O)=O WXUAQHNMJWJLTG-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethane Chemical compound COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGFAWKRXZLGJSK-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dihydroxyphenyl)-2-(4-nitrophenyl)ethanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OGFAWKRXZLGJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 1-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(C=O)=CC=CC2=C1 SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQEUFEKYXDPUSK-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethylamine Chemical compound CC(N)C1=CC=CC=C1 RQEUFEKYXDPUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RULKYXXCCZZKDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5-tetrachlorophenol Chemical compound OC1=CC(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl RULKYXXCCZZKDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPEPGIOVXBBUMJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-difluorophenol Chemical compound OC1=CC=CC(F)=C1F RPEPGIOVXBBUMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFZWRUODUSTPEG-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1Cl HFZWRUODUSTPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFBJCMHMOXMLKC-UHFFFAOYSA-N 2,4-dinitrophenol Chemical compound OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O UFBJCMHMOXMLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLHYSJJBXSLMV-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=CC=C1Cl HOLHYSJJBXSLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Br)C(=O)C1=CC=CC=C1 ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 2-bromophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Br VADKRMSMGWJZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQDJTBPASNJQFQ-UHFFFAOYSA-N 2-iodophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1I KQDJTBPASNJQFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HORNXRXVQWOLPJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC(Cl)=C1 HORNXRXVQWOLPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJTBRFHBXDZMPS-UHFFFAOYSA-N 3-fluorophenol Chemical compound OC1=CC=CC(F)=C1 SJTBRFHBXDZMPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXTKWBZFNQHAAO-UHFFFAOYSA-N 3-iodophenol Chemical compound OC1=CC=CC(I)=C1 FXTKWBZFNQHAAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZZCYNQPHTPPL-UHFFFAOYSA-N 3-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 RTZZCYNQPHTPPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZFGOTFRPZRKDS-UHFFFAOYSA-N 4-bromophenol Chemical compound OC1=CC=C(Br)C=C1 GZFGOTFRPZRKDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOJSYRZQZOMOK-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-7-(4-methylphenyl)sulfonylpyrrolo[2,3-d]pyrimidine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)N1C2=NC=NC(Cl)=C2C=C1 BTOJSYRZQZOMOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 4-ethylmorpholine Chemical compound CCN1CCOCC1 HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHMPLDJJXGPMEX-UHFFFAOYSA-N 4-fluorophenol Chemical compound OC1=CC=C(F)C=C1 RHMPLDJJXGPMEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSMDINRNYYEDRN-UHFFFAOYSA-N 4-iodophenol Chemical compound OC1=CC=C(I)C=C1 VSMDINRNYYEDRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGUKYNXWOWSRET-UHFFFAOYSA-N 4-pyrrolidin-1-ylpyridine Chemical compound C1CCCN1C1=CC=NC=C1 RGUKYNXWOWSRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150041968 CDC13 gene Proteins 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUXIBTJKHLUKBD-UHFFFAOYSA-N Dibutyl succinate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(=O)OCCCC YUXIBTJKHLUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100232410 Homo sapiens CLNS1A gene Proteins 0.000 description 1
- 101000579218 Homo sapiens Renin Proteins 0.000 description 1
- BXRMEWOQUXOLDH-LURJTMIESA-N L-Histidine methyl ester Chemical compound COC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 BXRMEWOQUXOLDH-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- 102100020846 Methylosome subunit pICln Human genes 0.000 description 1
- PHSPJQZRQAJPPF-UHFFFAOYSA-N N-alpha-Methylhistamine Chemical compound CNCCC1=CN=CN1 PHSPJQZRQAJPPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PPWHTZKZQNXVAE-UHFFFAOYSA-N Tetracaine hydrochloride Chemical compound Cl.CCCCNC1=CC=C(C(=O)OCCN(C)C)C=C1 PPWHTZKZQNXVAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHVZOJONCUEWAV-UHFFFAOYSA-N [K].CCO Chemical compound [K].CCO GHVZOJONCUEWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SORGEQQSQGNZFI-UHFFFAOYSA-N [azido(phenoxy)phosphoryl]oxybenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)(N=[N+]=[N-])OC1=CC=CC=C1 SORGEQQSQGNZFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003862 amino acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005002 aryl methyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011914 asymmetric synthesis Methods 0.000 description 1
- AXIQMEOYYYWDKF-LBPRGKRZSA-N benzyl (2s)-2-amino-3-(1h-imidazol-5-yl)propanoate Chemical compound C([C@H](N)C(=O)OCC=1C=CC=CC=1)C1=CNC=N1 AXIQMEOYYYWDKF-LBPRGKRZSA-N 0.000 description 1
- IRXBNHGNHKNOJI-UHFFFAOYSA-N butanedioyl dichloride Chemical compound ClC(=O)CCC(Cl)=O IRXBNHGNHKNOJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KMPWYEUPVWOPIM-QAMTZSDWSA-N cinchonine Chemical compound C1=CC=C2C([C@@H]([C@@H]3[N@]4CC[C@H]([C@H](C4)C=C)C3)O)=CC=NC2=C1 KMPWYEUPVWOPIM-QAMTZSDWSA-N 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- KWGRBVOPPLSCSI-UHFFFAOYSA-N d-ephedrine Natural products CNC(C)C(O)C1=CC=CC=C1 KWGRBVOPPLSCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002097 dibutylsuccinate Drugs 0.000 description 1
- GRTGGSXWHGKRSB-UHFFFAOYSA-N dichloromethyl methyl ether Chemical compound COC(Cl)Cl GRTGGSXWHGKRSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPLYFEUBZLLLIY-UHFFFAOYSA-N dipropan-2-yl butanedioate Chemical compound CC(C)OC(=O)CCC(=O)OC(C)C YPLYFEUBZLLLIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010931 ester hydrolysis Methods 0.000 description 1
- ACHWEOLUTJAHLV-ZETCQYMHSA-N ethyl (2s)-2-amino-3-(1h-imidazol-5-yl)propanoate Chemical compound CCOC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 ACHWEOLUTJAHLV-ZETCQYMHSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N lithium methoxide Chemical compound [Li+].[O-]C JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N lithium;ethanolate Chemical compound [Li+].CC[O-] AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- ZUSSTQCWRDLYJA-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide Chemical compound C1=CC2CC1C1C2C(=O)N(O)C1=O ZUSSTQCWRDLYJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- NCCBCEHAGCSKEA-UHFFFAOYSA-N pentaiodo-$l^{5}-phosphane Chemical compound IP(I)(I)(I)I NCCBCEHAGCSKEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAMCDBFOLGYJHV-NSHDSACASA-N phenyl (2s)-2-amino-3-(1h-imidazol-5-yl)propanoate Chemical compound C([C@H](N)C(=O)OC=1C=CC=CC=1)C1=CN=CN1 SAMCDBFOLGYJHV-NSHDSACASA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- UXCDUFKZSUBXGM-UHFFFAOYSA-N phosphoric tribromide Chemical compound BrP(Br)(Br)=O UXCDUFKZSUBXGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZHNNJXWQYFUTD-UHFFFAOYSA-N phosphorus triiodide Chemical compound IP(I)I PZHNNJXWQYFUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011833 salt mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229940124597 therapeutic agent Drugs 0.000 description 1
- HFRXJVQOXRXOPP-UHFFFAOYSA-N thionyl bromide Chemical compound BrS(Br)=O HFRXJVQOXRXOPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950002929 trinitrophenol Drugs 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、式
〔式中、(S)を記した炭素原子は(S)−配置である
。〕で表される(S> −2−(1−ナフチルメチル)
コハク酸をエステルに交換後塩基で処理してラセミ化し
、さらに加水分解して、式 〔式中、(S)を記した炭素原子は(S)−配置である
。〕で表される(S)−2−(1−ナフチルメチル)コ
ハク酸をエステルに変換後、塩基で処理してラセミ化し
、さらに加水分解して、式 %式% 〔式中、(R3)はラセミ体であることを意味する。〕
で表される(R3)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸を製造することを特徴とする(S) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法に関する。
。〕で表される(S> −2−(1−ナフチルメチル)
コハク酸をエステルに交換後塩基で処理してラセミ化し
、さらに加水分解して、式 〔式中、(S)を記した炭素原子は(S)−配置である
。〕で表される(S)−2−(1−ナフチルメチル)コ
ハク酸をエステルに変換後、塩基で処理してラセミ化し
、さらに加水分解して、式 %式% 〔式中、(R3)はラセミ体であることを意味する。〕
で表される(R3)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸を製造することを特徴とする(S) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法に関する。
本発明で得られる式(II)で表される(RS)−2−
(1−ナフチルメチル)コハク酸の光学分割によって製
造される、式 〔式中、(R)または(S>を記した炭素原子はそれぞ
れ(R)−配置または(S)−配置である。Yは酸素原
子またはアミノ基を表し、R1は炭素数1〜7の直鎮ま
たは分枝アルキル基を表す。〕で表されるアミノ酸誘導
体の製造原料である、式 〔式中、(R)を記した炭素原子は(R)−配置である
。〕で表される(R) −2−(1−ナフチルメチル)
コハク酸はヒトレニン阻害活性により高血圧症治療薬剤
として有用な、一般式 〔式中、(R)または(S)を記した炭素原子はそれぞ
れ(R)−配置または(S)−配置である。R2はアル
キル基、置換アルキル基、あるいは、アリール基を表す
。〕で表される光学活性N−アシルヒスチジン誘導体に
誘導でき(特開昭62−234071号公報および参考
側参照)、医薬品原料として大変有用な化合物である。
(1−ナフチルメチル)コハク酸の光学分割によって製
造される、式 〔式中、(R)または(S>を記した炭素原子はそれぞ
れ(R)−配置または(S)−配置である。Yは酸素原
子またはアミノ基を表し、R1は炭素数1〜7の直鎮ま
たは分枝アルキル基を表す。〕で表されるアミノ酸誘導
体の製造原料である、式 〔式中、(R)を記した炭素原子は(R)−配置である
。〕で表される(R) −2−(1−ナフチルメチル)
コハク酸はヒトレニン阻害活性により高血圧症治療薬剤
として有用な、一般式 〔式中、(R)または(S)を記した炭素原子はそれぞ
れ(R)−配置または(S)−配置である。R2はアル
キル基、置換アルキル基、あるいは、アリール基を表す
。〕で表される光学活性N−アシルヒスチジン誘導体に
誘導でき(特開昭62−234071号公報および参考
側参照)、医薬品原料として大変有用な化合物である。
前記一般式(IV)で表されるアミノ酸誘導体は4個の
不斉炭素を有し、それぞれの炭素上の立体配置はその活
性に影響を与えることが知られている。特に(S)−ヒ
スチジンのα−アミ7基についたアシル部分の不斉炭素
は(R)−配置である方が好ましいことが確認されてい
る。しかしながら、この不斉炭素において、光学純度の
高い化合物を製造することは多くの手間を要し困難なも
のであった。
不斉炭素を有し、それぞれの炭素上の立体配置はその活
性に影響を与えることが知られている。特に(S)−ヒ
スチジンのα−アミ7基についたアシル部分の不斉炭素
は(R)−配置である方が好ましいことが確認されてい
る。しかしながら、この不斉炭素において、光学純度の
高い化合物を製造することは多くの手間を要し困難なも
のであった。
例えば、前記式(1’V)の合成原料として有用な、式
〔式中、(R)は前記と同じ意味を表す。〕で表される
光学活性カルボン酸を不斉合成法や対応するラセミ体の
光学分割により合成することは困難で、式(V[)に対
応するラセミ体のカルボン酸を合成しくS)−ヒスチジ
ン誘導体とのアミドに変換後、得られたN−アシルヒス
チジン透導体のジアスチオマー混合物をカラムクロマト
グラフィーなどにより分離せざるを得なかった。しかし
ながら、この方法は高価なカラムや充填剤を要したり、
大量の溶媒を用いるなどの問題があり、大量に処理する
ことが困難なものであった。また、式(Vl)に対応す
るラセミ体のカルボン酸と(S)−ヒスチジン誘導体を
縮合させ、2種のジアスチオマー混合物であるN−アシ
ルヒスチジン誘導体を合成する方法としては、ジフェニ
ルリン酸アジドを縮合剤として用いる方法、N−ヒドロ
キシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド
()IONB)とジシクロへキシルカルボジイミド(D
CC)を用いる方法などが挙げられるが、これらの方法
は反応剤が比較的高価で、反応後の生成物の精製が煩雑
であるため大量合成には不適当であった(特開昭61−
234071号公報参照)。このため、式(V)で表さ
れる光学活性N−アシルヒスチジン誘導体あるいはその
合成原料である式 (VI)で表される光学活性カルボ
ン酸の効率的かつ簡便な製造方法を見出すことが望まれ
ていた。
光学活性カルボン酸を不斉合成法や対応するラセミ体の
光学分割により合成することは困難で、式(V[)に対
応するラセミ体のカルボン酸を合成しくS)−ヒスチジ
ン誘導体とのアミドに変換後、得られたN−アシルヒス
チジン透導体のジアスチオマー混合物をカラムクロマト
グラフィーなどにより分離せざるを得なかった。しかし
ながら、この方法は高価なカラムや充填剤を要したり、
大量の溶媒を用いるなどの問題があり、大量に処理する
ことが困難なものであった。また、式(Vl)に対応す
るラセミ体のカルボン酸と(S)−ヒスチジン誘導体を
縮合させ、2種のジアスチオマー混合物であるN−アシ
ルヒスチジン誘導体を合成する方法としては、ジフェニ
ルリン酸アジドを縮合剤として用いる方法、N−ヒドロ
キシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミド
()IONB)とジシクロへキシルカルボジイミド(D
CC)を用いる方法などが挙げられるが、これらの方法
は反応剤が比較的高価で、反応後の生成物の精製が煩雑
であるため大量合成には不適当であった(特開昭61−
234071号公報参照)。このため、式(V)で表さ
れる光学活性N−アシルヒスチジン誘導体あるいはその
合成原料である式 (VI)で表される光学活性カルボ
ン酸の効率的かつ簡便な製造方法を見出すことが望まれ
ていた。
本発明者は上記問題点を解決すべく鋭意検討した結果、
工業的に安価に製造し得る式(II)で表される(R3
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸が光学活性
な塩基を用いて光学分割でき、得られる式(I)で表さ
れる(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸が
容易に式(■)、あるいは式(Vl)で表される高血圧
治療剤(IV)の合成原料に誘導できることを見出した
。しかしながら、この光学分割ではジアステレオマー混
合物の塩を分別再結晶する際に再結晶ろ液から不要の(
S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸をより多
く含有するジアステレオマー混合物の塩が得られてくる
。この塩から回収される式(1)で表される(S)−2
−(1−ナフチルメチル)コハク酸をラセミ化後、再び
光学分割することができれば、(R3)−2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸をすべて所望の式(III)で
表される(R)2−(1−ナフチルメチル)コハク酸に
変換できることとなるので、(S)−2−(1−ナフチ
ルメチル)コハク酸のラセミ化法の開発が望まれていた
。
工業的に安価に製造し得る式(II)で表される(R3
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸が光学活性
な塩基を用いて光学分割でき、得られる式(I)で表さ
れる(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸が
容易に式(■)、あるいは式(Vl)で表される高血圧
治療剤(IV)の合成原料に誘導できることを見出した
。しかしながら、この光学分割ではジアステレオマー混
合物の塩を分別再結晶する際に再結晶ろ液から不要の(
S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸をより多
く含有するジアステレオマー混合物の塩が得られてくる
。この塩から回収される式(1)で表される(S)−2
−(1−ナフチルメチル)コハク酸をラセミ化後、再び
光学分割することができれば、(R3)−2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸をすべて所望の式(III)で
表される(R)2−(1−ナフチルメチル)コハク酸に
変換できることとなるので、(S)−2−(1−ナフチ
ルメチル)コハク酸のラセミ化法の開発が望まれていた
。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明者らは上記問題を解決すべく鋭意検討した結果、
(S)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸をエステ
ルに交換後塩基処理すると、容易にラセミ化が進行し、
さらに続く加水分解によって(R3)−2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸が製造できることを見出し本発明
を完成した。
(S)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸をエステ
ルに交換後塩基処理すると、容易にラセミ化が進行し、
さらに続く加水分解によって(R3)−2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸が製造できることを見出し本発明
を完成した。
本発明に用いられる式(I)で表される光学活性な(S
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸は、下記反
応工程に従い製造できる。
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸は、下記反
応工程に従い製造できる。
〔式中、R3は炭素数1〜7の直鎮または分枝アルキル
基を表す。また(RS)、(R)、(S)は前記と同じ
意味を表す。〕 (第1工程) 本工程は、l−ナフトアルデヒドとコハク酸ジエステル
とを塩基性条件下縮合し、さらに加水分解することによ
り、式(■)で表される2−(1−ナフチルメチレン)
コハク酸を製造す−る工程である(参考側参照)。
基を表す。また(RS)、(R)、(S)は前記と同じ
意味を表す。〕 (第1工程) 本工程は、l−ナフトアルデヒドとコハク酸ジエステル
とを塩基性条件下縮合し、さらに加水分解することによ
り、式(■)で表される2−(1−ナフチルメチレン)
コハク酸を製造す−る工程である(参考側参照)。
コハク酸ジエステルとしては、コハク酸ジメチル、コハ
ク酸ジエチル、コハク酸シフロピル、コハク酸ジイソプ
ロピル、コハク酸ジブチルなどが例示でき、好適にはコ
ハク酸ジエチルが用いられる。また、縮合反応に用いら
れる塩基としては、リチウムメチラート、リチウムエチ
ラート、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート
、カリウムメチラート、カリウムエチラートなどのアル
カリ金属アルコラード、リチウム、ナトリウム、カリウ
ムなどのアルカリ金属、リチウムアミド、ナトリウムア
ミド、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属水酸化物などが例示でき、好適にはナトリウ
ムメチラートが用いられる。本反応は溶媒中で行われ、
用いる溶媒としては反応に関与しないものであれば如何
なる溶媒も使用できるが、好適にはメタノール、エタノ
ール、プロパツールなどのアルコール系溶媒が用いられ
る。縮合に引き続いて行われる加水分解はメタノール、
エタノール、プロパツールなどのアルコール系溶媒と水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水
酸化物の水溶液との混合液を用いて行われる。反応は2
5〜80℃で円滑に進行する。
ク酸ジエチル、コハク酸シフロピル、コハク酸ジイソプ
ロピル、コハク酸ジブチルなどが例示でき、好適にはコ
ハク酸ジエチルが用いられる。また、縮合反応に用いら
れる塩基としては、リチウムメチラート、リチウムエチ
ラート、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート
、カリウムメチラート、カリウムエチラートなどのアル
カリ金属アルコラード、リチウム、ナトリウム、カリウ
ムなどのアルカリ金属、リチウムアミド、ナトリウムア
ミド、カリウムアミドなどのアルカリ金属アミド、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属水酸化物などが例示でき、好適にはナトリウ
ムメチラートが用いられる。本反応は溶媒中で行われ、
用いる溶媒としては反応に関与しないものであれば如何
なる溶媒も使用できるが、好適にはメタノール、エタノ
ール、プロパツールなどのアルコール系溶媒が用いられ
る。縮合に引き続いて行われる加水分解はメタノール、
エタノール、プロパツールなどのアルコール系溶媒と水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水
酸化物の水溶液との混合液を用いて行われる。反応は2
5〜80℃で円滑に進行する。
(第2工程)
本工程は式(■)で表される2−(1−ナフチルメチレ
ン)コハク酸を触媒存在下、水素添加し、式(II)で
表される(RS) −2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸を合成するものである。触媒としては、炭素上に担
持したパラジウム、白金、ロジウムなどが用いられる。
ン)コハク酸を触媒存在下、水素添加し、式(II)で
表される(RS) −2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸を合成するものである。触媒としては、炭素上に担
持したパラジウム、白金、ロジウムなどが用いられる。
また、溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパツ
ールなどのアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル
、酢酸アミルなどのエステル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒ふよび水などが用い
られる。
ールなどのアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル
、酢酸アミルなどのエステル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒ふよび水などが用い
られる。
反応は常圧の水素雰囲気下0℃から100℃の間で円滑
に進行する。
に進行する。
(第3工程)
本工程は式(II)で表される(Its) −2−(1
−ナフチルメチル)コハク酸と光学活性な塩基とからジ
アステレオマーの関係にある塩の混合物を製造し、この
塩の混合物を分別再結晶することにより、純度の高い一
般式(■)で表される(R) −2−(1−ナフチルメ
チル)コハク酸と光学活性塩基との塩を結晶として分離
し、ろ液から式(■°)で表される鏡像体である(S)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸と光学活性塩
基との塩を製造する工程である。本工程に用いられる光
学活性塩基としては、(+)−シンコニン、(−)−シ
ンコニジン、(+)−エフェドリン、(−)−N−メチ
ルエフェドリン、(−)−1−フェニルエチルアミン、
(−)−2−アミノ−3−フェニル−1−7’ロバノー
ル、(+)−スレオ−2−アミノ−1−フェニル−1,
3−プロパンジオール、(−)−2−アミツブクンなど
が例示できるが、好適には(−)−シンコニジンが用い
られる。光学活性塩基はラセミ体の2−(1−ナフチル
メチル)コハク酸に対し、0.4当量〜2当量用いられ
るが、好適には1当量が用いられる。溶媒としては、水
、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール
などのプロトン性溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香
族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、
ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミドなどの極性溶媒、アセトン、
2−ブクノン、メチルイソプ′ロピルケトン等のケトン
系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエス
テル系溶媒などが例示できるが、好適にはエタノールが
用いられる。
−ナフチルメチル)コハク酸と光学活性な塩基とからジ
アステレオマーの関係にある塩の混合物を製造し、この
塩の混合物を分別再結晶することにより、純度の高い一
般式(■)で表される(R) −2−(1−ナフチルメ
チル)コハク酸と光学活性塩基との塩を結晶として分離
し、ろ液から式(■°)で表される鏡像体である(S)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸と光学活性塩
基との塩を製造する工程である。本工程に用いられる光
学活性塩基としては、(+)−シンコニン、(−)−シ
ンコニジン、(+)−エフェドリン、(−)−N−メチ
ルエフェドリン、(−)−1−フェニルエチルアミン、
(−)−2−アミノ−3−フェニル−1−7’ロバノー
ル、(+)−スレオ−2−アミノ−1−フェニル−1,
3−プロパンジオール、(−)−2−アミツブクンなど
が例示できるが、好適には(−)−シンコニジンが用い
られる。光学活性塩基はラセミ体の2−(1−ナフチル
メチル)コハク酸に対し、0.4当量〜2当量用いられ
るが、好適には1当量が用いられる。溶媒としては、水
、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール
などのプロトン性溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香
族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、
ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミドなどの極性溶媒、アセトン、
2−ブクノン、メチルイソプ′ロピルケトン等のケトン
系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエス
テル系溶媒などが例示できるが、好適にはエタノールが
用いられる。
(第4工程)
本工程は、一般式(■)あるいは(■゛)で表される(
R)−あるいは(S) −2−(1−ナフチルメチル)
コハク酸と光学活性塩基との塩を酸処理して、式(II
I>あるいは(1)で表される(R)−あるいは(S)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸を製造するもの
である。酸としては塩酸、硫酸、ホウ酸、硝酸、リン酸
などが例示できるが、好適には塩酸が用いられる。反応
は一般式(■)あるいは(■°)で表される塩に酢酸エ
チル、トルエン、ジクo。
R)−あるいは(S) −2−(1−ナフチルメチル)
コハク酸と光学活性塩基との塩を酸処理して、式(II
I>あるいは(1)で表される(R)−あるいは(S)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸を製造するもの
である。酸としては塩酸、硫酸、ホウ酸、硝酸、リン酸
などが例示できるが、好適には塩酸が用いられる。反応
は一般式(■)あるいは(■°)で表される塩に酢酸エ
チル、トルエン、ジクo。
メタン等の有機溶媒と酸の水溶液を加え、式(III)
あるいは(1)で表される(R)−あるいは(S)−2
〜(1−ナフチルメチル)コハク酸を有機溶媒中に抽出
することによって行われる。本工程は5〜30℃で円滑
に進行する。
あるいは(1)で表される(R)−あるいは(S)−2
〜(1−ナフチルメチル)コハク酸を有機溶媒中に抽出
することによって行われる。本工程は5〜30℃で円滑
に進行する。
以上の製造工程によって製造された式(1)で表される
(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸は下記
工程によりラセミ化することができる。
(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸は下記
工程によりラセミ化することができる。
〔式中、(S)、(RS)は前記と同じ意味を表し、R
4は炭素数1〜7の直鎮または分枝アルキル基を表す。
4は炭素数1〜7の直鎮または分枝アルキル基を表す。
〕
(第5工程)
本工程は(S) −2= (1−ナフチルメチル)コハ
ク酸を酸性条件下、アルコールで処理して一般式(IX
)で表されるエステルを製造する工程である。用いる酸
触媒としては、硫酸、塩酸、ホウ酸などの各種鉱酸が用
いられる。アルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、フロパノール、インプロパツール、ブタノール、イ
ソブタノールなどが例示でき、好適にはメタノールが用
いられる。反応は溶媒中、あるいは用いるアルコールを
溶媒にして行われる。溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素系溶媒などが例示できる。反応は0〜
150℃で円滑に進行する。
ク酸を酸性条件下、アルコールで処理して一般式(IX
)で表されるエステルを製造する工程である。用いる酸
触媒としては、硫酸、塩酸、ホウ酸などの各種鉱酸が用
いられる。アルコールとしては、メタノール、エタノー
ル、フロパノール、インプロパツール、ブタノール、イ
ソブタノールなどが例示でき、好適にはメタノールが用
いられる。反応は溶媒中、あるいは用いるアルコールを
溶媒にして行われる。溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素系溶媒などが例示できる。反応は0〜
150℃で円滑に進行する。
(第6エ程)
本工程は(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク
酸ジエステルを塩基処理して一般式(X)で表される(
RS) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジエス
テルを製造する工程である。用いる塩基としてはアルコ
ールのアルカリ金属塩やアルカリ金属炭酸塩などが挙げ
られる。アルコールのアルカリ金属塩を用いる場合のア
ルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム
等を挙げることができる。
酸ジエステルを塩基処理して一般式(X)で表される(
RS) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジエス
テルを製造する工程である。用いる塩基としてはアルコ
ールのアルカリ金属塩やアルカリ金属炭酸塩などが挙げ
られる。アルコールのアルカリ金属塩を用いる場合のア
ルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム
等を挙げることができる。
またアルカリ金属炭酸塩としては、炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
反応は溶媒中O℃〜100℃で行われるが、溶媒として
は、ジエチルエーテル、”テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、1.2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、
ベンセン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ベンゼン等
の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、ブタノールなどのアルコール系溶媒が単独で、あ
るいは混合溶媒として用いられる。
は、ジエチルエーテル、”テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、1.2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、
ベンセン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ベンゼン等
の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、ブタノールなどのアルコール系溶媒が単独で、あ
るいは混合溶媒として用いられる。
(第7エ程)
本工程は、(RS)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸ジエステルを塩基で処理してエステル部分を加水分
解し、式(II)で表される(RS) −2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸を製造するものである。塩基と
しては通常、エステルの加水分解に用いられるすべての
塩基が使用可能であり、水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化バ
リウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水
酸化物が例示でき、好適には水酸化ナトリウムが用いら
れる。反応は溶媒中、−10℃〜100℃で円滑に進行
する。用いる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタン
などのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン
、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、フロパ
ノール、ブタノール、アミルアルコールなどのアルコー
ル系溶媒、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン系溶媒、水などが単独で、あるいは
、混合溶媒として用いられる。
ク酸ジエステルを塩基で処理してエステル部分を加水分
解し、式(II)で表される(RS) −2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸を製造するものである。塩基と
しては通常、エステルの加水分解に用いられるすべての
塩基が使用可能であり、水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化バ
リウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水
酸化物が例示でき、好適には水酸化ナトリウムが用いら
れる。反応は溶媒中、−10℃〜100℃で円滑に進行
する。用いる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタン
などのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン
、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、フロパ
ノール、ブタノール、アミルアルコールなどのアルコー
ル系溶媒、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン系溶媒、水などが単独で、あるいは
、混合溶媒として用いられる。
以上の合成工程において第6および第7エ程あるいは第
5、第6および第7エ程を反応成績体を分離精製するこ
となく連続して行い、−竣成(IX)で表される(S)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジエステルある
いは(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸か
ら直接式(n)で表される(RS) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸を製造することができる(実施例
2および3参照)。
5、第6および第7エ程を反応成績体を分離精製するこ
となく連続して行い、−竣成(IX)で表される(S)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジエステルある
いは(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸か
ら直接式(n)で表される(RS) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸を製造することができる(実施例
2および3参照)。
本工程で得られた(RS) −2−(1−ナフチルメチ
ル)コハク酸は第3工程の原料として使用できる。
ル)コハク酸は第3工程の原料として使用できる。
一方、第4工程で得られた式(I[I)で表される(R
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸は下記工程
により高血圧治療剤である一般式(rV)の化合物の製
造原料である一般式(V)で表される光学活性N−アシ
ルヒスチジン誘導体の前駆体である光学活性カルボン酸
(Vl)に誘導できる。
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸は下記工程
により高血圧治療剤である一般式(rV)の化合物の製
造原料である一般式(V)で表される光学活性N−アシ
ルヒスチジン誘導体の前駆体である光学活性カルボン酸
(Vl)に誘導できる。
↓
第10工程
〔式中、(R)は前記と同じ意味を表し、Xは塩素、臭
素またはヨウ素を表し、Arは置換アリール基を表す。
素またはヨウ素を表し、Arは置換アリール基を表す。
〕
(第8工程)
本工程は、式(III)で表される(R) −2−(1
−ナフチルメチル)コハク酸をハロゲン化剤で処理して
一般式(XI)で表される(R) −2−(1−ナフチ
ルメチル)コハク酸ジハロゲン化物を製造する工程であ
る。ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、塩化オキザ
リル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、ジク
ロロメチルメチルエーテル、ホスゲン、臭化チオニル、
臭化オキザリル、三臭化リン、五臭化リン、オキシ臭化
リン、三ヨウ化リン、五ヨウ化リンなどが単独あるいは
触媒量のジメチルホルムアミド、ピリジン、または塩化
亜鉛等の存在下用いられる。ハロゲン化剤は1当里〜1
0当l用いられる。反応は無溶媒あるいは溶媒中で行つ
れるが、好適には無溶媒で行われ、0〜150℃で円滑
に進行する。
−ナフチルメチル)コハク酸をハロゲン化剤で処理して
一般式(XI)で表される(R) −2−(1−ナフチ
ルメチル)コハク酸ジハロゲン化物を製造する工程であ
る。ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、塩化オキザ
リル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、ジク
ロロメチルメチルエーテル、ホスゲン、臭化チオニル、
臭化オキザリル、三臭化リン、五臭化リン、オキシ臭化
リン、三ヨウ化リン、五ヨウ化リンなどが単独あるいは
触媒量のジメチルホルムアミド、ピリジン、または塩化
亜鉛等の存在下用いられる。ハロゲン化剤は1当里〜1
0当l用いられる。反応は無溶媒あるいは溶媒中で行つ
れるが、好適には無溶媒で行われ、0〜150℃で円滑
に進行する。
(第9工程)
本工程は、−竣成(XI)で表される(R)−2−(l
−ナフチルメチル〉コハク酸ジハロゲン化物を塩基の存
在下置換フェノール類と処理して一般式(Xll)で表
される(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸
ジアリールを製造するものである。置換フェノール類ト
しては、フェノールのベンゼン環上の5個の水素のうち
1〜5個がフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ニトロなどの
電子吸引基で置換されたものであり、2−フルオロフェ
ノール、2−クロロフェノール、2−ブロモフェノール
、2−ヨウドフェノール、2−ニトロフェノール、3−
フルオロフェノール、3−クロロフェノール、3−7”
ロモフェノール、3−ヨウドフェノール、3−ニトロフ
ェノール、4−フルオロフェノール、4−クロロフェノ
ール、4ブロモフエノール、4−ヨウドフェノール、4
−ニトロフェノールなどの一置換フエノール類、2.4
〜ジフルオロフエノール、2.3−ジクロロフェノール
、2.4−ジクロロフェノール、2.5−ジクロロフェ
ノール、2.6−ジクロロフェノール、3.4−ジクロ
ロフェノール、3.5−ジクロロフェノール、2.4−
ジニトロフェノール、2.5−ジニトロフェノールな
どの二置換フェノール類、2.3.4−トリクロロフェ
ノール、2.3.5−)ジクロロフェノール、2,3.
6−)ジクロロフェノール、2.4.6−)ジクロロフ
ェノール、2.4゜6−トリニトロフエノールなどの三
置換フェノール、2、3.4.5−テトラクロロフェノ
ール、2.3.5.6−テトラクロロフェノールなどの
四置換フェノール、2゜3、4.5.6−ペンタクロロ
フェノールなどの三置換フェノールなどが例示できる。
−ナフチルメチル〉コハク酸ジハロゲン化物を塩基の存
在下置換フェノール類と処理して一般式(Xll)で表
される(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸
ジアリールを製造するものである。置換フェノール類ト
しては、フェノールのベンゼン環上の5個の水素のうち
1〜5個がフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ニトロなどの
電子吸引基で置換されたものであり、2−フルオロフェ
ノール、2−クロロフェノール、2−ブロモフェノール
、2−ヨウドフェノール、2−ニトロフェノール、3−
フルオロフェノール、3−クロロフェノール、3−7”
ロモフェノール、3−ヨウドフェノール、3−ニトロフ
ェノール、4−フルオロフェノール、4−クロロフェノ
ール、4ブロモフエノール、4−ヨウドフェノール、4
−ニトロフェノールなどの一置換フエノール類、2.4
〜ジフルオロフエノール、2.3−ジクロロフェノール
、2.4−ジクロロフェノール、2.5−ジクロロフェ
ノール、2.6−ジクロロフェノール、3.4−ジクロ
ロフェノール、3.5−ジクロロフェノール、2.4−
ジニトロフェノール、2.5−ジニトロフェノールな
どの二置換フェノール類、2.3.4−トリクロロフェ
ノール、2.3.5−)ジクロロフェノール、2,3.
6−)ジクロロフェノール、2.4.6−)ジクロロフ
ェノール、2.4゜6−トリニトロフエノールなどの三
置換フェノール、2、3.4.5−テトラクロロフェノ
ール、2.3.5.6−テトラクロロフェノールなどの
四置換フェノール、2゜3、4.5.6−ペンタクロロ
フェノールなどの三置換フェノールなどが例示できる。
塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリプロピルアミン、N−メチルモルホリン、N−エチ
ルモルホリン、1.5−ジアザビシクロ(4,3,0)
ノン−5−エン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0
1ウンデカづ一エン、ピリジン、ルチジン、コリジン、
4−ジメチルアミノピリジン、4−ピロリジノピリジン
などの有機第三アミン化合物、炭酸リチウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシ
ウムなどのアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の炭
酸塩、水酸化リウチム、水酸化す)IJウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物が用いられるが、好適
にはトリエチルアミンが用いられる。反応は溶媒中、−
20℃〜50℃で行われるが、溶媒としてはジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1.2−ジ
メトキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トル
エン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒
、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四
塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、N、N−ジ
メチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性非プロ
トン性溶媒あるいはこれらの溶媒の混合物が例示できる
。
トリプロピルアミン、N−メチルモルホリン、N−エチ
ルモルホリン、1.5−ジアザビシクロ(4,3,0)
ノン−5−エン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0
1ウンデカづ一エン、ピリジン、ルチジン、コリジン、
4−ジメチルアミノピリジン、4−ピロリジノピリジン
などの有機第三アミン化合物、炭酸リチウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシ
ウムなどのアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の炭
酸塩、水酸化リウチム、水酸化す)IJウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物が用いられるが、好適
にはトリエチルアミンが用いられる。反応は溶媒中、−
20℃〜50℃で行われるが、溶媒としてはジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1.2−ジ
メトキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トル
エン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒
、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四
塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、N、N−ジ
メチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性非プロ
トン性溶媒あるいはこれらの溶媒の混合物が例示できる
。
(第10工程)
本工程は、一般式(XIl、)で表される(R)−2−
(1=ナフチルメチル)コハク酸ジアリールをモルホリ
ンで処理して一般式(Xn)で表される光学活性N−ア
シルモルホリンを製造するものである。
(1=ナフチルメチル)コハク酸ジアリールをモルホリ
ンで処理して一般式(Xn)で表される光学活性N−ア
シルモルホリンを製造するものである。
モルホリンは1当量〜5当量用いられるが、好適には1
当量用いられる。反応は無溶媒または溶媒中で行われる
が、溶媒としてはジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタンナトのエー
テル系溶媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘ
キサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、
1N−ジメチルホルムアミド、N、!l−ジメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの
極性非プロトン性溶媒、あるいはこれらの混合物が例示
できるが、好適には、無溶媒またはジクロロメタンが用
いられる。反応は一30℃〜100℃で円滑に進行する
。
当量用いられる。反応は無溶媒または溶媒中で行われる
が、溶媒としてはジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタンナトのエー
テル系溶媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘ
キサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、
1N−ジメチルホルムアミド、N、!l−ジメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの
極性非プロトン性溶媒、あるいはこれらの混合物が例示
できるが、好適には、無溶媒またはジクロロメタンが用
いられる。反応は一30℃〜100℃で円滑に進行する
。
(第11工程)
本工程は、一般式(XII)で表される光学活性N−ア
シルモルホリンを塩基で処理してエステル部分を加水分
解し、式(Vl)で表される光学活性カルボン酸を製造
するものである。塩基としては、通常のエステル加水分
解に用いられるすべての塩基が使用可能であるが、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化マグネシウム、水酸化バリウムなどのアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属の水酸化物が例示でき、好適には
水酸化す) IJウムが用いられる。反応は溶媒中で行
われ、溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタンなどの
エーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シク
ロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶
媒、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドな
どの極性非プロトン溶媒、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、ピリジン、コリジンなどのアミン系溶媒、メ
タノール、エタノール、プロパツール、フタノール、ア
ミルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトン、2
−ブタノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶
媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミルなどのエステ
ル系溶媒、水などが単独で、あるいは混合溶媒として用
いられる。反応は一10℃〜100℃で円滑に進行する
。
シルモルホリンを塩基で処理してエステル部分を加水分
解し、式(Vl)で表される光学活性カルボン酸を製造
するものである。塩基としては、通常のエステル加水分
解に用いられるすべての塩基が使用可能であるが、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化マグネシウム、水酸化バリウムなどのアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属の水酸化物が例示でき、好適には
水酸化す) IJウムが用いられる。反応は溶媒中で行
われ、溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタンなどの
エーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シク
ロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶
媒、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドな
どの極性非プロトン溶媒、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、ピリジン、コリジンなどのアミン系溶媒、メ
タノール、エタノール、プロパツール、フタノール、ア
ミルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトン、2
−ブタノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶
媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミルなどのエステ
ル系溶媒、水などが単独で、あるいは混合溶媒として用
いられる。反応は一10℃〜100℃で円滑に進行する
。
以上の合成工程において第8および第9工程、あるいは
、第8、第9および第10工程を反応成績体を分離精製
することなく連続して行い、式(I[I)で表される(
R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸から一気
に一般式(Xn)で表される(It)2−(I−ナフチ
ルメチル)コハク酸ジアリール、あるいは、一般式(X
II[)で表される光学活性N−アシルモルホリンを製
造することもできる(参考例7.8.15あるいはl0
111,18.20参照)。
、第8、第9および第10工程を反応成績体を分離精製
することなく連続して行い、式(I[I)で表される(
R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸から一気
に一般式(Xn)で表される(It)2−(I−ナフチ
ルメチル)コハク酸ジアリール、あるいは、一般式(X
II[)で表される光学活性N−アシルモルホリンを製
造することもできる(参考例7.8.15あるいはl0
111,18.20参照)。
以上の製造工程の中間体である一般式(XIII)で表
される光学活性N−アシルモルホリンは下記反応工程に
より高血圧症治療剤である一般式(IV)の合成原料で
ある、式(V)で表される光学活性N−アシルヒスチジ
ン誘導体にも誘導できる。
される光学活性N−アシルモルホリンは下記反応工程に
より高血圧症治療剤である一般式(IV)の合成原料で
ある、式(V)で表される光学活性N−アシルヒスチジ
ン誘導体にも誘導できる。
〔式中、Ar、 (R)および(S)は前記と同じ意
味を表し、R2はアルキル基、置換アルキル基あるいは
アリール基を表す。〕 (第12工程) 本工程は、−1般式(XIII)で表される光学活性N
−アシルモルホリンを(S)−ヒスチジン誘導体で処理
して、一般式(V)で表される光学活性N−アシルヒス
チジン誘導体を製造するものである。用いる(S)−ヒ
スチジン誘導体としては、(S)−ヒスチジン、(S)
−ヒスチジンメチルエステル、(S)−ヒスチジンエチ
ルエステル、(S)−ヒスチジンプロピルエステルなど
の(S)−ヒスチジン低級アルキルエステル、(S)−
ヒスチジンフェニルエステル、(S)−ヒスチジン−p
−メトキシフェニルエステルなどの(S)ヒスチジン無
置換、若しくは置換アリールエステル、(S)−ヒスチ
ジンベンジルエステル、(S)−ヒスチジン−p−ニト
ロベンジルエステル等の(S)−ヒスチジン無置換若し
くは置換アリールメチルエステルおよびこれらの塩酸塩
が例示できる。なお、塩酸塩を用いる場合には、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
ジイソプロピエチルアミンなどの第三アミンを1当量反
応系に添加する必要がある。本反応は溶媒中で行われる
が、溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
1.2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベン
ゼン、トルエン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、
N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの
極性溶媒、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸アミル等のエステル系溶媒、インプロパツール、t
ert−ブタノールなどのアルコール系溶媒が用いられ
るが、好適にはジメチルホルムアミドが用いられる。反
応は一20℃〜100℃で円滑に進行する。
味を表し、R2はアルキル基、置換アルキル基あるいは
アリール基を表す。〕 (第12工程) 本工程は、−1般式(XIII)で表される光学活性N
−アシルモルホリンを(S)−ヒスチジン誘導体で処理
して、一般式(V)で表される光学活性N−アシルヒス
チジン誘導体を製造するものである。用いる(S)−ヒ
スチジン誘導体としては、(S)−ヒスチジン、(S)
−ヒスチジンメチルエステル、(S)−ヒスチジンエチ
ルエステル、(S)−ヒスチジンプロピルエステルなど
の(S)−ヒスチジン低級アルキルエステル、(S)−
ヒスチジンフェニルエステル、(S)−ヒスチジン−p
−メトキシフェニルエステルなどの(S)ヒスチジン無
置換、若しくは置換アリールエステル、(S)−ヒスチ
ジンベンジルエステル、(S)−ヒスチジン−p−ニト
ロベンジルエステル等の(S)−ヒスチジン無置換若し
くは置換アリールメチルエステルおよびこれらの塩酸塩
が例示できる。なお、塩酸塩を用いる場合には、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
ジイソプロピエチルアミンなどの第三アミンを1当量反
応系に添加する必要がある。本反応は溶媒中で行われる
が、溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
1.2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベン
ゼン、トルエン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、
N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの
極性溶媒、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸アミル等のエステル系溶媒、インプロパツール、t
ert−ブタノールなどのアルコール系溶媒が用いられ
るが、好適にはジメチルホルムアミドが用いられる。反
応は一20℃〜100℃で円滑に進行する。
一般式(V)で表される光学活性N−アシルヒスチジン
誘導体の製造に際し、第8、第9、第1Oおよび第12
工程を反応成績体を分離精製することなく連続に行い、
式(I[[)で表される(R)−2−(1−ナフチルメ
チル)コハク酸から一気に一般式(V)で表される光学
活性N−アシルヒスチジン誘導体を製造することもでき
る(参考例14参照)。
誘導体の製造に際し、第8、第9、第1Oおよび第12
工程を反応成績体を分離精製することなく連続に行い、
式(I[[)で表される(R)−2−(1−ナフチルメ
チル)コハク酸から一気に一般式(V)で表される光学
活性N−アシルヒスチジン誘導体を製造することもでき
る(参考例14参照)。
以下、実施例および参考例により本発明の詳細な説明す
るが本発明は、これらに限定されるものではない。
るが本発明は、これらに限定されるものではない。
参考例
ナトリウム7゜01 g (0,305moりをメタノ
ール180 mlに溶かし、コハク酸ジエチル69.6
g(0,400m01)を加えた後、加熱還流下に1
−ナフトアルデヒド31.7 g (0,203mol
)のメタノ−”(110+njり溶液を1.5時間かけ
て滴下した。さらに1.5時間還流後、2N−水酸化ナ
トリウム水溶液500 +nlを加え1時間還流した。
ール180 mlに溶かし、コハク酸ジエチル69.6
g(0,400m01)を加えた後、加熱還流下に1
−ナフトアルデヒド31.7 g (0,203mol
)のメタノ−”(110+njり溶液を1.5時間かけ
て滴下した。さらに1.5時間還流後、2N−水酸化ナ
トリウム水溶液500 +nlを加え1時間還流した。
約400−のメタノールを蒸留して除き、さらに1時間
還流した。放冷後、水500 mlで希釈し、エーテル
(200m1x 3 )で洗浄した。水層に濃塩酸15
0m1を加えて酸性にした後、0℃で一夜放置した。析
出した結晶をろ取して2−(1−ナフチルメチレン)コ
ハク酸45.8 g (収率88%)ヲ淡黄色結晶とし
て得た。水晶のアセトン−d6中での)I−NMHにお
いてδ’ 3.42 ppmにトオレフイン由来のメチ
レン水素のシグナルが観測され、δ:3.65 ppm
に2−オレフィン由来のメチレン水素のシグナルが観測
された。これらのシグナ・ルの強度比より水晶はE:Z
=14:1の立体異性体混合物であることが判明した。
還流した。放冷後、水500 mlで希釈し、エーテル
(200m1x 3 )で洗浄した。水層に濃塩酸15
0m1を加えて酸性にした後、0℃で一夜放置した。析
出した結晶をろ取して2−(1−ナフチルメチレン)コ
ハク酸45.8 g (収率88%)ヲ淡黄色結晶とし
て得た。水晶のアセトン−d6中での)I−NMHにお
いてδ’ 3.42 ppmにトオレフイン由来のメチ
レン水素のシグナルが観測され、δ:3.65 ppm
に2−オレフィン由来のメチレン水素のシグナルが観測
された。これらのシグナ・ルの強度比より水晶はE:Z
=14:1の立体異性体混合物であることが判明した。
さらにこの結晶をメタノール:水(1:1)から再結晶
すると80%の回収率で97%以上の純度のトオレフィ
ン体が得られた。
すると80%の回収率で97%以上の純度のトオレフィ
ン体が得られた。
融 点=198〜199℃ (分解)[R(KBr)
: 3440.3070.1700.1632. 1
510゜1421、1290.1218.960.80
2゜782 cm−’ H−NMR(アセトン−dS) δ: 3.42(2H,s、 C)12>、 7.52
〜8゜03(7)1. m。
: 3440.3070.1700.1632. 1
510゜1421、1290.1218.960.80
2゜782 cm−’ H−NMR(アセトン−dS) δ: 3.42(2H,s、 C)12>、 7.52
〜8゜03(7)1. m。
ナフチル)、 8.38(1N、 s、八rcH)H−
NMR(口RIsO−ds) δ: 3.25 (2)1. s、 C)It)、 7
.39〜8.04 (7M、 m。
NMR(口RIsO−ds) δ: 3.25 (2)1. s、 C)It)、 7
.39〜8.04 (7M、 m。
ナフチル)、 8.21(01,s、^rcH>、 1
2.50(2H,bs、 CO口HX 2>Mas
s mle: 256 (M”)、 238 (
M−)120. 221. 210゜元素分析値’
(CISHI204として)6% H% 計算値 70J1 4.72 実測値 ?0.19 4.85 参考例 2 得た(全収率96%)。
2.50(2H,bs、 CO口HX 2>Mas
s mle: 256 (M”)、 238 (
M−)120. 221. 210゜元素分析値’
(CISHI204として)6% H% 計算値 70J1 4.72 実測値 ?0.19 4.85 参考例 2 得た(全収率96%)。
融 点 : 184〜186℃
2−(1−ナフチルメチレン)コハクM 35.7 g
(0,138mol)をエタノール240rnlに溶か
し、10%−Pd/C2,Ogを加え水素雰囲気下、4
1時間撹拌した。
(0,138mol)をエタノール240rnlに溶か
し、10%−Pd/C2,Ogを加え水素雰囲気下、4
1時間撹拌した。
不溶物をろ別後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をメ
タノール:水(1:l)の混合溶媒220dに加熱溶解
し、放冷して析出した結晶をろ取してラセミ体の(RS
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸・26.6
g (収率75%)を淡黄色結晶として得た。さらに
ろ液を濃縮して2容品を7.45g(収率21%)(R
S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸10.2
g(39,5mmol)と(−)−シンコニジン11.
7 g (39,5mmol)をエタノール960 I
neに加熱溶解後、放冷した。室温3日、0℃1日静置
して析出した結晶をろ取し、(R)−2−(1−ナフチ
ルメチル)コハク酸のシンコニジン塩8.85 g (
収率40%)を無色結晶として得た。本島の一部(数m
g)を塩酸で分解して得られる(R) −2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸をジアゾメタン処理して(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジメチルに変
換し、光学活性カラムによる)IPLC分析の結果、得
られた(R)−コハク酸誘導体の光学純度は54%ee
であった。そこで、本シンコニジン塩をさらにエタノー
ルから3回再結晶を行い純粋な(R) −2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸の(−)−シンコニジン塩3.
95 g (収率18%)を無色結晶として得た。本島
の光学純度は参考例4の結果から100%eeであるこ
とが明らかとなった。
タノール:水(1:l)の混合溶媒220dに加熱溶解
し、放冷して析出した結晶をろ取してラセミ体の(RS
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸・26.6
g (収率75%)を淡黄色結晶として得た。さらに
ろ液を濃縮して2容品を7.45g(収率21%)(R
S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸10.2
g(39,5mmol)と(−)−シンコニジン11.
7 g (39,5mmol)をエタノール960 I
neに加熱溶解後、放冷した。室温3日、0℃1日静置
して析出した結晶をろ取し、(R)−2−(1−ナフチ
ルメチル)コハク酸のシンコニジン塩8.85 g (
収率40%)を無色結晶として得た。本島の一部(数m
g)を塩酸で分解して得られる(R) −2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸をジアゾメタン処理して(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジメチルに変
換し、光学活性カラムによる)IPLC分析の結果、得
られた(R)−コハク酸誘導体の光学純度は54%ee
であった。そこで、本シンコニジン塩をさらにエタノー
ルから3回再結晶を行い純粋な(R) −2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸の(−)−シンコニジン塩3.
95 g (収率18%)を無色結晶として得た。本島
の光学純度は参考例4の結果から100%eeであるこ
とが明らかとなった。
融 点二 198〜199℃ (分解)IR(にOr
): 3450.2950.1718.1562.1
510゜1412、1238.11?8.800.78
1゜758 cm−’ Mass m/e: 258. 240. 212.
198. 195[α〕 −56,6° (CO,6
43,!JeOH)元素分析値’ (C34H360
SN2として)6% H% N% 計算値 73.89 6.57 5.07実
測値 73.94 6.65 4.86一方
、はじめの結晶化で得られたろ液を減圧濃縮して(S)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸のシンコニジ
ン塩12.9 g (収率59%)を得た。本島に含ま
れる(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸の
光学純度は、参考例5の結果から47%eeであること
が明らかとなった。
): 3450.2950.1718.1562.1
510゜1412、1238.11?8.800.78
1゜758 cm−’ Mass m/e: 258. 240. 212.
198. 195[α〕 −56,6° (CO,6
43,!JeOH)元素分析値’ (C34H360
SN2として)6% H% N% 計算値 73.89 6.57 5.07実
測値 73.94 6.65 4.86一方
、はじめの結晶化で得られたろ液を減圧濃縮して(S)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸のシンコニジ
ン塩12.9 g (収率59%)を得た。本島に含ま
れる(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸の
光学純度は、参考例5の結果から47%eeであること
が明らかとなった。
参考例3で得られた純粋な(R)−2−(1−ナフチル
メチル)コハク酸の(−)−シンコニジン塩3.94g
(7,13mmol)に酢酸エチル150rnlとIN
−塩酸29m1を加えて撹拌した。有機層をIN−塩酸
7ml、飽和食塩水7 m1x 2で順次洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧で溶媒を留去し、(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸1.84 g
(定量的収率)を無色結晶として得た。本島の一部(
数mg)をジアゾメタン処理して(R) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸メチルに変換し、光学活性カ
ラムによるHPLC分析を行った結果、本島の光学純度
は100%eeであることが明らかとなった。なお、分
析用サンプルは、酢酸エチルより再結晶して得た。
メチル)コハク酸の(−)−シンコニジン塩3.94g
(7,13mmol)に酢酸エチル150rnlとIN
−塩酸29m1を加えて撹拌した。有機層をIN−塩酸
7ml、飽和食塩水7 m1x 2で順次洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧で溶媒を留去し、(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸1.84 g
(定量的収率)を無色結晶として得た。本島の一部(
数mg)をジアゾメタン処理して(R) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸メチルに変換し、光学活性カ
ラムによるHPLC分析を行った結果、本島の光学純度
は100%eeであることが明らかとなった。なお、分
析用サンプルは、酢酸エチルより再結晶して得た。
融 点 = 161〜162℃
IR(KBr): 3450.3050.1712.
1510.1421゜1400、 1280. 124
0. 1196,923゜800、 790. 779
cm−’H−NMR(DMSO−da) δ’ 2.15〜2.69(28,m、CH2C0)
、2.91〜3.42(3H,m、 ^rclI□c
HcO)、 7.27〜8.16(7H。
1510.1421゜1400、 1280. 124
0. 1196,923゜800、 790. 779
cm−’H−NMR(DMSO−da) δ’ 2.15〜2.69(28,m、CH2C0)
、2.91〜3.42(3H,m、 ^rclI□c
HcO)、 7.27〜8.16(7H。
m、ナフチル>、 12.22(2N、 bs。
C00II x 2)
!Jass m/e: 259 (M+1>”、
241 (It−OH)”、 213(M、−C
OOH)”、 199.196[α〕 +20.6°
(C1,18,MeOH)元素分析値: (CIS
HI404として)6% H% 計算値 69.76 5.46 実測値 69.51 5.51 一方、水層に8N−水酸化ナトリウム8dを加え氷冷す
るとシンコニジンが2.07 g (収率98%)無色
結晶として回収された。
241 (It−OH)”、 213(M、−C
OOH)”、 199.196[α〕 +20.6°
(C1,18,MeOH)元素分析値: (CIS
HI404として)6% H% 計算値 69.76 5.46 実測値 69.51 5.51 一方、水層に8N−水酸化ナトリウム8dを加え氷冷す
るとシンコニジンが2.07 g (収率98%)無色
結晶として回収された。
ラセミ体の2−(l−ナフチルメチル)コハク酸が2.
23g得られた。ろ液からは(S) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸が3.79g回収され、゛その光
学純度は75%eeであった。
23g得られた。ろ液からは(S) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸が3.79g回収され、゛その光
学純度は75%eeであった。
実施例 1
参考例3で得られた(S) −2−(1−ナフチルメチ
ル)コハク酸のシンコニジン塩12.9 g (23,
4a++++ol)を参考例4と同様に処理して、(S
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸6.02
g (定量的収率)を無色結晶として得た。本島の光学
純度は一部をジアゾメタン処理して(R) −2−(1
−ナフチルメチル)コハク酸メチルに変換し光学活性カ
ラムによるHPLC分析を行ったところ47%eeであ
ることが明らかとなった。本島を酢酸エチル90−から
再結晶を行うと、参考例5で得た(S) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸3.45 g (13,4m
mol、 47%ee)を無水メタノール30mNに溶
かし、濃硫酸0.1gを加えて1日加熱還流した。放冷
後、溶媒を減圧留去して得られた残渣に酢酸エチル70
dと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10m1!を加えて
撹拌し分液した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残
渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロ
ロメタン=18:1:1)で分離精製し、(S) −2
−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジメチル2.40g
(収率89%)を無色結晶として得た。本島の光学純度
は光学活性カラムによる1(PLC分析により47%e
eと決定した。
ル)コハク酸のシンコニジン塩12.9 g (23,
4a++++ol)を参考例4と同様に処理して、(S
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸6.02
g (定量的収率)を無色結晶として得た。本島の光学
純度は一部をジアゾメタン処理して(R) −2−(1
−ナフチルメチル)コハク酸メチルに変換し光学活性カ
ラムによるHPLC分析を行ったところ47%eeであ
ることが明らかとなった。本島を酢酸エチル90−から
再結晶を行うと、参考例5で得た(S) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸3.45 g (13,4m
mol、 47%ee)を無水メタノール30mNに溶
かし、濃硫酸0.1gを加えて1日加熱還流した。放冷
後、溶媒を減圧留去して得られた残渣に酢酸エチル70
dと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10m1!を加えて
撹拌し分液した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残
渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロ
ロメタン=18:1:1)で分離精製し、(S) −2
−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジメチル2.40g
(収率89%)を無色結晶として得た。本島の光学純度
は光学活性カラムによる1(PLC分析により47%e
eと決定した。
本島2.56gを酢酸エチルから3回再結晶すると光学
純度99%eeの(S) −2−(1−ナフチルメチル
)コハク酸0.874gが無色結晶として得られた。
純度99%eeの(S) −2−(1−ナフチルメチル
)コハク酸0.874gが無色結晶として得られた。
実施例 2
0.128 g (0,446mmol、 99%ee
)に無水メタノールおよび4Nのナトリウムメチラート
のメタノール溶液0.112m1(0,446mmol
)を加えた後、テトラトロフラン0.3mj!を加えて
60℃で20時間加熱した。反応液に2N−水酸化す)
IJウム水溶液3−を加え、80℃で3時間撹拌後、
水20mNを加え放冷した。メタノールを減圧留去後、
氷冷して濃塩酸を加えて酸性とした。数時間後、析出結
晶をろ取して、(R3) −2−(1−ナフチルメチル
)コハク酸0,100g(収率87%)を無色結晶とし
て得た。
)に無水メタノールおよび4Nのナトリウムメチラート
のメタノール溶液0.112m1(0,446mmol
)を加えた後、テトラトロフラン0.3mj!を加えて
60℃で20時間加熱した。反応液に2N−水酸化す)
IJウム水溶液3−を加え、80℃で3時間撹拌後、
水20mNを加え放冷した。メタノールを減圧留去後、
氷冷して濃塩酸を加えて酸性とした。数時間後、析出結
晶をろ取して、(R3) −2−(1−ナフチルメチル
)コハク酸0,100g(収率87%)を無色結晶とし
て得た。
本島のスペクトルデータは参考例2のサンプルのものと
一致した。
一致した。
実施例 3
(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジメチ
ル(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸5.
03g(19,5mmol、 47%ee)を無水メタ
ノール59mj!に溶かし、濃硫酸0.1rn1を加え
て2日間加熱還流した。
ル(S) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸5.
03g(19,5mmol、 47%ee)を無水メタ
ノール59mj!に溶かし、濃硫酸0.1rn1を加え
て2日間加熱還流した。
放冷後、溶媒を減圧留去して得られた残渣に酢酸エチル
80rdを加えて溶かし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、粗製の(S) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸ジメチル5.44gを淡黄色
結晶として得た。このものに無水メタノール50Tne
およびテトラヒドロフランlOmNを加えた後、ナトリ
ウム0.15 g (6,5mmol)と無水メタノー
ル5dから調製したナトリウムメチラート溶液を加え、
加熱還流した。1日還流後、溶媒50m1を留去後、I
N−水酸化ナトリウム58.5rnlを加え、さらに3
時間還流した。水冷後、濃塩酸6.5−を加えて酸性に
した後、0℃で1時間静置した。
80rdを加えて溶かし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、粗製の(S) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸ジメチル5.44gを淡黄色
結晶として得た。このものに無水メタノール50Tne
およびテトラヒドロフランlOmNを加えた後、ナトリ
ウム0.15 g (6,5mmol)と無水メタノー
ル5dから調製したナトリウムメチラート溶液を加え、
加熱還流した。1日還流後、溶媒50m1を留去後、I
N−水酸化ナトリウム58.5rnlを加え、さらに3
時間還流した。水冷後、濃塩酸6.5−を加えて酸性に
した後、0℃で1時間静置した。
析出した結晶をろ取して、(R3)−2−(1−ナフチ
ルメチル)コハク酸4.83 g (収率96%)を結
晶として得た(融点185〜187℃)。
ルメチル)コハク酸4.83 g (収率96%)を結
晶として得た(融点185〜187℃)。
なお、水晶の一部をトリメチルシリルジアゾメタンで処
理して、対応するメチルエステルに変換後、光学活性カ
ラムを用いるHPLC分析を行ったところ、水晶は光学
純度0%eeのラセミ体であることが判明した。
理して、対応するメチルエステルに変換後、光学活性カ
ラムを用いるHPLC分析を行ったところ、水晶は光学
純度0%eeのラセミ体であることが判明した。
参考例 6
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.7
36 g(2,85mmol)に塩化チオニル0.83
2m1(11,4mmol)とジメチルホルムアミド2
2JJ1(0,28mmol)を加えて75℃で12時
間撹拌後、塩化チオニル0.832 rnl(11,4
mmol)を加えさらに3時間80℃で撹拌した。
36 g(2,85mmol)に塩化チオニル0.83
2m1(11,4mmol)とジメチルホルムアミド2
2JJ1(0,28mmol)を加えて75℃で12時
間撹拌後、塩化チオニル0.832 rnl(11,4
mmol)を加えさらに3時間80℃で撹拌した。
減圧で過剰の反応剤を除去した後、クーゲルロールで蒸
留し、(R)−2−(1−ナフチルメチル)コノ1り酸
ジクロリド0.420 g (収率50%)を淡黄色油
状物として得た。(浴温200〜250℃、 0.5m
mHg)IR(neat): 3070.2950.
1?90.1600.1513゜1455、1400.
1359.1305.1267゜1218、988.9
72.908.802.778゜751、677、57
8 cm−’ LNMR(CDCIs) δ: 2.70〜4.10 (5H,m、 CLCI(
CL)、7.24〜8.08(7)1. m、 ナフ
チル)参考例 7 (R)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.14
0g(0,544mmol)に塩化チオニル0.320
mj2(4,35mmol)とジメチルホルムアミド4
.2JJ1.(0,054mmol>を加え、室温で3
0分、80℃で4時間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留
去し、粗製の(R) −2−(1−ナフチルメチル)コ
ハク酸ジクロリドを得た。このものにジクロロメタン2
m4を加えて溶かした。この溶液をI]−二トロフェノ
ール151mg (1,09mmol)のジクロロメタ
ン(3d)懸濁液に加えた。この溶液を0℃に冷却後、
トリエチルアミン0.277m/! (1,99mmo
l)を加え、徐々に昇温し、さらに室温で2時間撹拌し
た。水3me、エーテル30mZを加えて分液し、有機
層を飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカ
ラムで分離精製しくヘキサン:ジクロロメタン:酢酸エ
チル=38 : 1 : l〜16 : 1 : 3)
、(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジ〜
p−ニトロフェニル0.248 g (収率91%)を
淡黄色結晶として得た。
留し、(R)−2−(1−ナフチルメチル)コノ1り酸
ジクロリド0.420 g (収率50%)を淡黄色油
状物として得た。(浴温200〜250℃、 0.5m
mHg)IR(neat): 3070.2950.
1?90.1600.1513゜1455、1400.
1359.1305.1267゜1218、988.9
72.908.802.778゜751、677、57
8 cm−’ LNMR(CDCIs) δ: 2.70〜4.10 (5H,m、 CLCI(
CL)、7.24〜8.08(7)1. m、 ナフ
チル)参考例 7 (R)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.14
0g(0,544mmol)に塩化チオニル0.320
mj2(4,35mmol)とジメチルホルムアミド4
.2JJ1.(0,054mmol>を加え、室温で3
0分、80℃で4時間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留
去し、粗製の(R) −2−(1−ナフチルメチル)コ
ハク酸ジクロリドを得た。このものにジクロロメタン2
m4を加えて溶かした。この溶液をI]−二トロフェノ
ール151mg (1,09mmol)のジクロロメタ
ン(3d)懸濁液に加えた。この溶液を0℃に冷却後、
トリエチルアミン0.277m/! (1,99mmo
l)を加え、徐々に昇温し、さらに室温で2時間撹拌し
た。水3me、エーテル30mZを加えて分液し、有機
層を飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカ
ラムで分離精製しくヘキサン:ジクロロメタン:酢酸エ
チル=38 : 1 : l〜16 : 1 : 3)
、(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジ〜
p−ニトロフェニル0.248 g (収率91%)を
淡黄色結晶として得た。
融 点: 122〜123℃
IR(CHClj): 3050.1762.162
0.1598.1529゜1495、1350.116
0.1125゜862 cm−’ H−NMR(CD(:I3) δ’ 2.88(IH,dd、 、N4.5.17.2
)12. CH2C0(D一方)、 3.22(IH
,dd、 J=8.6. 17.2)1z。
0.1598.1529゜1495、1350.116
0.1125゜862 cm−’ H−NMR(CD(:I3) δ’ 2.88(IH,dd、 、N4.5.17.2
)12. CH2C0(D一方)、 3.22(IH
,dd、 J=8.6. 17.2)1z。
CH,COの一方)、 3.24〜3.89 (3H
,m。
,m。
^rCH2−CI)、 6.83〜8.33(15N
、 m。
、 m。
^romatic)
Mass m/e: 500 (M”)、 362 (
M−NO,−C6H,0)。
M−NO,−C6H,0)。
240、 233
〔α) +19.4° (C1,23,[:HCI
、)元素分析値’ (C2Jz。N20.として)計
算値 実測値 6% 64、80 64、58 H% 4.03 3.89 N% 5.60 5.56 参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.3
52 g(IJ6 mmol>に塩化チオニル0.79
5me(10,9mmol)とジメチルホルムアミドl
O〆(0,13mmol)を加え、80℃で1.5時間
撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを得
た。このものにジクロロメタン2.7屁を加えて溶かし
た。この溶液に0℃でp−ニトロフェノール0.397
g (2,86mmol)を加えた後トリエチルアミ
ン0.473m1(3,40mmol)を加えた。
、)元素分析値’ (C2Jz。N20.として)計
算値 実測値 6% 64、80 64、58 H% 4.03 3.89 N% 5.60 5.56 参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.3
52 g(IJ6 mmol>に塩化チオニル0.79
5me(10,9mmol)とジメチルホルムアミドl
O〆(0,13mmol)を加え、80℃で1.5時間
撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを得
た。このものにジクロロメタン2.7屁を加えて溶かし
た。この溶液に0℃でp−ニトロフェノール0.397
g (2,86mmol)を加えた後トリエチルアミ
ン0.473m1(3,40mmol)を加えた。
室温で8時間撹拌後、水と酢酸エチルを加えて分岐し、
有機層をIN−塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残
渣0.765 gに酢酸エチル2mlを加えて、1日静
置した。析出した結晶をろ取して、(R)−2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸ジーp−ニトロフェニル0.
367 g (収率54%)を淡茶色結晶として得た。
有機層をIN−塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残
渣0.765 gに酢酸エチル2mlを加えて、1日静
置した。析出した結晶をろ取して、(R)−2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸ジーp−ニトロフェニル0.
367 g (収率54%)を淡茶色結晶として得た。
さらにろ液を濃縮して2容品63mg(収率9.3%)
を得た。ろ液はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より分離精製し0.213 g (収率32%)の目的
物を得た(全収率95%)。
を得た。ろ液はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より分離精製し0.213 g (収率32%)の目的
物を得た(全収率95%)。
物性値は参考例7のサンプルと一致した。
参考例 9
(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジーp−
二) 07 g = ルo、 i06 g (0,21
1mmol)をジメチルホルムアミド0.21dに溶か
し、水冷下、モルホリン18、4JJ1(0,211m
mol)を加えた。0℃で3時間撹拌後、溶媒を減圧留
去して得られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢
酸エチル:ジクロロメタン=7:3:1〜6:4:1)
で分離精製し、(R) −2−(1−ナフチルメチル)
−3−(モルホリン−4イル−カルボニル)プロピオン
酸−ρ−ニトロフエニル91.3mg(収率97%〉を
淡黄色結晶として得た。
二) 07 g = ルo、 i06 g (0,21
1mmol)をジメチルホルムアミド0.21dに溶か
し、水冷下、モルホリン18、4JJ1(0,211m
mol)を加えた。0℃で3時間撹拌後、溶媒を減圧留
去して得られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢
酸エチル:ジクロロメタン=7:3:1〜6:4:1)
で分離精製し、(R) −2−(1−ナフチルメチル)
−3−(モルホリン−4イル−カルボニル)プロピオン
酸−ρ−ニトロフエニル91.3mg(収率97%〉を
淡黄色結晶として得た。
融 点 : 124〜125℃
IR(CDCl3): IT60.1640.159
8.1527゜1460、1438.1350.113
4゜1118 c+c’ H−NMR(CDCl2) δ:2.62(1)1. dd、 J=3.9.16.
6+12. C)+2COの一方)、 2.88(I
H,dd、 J=9.2. 16.6Hz。
8.1527゜1460、1438.1350.113
4゜1118 c+c’ H−NMR(CDCl2) δ:2.62(1)1. dd、 J=3.9.16.
6+12. C)+2COの一方)、 2.88(I
H,dd、 J=9.2. 16.6Hz。
C12CD の一方>、 3.32〜3.45 (3
)1. m。
)1. m。
ArCHzCH)、 3.50〜3.67(8N、 m
、 モルホリン>、 [00〜8.18(11)1
. m、 八romatic)Mass m/e:
448 (14”)、 3.10 (IJ−NLC6
LO)。
、 モルホリン>、 [00〜8.18(11)1
. m、 八romatic)Mass m/e:
448 (14”)、 3.10 (IJ−NLC6
LO)。
281.223
〔α 〕 + 81.O° (C1,90
,C)ICI、)元素分析値’ (C25H2482
0,として)6% H% N% 計算値 66.95 5.39 6.25実
測値 66.81 5J5 6.1?参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
03g(OJ98 mmoりに塩化チオニル0.232
mj2(3,18mmol)とジメチルホルムアミド3
m (0,04mmol)を加え、80℃で1.5時
間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去して、粗製の(R
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリド
を得た。このものにジクロロメタン0.8mjを加えて
溶かした。この溶液をp−二トロフェノール0.116
g (0,835mmol)のジクロロメタン懸濁液
0.8mAに加えた後、0℃でトリエチルアミン0.1
94mj2 (1,39mmol)を加えた。0℃で1
時間、室温で30分間撹拌後、0℃に冷却しモルホリン
35.0JJ1(0,400mmol)を加え、徐々l
:[[l:J4温した。室温で一夜撹拌後、水とエーテ
ルを加えて分岐し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水、0.3N−塩酸、飽和食塩水で順次
洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
して得られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸
エチル:ジクロロメタン=6:4:1)で分離精・製し
、(R)−2−(1−ナフチルメチル)−3(モルホリ
ン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロフ
ェニル0.167 g (収率94%)ヲ淡黄色結晶と
して得た。
,C)ICI、)元素分析値’ (C25H2482
0,として)6% H% N% 計算値 66.95 5.39 6.25実
測値 66.81 5J5 6.1?参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
03g(OJ98 mmoりに塩化チオニル0.232
mj2(3,18mmol)とジメチルホルムアミド3
m (0,04mmol)を加え、80℃で1.5時
間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去して、粗製の(R
) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリド
を得た。このものにジクロロメタン0.8mjを加えて
溶かした。この溶液をp−二トロフェノール0.116
g (0,835mmol)のジクロロメタン懸濁液
0.8mAに加えた後、0℃でトリエチルアミン0.1
94mj2 (1,39mmol)を加えた。0℃で1
時間、室温で30分間撹拌後、0℃に冷却しモルホリン
35.0JJ1(0,400mmol)を加え、徐々l
:[[l:J4温した。室温で一夜撹拌後、水とエーテ
ルを加えて分岐し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水、0.3N−塩酸、飽和食塩水で順次
洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
して得られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸
エチル:ジクロロメタン=6:4:1)で分離精・製し
、(R)−2−(1−ナフチルメチル)−3(モルホリ
ン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロフ
ェニル0.167 g (収率94%)ヲ淡黄色結晶と
して得た。
物性値は参考例9のサンプルと一致した。
参考例
(R)
(2,72
(10,9
(0,272
2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.703 gm
mol、 97%ee)に塩化チオニル0.795 d
mmol)およびジメチルホルムアミド21dmmol
)を加え、80℃で2時間撹拌した。放冷浸、減圧で過
剰の反応剤を留去後、トルエンldを加えて再び減圧留
去した。残渣にジクロロメタン5.4−を加えて溶かし
た後、p−二トロフェノール0.795 g (5,7
2mmol)を加えた。0℃で撹拌しながらトリエチル
アミン1.13m1 (8,11mmol)をゆっくり
加えた後、室温でさらに1時間撹拌した。再び水冷後、
モルホリン0.248i(2,86mmol)を加え徐
々に室温に昇温した。1日室温で撹拌後、減圧濃縮して
得られた残渣を酢酸エチル40mNに溶かした。IN−
塩酸、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食
塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去して得られた残渣1.86gに酢酸イソプロ
ピル1.79Lnlを加え加熱溶解し、放冷した。結晶
種を加えて0℃で4日間静置後、n−ヘキサン1.79
−を室温にて加え、さらに0℃で4日間静置した。析出
した結晶をろ取して、(R) −2−(1−ナフチルメ
チル)−3〜(モルホリン−4−イル−カルボニル)プ
ロピオン酸p−ニトロフェニル0.786 g (収率
66%)を淡黄色結晶として得た。
mol、 97%ee)に塩化チオニル0.795 d
mmol)およびジメチルホルムアミド21dmmol
)を加え、80℃で2時間撹拌した。放冷浸、減圧で過
剰の反応剤を留去後、トルエンldを加えて再び減圧留
去した。残渣にジクロロメタン5.4−を加えて溶かし
た後、p−二トロフェノール0.795 g (5,7
2mmol)を加えた。0℃で撹拌しながらトリエチル
アミン1.13m1 (8,11mmol)をゆっくり
加えた後、室温でさらに1時間撹拌した。再び水冷後、
モルホリン0.248i(2,86mmol)を加え徐
々に室温に昇温した。1日室温で撹拌後、減圧濃縮して
得られた残渣を酢酸エチル40mNに溶かした。IN−
塩酸、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食
塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去して得られた残渣1.86gに酢酸イソプロ
ピル1.79Lnlを加え加熱溶解し、放冷した。結晶
種を加えて0℃で4日間静置後、n−ヘキサン1.79
−を室温にて加え、さらに0℃で4日間静置した。析出
した結晶をろ取して、(R) −2−(1−ナフチルメ
チル)−3〜(モルホリン−4−イル−カルボニル)プ
ロピオン酸p−ニトロフェニル0.786 g (収率
66%)を淡黄色結晶として得た。
物性値は参考例9のサンプルと一致した。
参考例
(R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロフ
ェニル0.125 g (0,279mmol)をメタ
ノールQ、9meに懸濁し、IN−水酸化す) IJウ
ム水溶液0.62m1(0,62+y+mol)を水冷
下加えた。室温で1日撹拌後、1N−塩酸1m12およ
び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で洗
浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し
て得られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エ
チル:酢酸=70:30:1)で分離精製し、(R)
−2−(1−ナフチルメチル ブロピオン酸88.6mg(収率97%)を無色カラメ
ルとして得た。
リン4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロフ
ェニル0.125 g (0,279mmol)をメタ
ノールQ、9meに懸濁し、IN−水酸化す) IJウ
ム水溶液0.62m1(0,62+y+mol)を水冷
下加えた。室温で1日撹拌後、1N−塩酸1m12およ
び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で洗
浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し
て得られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エ
チル:酢酸=70:30:1)で分離精製し、(R)
−2−(1−ナフチルメチル ブロピオン酸88.6mg(収率97%)を無色カラメ
ルとして得た。
IR (KBr): 3450. 1730. 16
30, 1440, 1235。
30, 1440, 1235。
1115、 802. 780 cm−’It−NM
R (CDCI,) δ: 2.35 〜2.62(2H, m, CH2C
ON)、 2.91〜3、78(IIH, m, モ
ルホリ:/, ArCH2Ctl)。
R (CDCI,) δ: 2.35 〜2.62(2H, m, CH2C
ON)、 2.91〜3、78(IIH, m, モ
ルホリ:/, ArCH2Ctl)。
6、52(If(、 bs, COD)l)、 7.1
9〜8. 17(7N。
9〜8. 17(7N。
m,ナフチル)
Mass m/e: 327 (M”)、 268,
240, 223, 212参考例 13 (R) −2− (1−ナフチルメチル)−3− (モ
ルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸 ρー
ニトロフェニル89. 1mg(0. 199 mmo
l) #よび(S)−ヒスチジンメチルエステルニ塩酸
塩46. 8 mg(0. 219 mmol)をジメ
チルホルムアミド0,1mNに懸濁し、トリエチルアミ
761, 0m (0. 438 mmol)を加え
た。40℃で1日撹拌後、溶媒を減圧留去した。残渣に
酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて分
液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカ
ゲルカラム(ジクロロメタン:メタノール=l:0〜
20:1)で分離精製し、N− [(R)−2−(1−
ナフチルメチル)−3− (モルホリン−4−イル−カ
ルボニル)プロピオニル)−(S)− ヒスチジンメチ
ルエステル83.9mg(収率88%)を無色カラメル
として得た。
240, 223, 212参考例 13 (R) −2− (1−ナフチルメチル)−3− (モ
ルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸 ρー
ニトロフェニル89. 1mg(0. 199 mmo
l) #よび(S)−ヒスチジンメチルエステルニ塩酸
塩46. 8 mg(0. 219 mmol)をジメ
チルホルムアミド0,1mNに懸濁し、トリエチルアミ
761, 0m (0. 438 mmol)を加え
た。40℃で1日撹拌後、溶媒を減圧留去した。残渣に
酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて分
液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカ
ゲルカラム(ジクロロメタン:メタノール=l:0〜
20:1)で分離精製し、N− [(R)−2−(1−
ナフチルメチル)−3− (モルホリン−4−イル−カ
ルボニル)プロピオニル)−(S)− ヒスチジンメチ
ルエステル83.9mg(収率88%)を無色カラメル
として得た。
IR(KBr): 3450.1740.1630.
1437.1234゜1113、1030.780 c
m−’H−NMR(CDCl2) δ: 2.42(IH,m、 CHCON)、 3.0
4〜3.74(14H。
1437.1234゜1113、1030.780 c
m−’H−NMR(CDCl2) δ: 2.42(IH,m、 CHCON)、 3.0
4〜3.74(14H。
m、その他の水素>、 3.60 (3H,s、 CH
3)。
3)。
4.59 (1)1. m、 NCHC口)、
6.14(IH,d、 J6.6)1z、 NH)、
6.67(1)1. s、 ImH)、 7.30
〜7、98 (9H,m、^romatic)Mass
m/e: 478 (M”)、 447 (M−C)
+30)、 405゜(α) +42.1°(C1
,09,MeOH)本島をベンゼンより再結晶するとN
−((R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モル
ホリン−4−イル−カルボニル)プロピオニル) −(
S)−ヒスチジンメチルエステルベンゼン錯体を無色結
晶として得た。
6.14(IH,d、 J6.6)1z、 NH)、
6.67(1)1. s、 ImH)、 7.30
〜7、98 (9H,m、^romatic)Mass
m/e: 478 (M”)、 447 (M−C)
+30)、 405゜(α) +42.1°(C1
,09,MeOH)本島をベンゼンより再結晶するとN
−((R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モル
ホリン−4−イル−カルボニル)プロピオニル) −(
S)−ヒスチジンメチルエステルベンゼン錯体を無色結
晶として得た。
IR(KBr): 3450.1745.1623.
1535.143g。
1535.143g。
1235、1115.1030.780゜680 cm
−1 〔α〕“′ +35.9° (C1,30,MeOH)元素分析値’
(C32)136N405として)0% H% 計算値 69.05 6.52 実測値 69.15 6.5O N% 10、06 9.72 参考例 (R)−2〜(l−ナフチルメチル)コハク酸0.10
2g(0,395mmol)に塩化チオニル0.23m
1(3,16m+++ol)とジメチルホルムアミド3
dを加え、80℃で2時間撹拌した。過剰の反応剤を減
圧留去して、粗製の(R) −2−(1−ナフチルメチ
ル)コハク酸ジクロリドを得た。このものにジクロロメ
タンldを加えて溶かした。このジクロロメタン溶液に
p−ニトロフェノール0.115 g (0,827m
mol)およびトリエチルアミン0.175mj2
(1,26mmol)を水冷下順次加えた。室温で1時
間撹拌後、モルホリン34.4d(OJ95 mmol
)を加えた。室温で1日撹拌後、(S)−ヒスチジンメ
チルエステルニ塩酸塩93.0 mg (0,434m
mol)とトリエチルアミン0.220mj2 (1,
58mmol)を加え、さらに1日撹拌した。参考例9
と同様の後処理により、N−[(R)−2−(1−ナフ
チルメチル)=3− (モルホリン−4−イル−カルボ
ニル)プロピオニル)−(S)〜 ヒスチジンメチルニ
スf ル2B、 7 mg(収率15%)を無色カラメ
ルとして得た。
−1 〔α〕“′ +35.9° (C1,30,MeOH)元素分析値’
(C32)136N405として)0% H% 計算値 69.05 6.52 実測値 69.15 6.5O N% 10、06 9.72 参考例 (R)−2〜(l−ナフチルメチル)コハク酸0.10
2g(0,395mmol)に塩化チオニル0.23m
1(3,16m+++ol)とジメチルホルムアミド3
dを加え、80℃で2時間撹拌した。過剰の反応剤を減
圧留去して、粗製の(R) −2−(1−ナフチルメチ
ル)コハク酸ジクロリドを得た。このものにジクロロメ
タンldを加えて溶かした。このジクロロメタン溶液に
p−ニトロフェノール0.115 g (0,827m
mol)およびトリエチルアミン0.175mj2
(1,26mmol)を水冷下順次加えた。室温で1時
間撹拌後、モルホリン34.4d(OJ95 mmol
)を加えた。室温で1日撹拌後、(S)−ヒスチジンメ
チルエステルニ塩酸塩93.0 mg (0,434m
mol)とトリエチルアミン0.220mj2 (1,
58mmol)を加え、さらに1日撹拌した。参考例9
と同様の後処理により、N−[(R)−2−(1−ナフ
チルメチル)=3− (モルホリン−4−イル−カルボ
ニル)プロピオニル)−(S)〜 ヒスチジンメチルニ
スf ル2B、 7 mg(収率15%)を無色カラメ
ルとして得た。
物性値は参考例13のサンプルと一致した。
参考例 15
(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.28
9g(1,12mmol)に塩化チオニル0.490m
j2(6,72mmoりおよびジメチルホルムアミド8
.7All(0,11mmol)を加え、80℃で4時
間撹拌後、過剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを得
た。このものにジクロロメタン2m72を加えて溶かし
、水冷下、p−クロロフェノール0.317 g (1
,23mmol)のジクロロメタン溶液2dを加えた。
9g(1,12mmol)に塩化チオニル0.490m
j2(6,72mmoりおよびジメチルホルムアミド8
.7All(0,11mmol)を加え、80℃で4時
間撹拌後、過剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを得
た。このものにジクロロメタン2m72を加えて溶かし
、水冷下、p−クロロフェノール0.317 g (1
,23mmol)のジクロロメタン溶液2dを加えた。
さらにトリエチルアミン0.590m7!(4,24m
mol)を加えた後、室温で一夜撹拌した。
mol)を加えた後、室温で一夜撹拌した。
エーテルおよび水を加えて分液し、有機層をIN−塩酸
、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(へキサン:
エーテル:ジクロロメタン=30:1:1)で精製し、
(R) −2−(1−ナフチルメチル〉コハク酸ジーp
−クロロフェニル0.425 g(収率84%)を無色
結晶として得た。
、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム(へキサン:
エーテル:ジクロロメタン=30:1:1)で精製し、
(R) −2−(1−ナフチルメチル〉コハク酸ジーp
−クロロフェニル0.425 g(収率84%)を無色
結晶として得た。
融 点: 136〜137℃
IR(KBr): 1761. 1491. 13
73. 1205. 1168゜1130、 1090
. 1014.790. 788゜510 cm” It−NMR(CHCl3) δ: 2.79(IH,dd、 J=4.4.16.9
Hz、 Cf12CONの一方)、 3.12(IH
,dd、 J=8.4. 16.9Hz。
73. 1205. 1168゜1130、 1090
. 1014.790. 788゜510 cm” It−NMR(CHCl3) δ: 2.79(IH,dd、 J=4.4.16.9
Hz、 Cf12CONの一方)、 3.12(IH
,dd、 J=8.4. 16.9Hz。
CH2C0Nの一方>、 3.26〜3.86 (3
)1. m。
)1. m。
ArCH,C11)、6.77〜8.19(15H,m
。
。
^romatic)
Mass m/e: 478.480 (M”)、
351.353 (IJ−C1(4LO)、 223 〔α) +21.1’ (C1,49,CHCl
、)元素分析値’ (CzJz。C1,04として)
0% H% 01% 計算値 67.65 4.21 14.79実
測値 67.74 4.11 1461参考例
16 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジーp
−クロロフェニル0.137 g (0,286mmo
l)をジメチルホルムアミド0.29−に溶かし、モル
ホリン27.4d(0,315mmol)を加えた。4
0℃で17時間撹拌後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリ
カゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタン
=8:2:1〜10:10:1)で分離精製し、(R)
−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−
4−イル−カルボニル)プロピオン酸 p−クロロフェ
ニル0.112 g (115189%)を無色カラメ
ルとして得た。
351.353 (IJ−C1(4LO)、 223 〔α) +21.1’ (C1,49,CHCl
、)元素分析値’ (CzJz。C1,04として)
0% H% 01% 計算値 67.65 4.21 14.79実
測値 67.74 4.11 1461参考例
16 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジーp
−クロロフェニル0.137 g (0,286mmo
l)をジメチルホルムアミド0.29−に溶かし、モル
ホリン27.4d(0,315mmol)を加えた。4
0℃で17時間撹拌後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリ
カゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタン
=8:2:1〜10:10:1)で分離精製し、(R)
−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−
4−イル−カルボニル)プロピオン酸 p−クロロフェ
ニル0.112 g (115189%)を無色カラメ
ルとして得た。
IR(CHCl3): 1751.1639.148
7.1436゜1189; 1140.1112.10
82゜1013、502 cm−’ H−NOR(CDC13) δ’ 2.52(IH,dd、 J=4.6.16.5
H2,CH2C0Nの一方)、 2.82(LH,d
d、 J=7.5. 16.5Hz。
7.1436゜1189; 1140.1112.10
82゜1013、502 cm−’ H−NOR(CDC13) δ’ 2.52(IH,dd、 J=4.6.16.5
H2,CH2C0Nの一方)、 2.82(LH,d
d、 J=7.5. 16.5Hz。
CH2C0Nの一方)、 3.20〜3.80(ll
tl、 m。
tl、 m。
モルホリン、 ArCH2C1)、 6.7〜8.2(
IIH。
IIH。
(n、 Ar□matic)
iAass m/e: 310 (M−CIC6H40
)、 223.205.195参考例 参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン4−イル−カルボニル)フロピオンHp−90ロフ
工二ル77.1mg(0,176mmol)をメタノー
ル0.7mlに溶かし、IN−水酸化ナトリウム0.3
5m1を水冷下加えた。室温で17時間撹拌後2N−水
酸化す) IJウム0.20m1を加えた。3時間後I
N−塩酸1mlを加えた。
)、 223.205.195参考例 参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン4−イル−カルボニル)フロピオンHp−90ロフ
工二ル77.1mg(0,176mmol)をメタノー
ル0.7mlに溶かし、IN−水酸化ナトリウム0.3
5m1を水冷下加えた。室温で17時間撹拌後2N−水
酸化す) IJウム0.20m1を加えた。3時間後I
N−塩酸1mlを加えた。
参考例8と同様の後処理により(R) −2−(1−ナ
フチルメチル)−3−(モルホリン−4−イル−カルボ
ニル)プロピオン酸56.7mg(収率98%)を無色
カラメルとして得た。
フチルメチル)−3−(モルホリン−4−イル−カルボ
ニル)プロピオン酸56.7mg(収率98%)を無色
カラメルとして得た。
物性値は参考例12で得たサンプルと一致した。
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
02g(0,395mmol)に塩化チオ= ル0.2
30+r+1(3,16mmol)およびジメチルホル
ムアミド3 m(0,039mmol)を加えて、80
℃で2時間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去して(R
)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを
得た。このものをジクロロメタン0.8mlに溶かし、
2.4−ジクoロフェノール0.135g(0,830
mmol)およびトリエチルアミン0.200d(1,
44mmol)を加えた。ジクロロメタン1.5−を加
えて1時間室温で撹拌後、モルホリン34.4d(OJ
95 mmol)を氷冷下加えた。室温で4日間撹拌後
酢酸エチルと水を加えて分液し、有機層を炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。
02g(0,395mmol)に塩化チオ= ル0.2
30+r+1(3,16mmol)およびジメチルホル
ムアミド3 m(0,039mmol)を加えて、80
℃で2時間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去して(R
)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを
得た。このものをジクロロメタン0.8mlに溶かし、
2.4−ジクoロフェノール0.135g(0,830
mmol)およびトリエチルアミン0.200d(1,
44mmol)を加えた。ジクロロメタン1.5−を加
えて1時間室温で撹拌後、モルホリン34.4d(OJ
95 mmol)を氷冷下加えた。室温で4日間撹拌後
酢酸エチルと水を加えて分液し、有機層を炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られ
た残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジ
クロロメタン=8 : 2 : l〜7:3;0)で分
離精製し、(R) −2−(1−ナフチルメチル)−3
−(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸
2.4−ジクロロフェニル0.140 g (収率75
%)を無色結晶として得た。
た残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジ
クロロメタン=8 : 2 : l〜7:3;0)で分
離精製し、(R) −2−(1−ナフチルメチル)−3
−(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸
2.4−ジクロロフェニル0.140 g (収率75
%)を無色結晶として得た。
融 点 = 113〜115℃
IR(CHCl3): 3020.2870.176
1.1640゜1475、1438.1275.123
0゜1210、1130.1113.1098.960
゜852 cnr’ H−NMR(CDCl2) δ’ 2.46(IH,dd、 、J=4.4,16.
3)+2. CH2C0Nの一方)、 2.84(1
)1. dd、 J=8.0. 16.3Hz。
1.1640゜1475、1438.1275.123
0゜1210、1130.1113.1098.960
゜852 cnr’ H−NMR(CDCl2) δ’ 2.46(IH,dd、 、J=4.4,16.
3)+2. CH2C0Nの一方)、 2.84(1
)1. dd、 J=8.0. 16.3Hz。
CH,CONの一方)、 3.20〜4.08(11
)1. m。
)1. m。
モルホリフ、 ArCHzC)I)、 6.98〜8.
27(IQH,m、Aromatic) Mass m/e: 310 (M−CLC,、t13
0)、 240.223〔α)−2,2° (C1,5
3,CHCl、)元素分析値’ (C2sf12sC
]JO1として)0% 8% 8% C1% 計算値 63.57 4.91 2.97 15
.01実測値 63.71 4.94 2.90
15.04参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸 2.4〜
ジクロロフェニル60.2 mg(0,127mmol
)および(S)−ヒスチシンメチルエステルニ塩酸塩3
0.0 mg(0,140mmoりをジメチルホルムア
ミド0.13meに溶かし、トリエチルアミン39J1
1.(0,28mmol)を加えた。40℃で2日間、
50℃で1日撹拌後、溶媒を減圧留去した。
27(IQH,m、Aromatic) Mass m/e: 310 (M−CLC,、t13
0)、 240.223〔α)−2,2° (C1,5
3,CHCl、)元素分析値’ (C2sf12sC
]JO1として)0% 8% 8% C1% 計算値 63.57 4.91 2.97 15
.01実測値 63.71 4.94 2.90
15.04参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸 2.4〜
ジクロロフェニル60.2 mg(0,127mmol
)および(S)−ヒスチシンメチルエステルニ塩酸塩3
0.0 mg(0,140mmoりをジメチルホルムア
ミド0.13meに溶かし、トリエチルアミン39J1
1.(0,28mmol)を加えた。40℃で2日間、
50℃で1日撹拌後、溶媒を減圧留去した。
残渣に炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて
分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られ
た残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン:メタノー
ル−1:0〜20:l)で分離精製し、N−((R)−
2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−4−
イル−カルボニル)プロピオニル〕−(S)−ヒスチジ
ンメチルエステル56.2mg(収率92%)を無色カ
ラメルとして得た。
た残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン:メタノー
ル−1:0〜20:l)で分離精製し、N−((R)−
2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−4−
イル−カルボニル)プロピオニル〕−(S)−ヒスチジ
ンメチルエステル56.2mg(収率92%)を無色カ
ラメルとして得た。
物性値は参考例13で得たサンプルと一致した。
参考例 20
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
04g(0,399mmol)に塩化チオニル0.23
4nf(3,19mmol)およびジメチルホルムアミ
ド3 J(0,039mmoりを加えて、80℃で2時
間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去して得られた(R
)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを
ジクロロメタン0.8mj2に溶かし、2.4.6−)
ジクロロフェノール0.165g(0,838mmol
)およびトリエチルアミン0.165m1(1,2mm
ol)を水冷下加えた。ジクロロメタン1.5−を加え
て室温で1時間撹拌後、モルホリン34.8iJ1(0
,399mmol)を氷冷下加えた。室温で4時間撹拌
後、酢酸エチルと水を加えて分液した。有機層を炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残
渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロ
ロメタン=9:l:1〜17:3:0)で分離精製し、
(R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)フロピオン酸2,4.6
−)’Jクロロフェニル0.164 g (収率81%
)を無色カラメルとして得た。
04g(0,399mmol)に塩化チオニル0.23
4nf(3,19mmol)およびジメチルホルムアミ
ド3 J(0,039mmoりを加えて、80℃で2時
間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去して得られた(R
)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを
ジクロロメタン0.8mj2に溶かし、2.4.6−)
ジクロロフェノール0.165g(0,838mmol
)およびトリエチルアミン0.165m1(1,2mm
ol)を水冷下加えた。ジクロロメタン1.5−を加え
て室温で1時間撹拌後、モルホリン34.8iJ1(0
,399mmol)を氷冷下加えた。室温で4時間撹拌
後、酢酸エチルと水を加えて分液した。有機層を炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残
渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロ
ロメタン=9:l:1〜17:3:0)で分離精製し、
(R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)フロピオン酸2,4.6
−)’Jクロロフェニル0.164 g (収率81%
)を無色カラメルとして得た。
IR(CHCl3): 1770.1642.156
5.1440゜1273、 1230. 1113.
1080゜858 Cm−’ H−NMR(CDCI、) δ:2.41 (IH,dd、 J=5.1.16.0
)12. CH2C0Nの一方)、 2.88(LH
,dd、 J=6.7. 16.0Hz。
5.1440゜1273、 1230. 1113.
1080゜858 Cm−’ H−NMR(CDCI、) δ:2.41 (IH,dd、 J=5.1.16.0
)12. CH2C0Nの一方)、 2.88(LH
,dd、 J=6.7. 16.0Hz。
CI(2CONの一方)、 3.27〜4.06(I
IH,m。
IH,m。
モルホリンおよびArCHzCI() 、 7.37
(2H。
(2H。
s、 C,H,C1,)、 7.40〜8.31(7H
,m、 ナフチル) Mass m/e: 507 (M)”、 310
(M−C6tl、CI、じ。
,m、 ナフチル) Mass m/e: 507 (M)”、 310
(M−C6tl、CI、じ。
307、 281
〔α〕−40,6° (C1,34,CHCl、)参考
例 昭和63年12月19日 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン4−イル−カルボニル〉プロピオン酸 2.4.6
−)リクロロフェニル73.3 mg(0,145mm
ol) #よび(S)−ヒスチジンメチルエステルニ塩
酸塩34.2mg (0,160mmol)を参考例1
5と同様に処理して、N−[(R)2−(1−ナフチル
メチル)−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)
プロピオニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステル5
8.6mg(収率84%)を無色カラメルとして得た。
例 昭和63年12月19日 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン4−イル−カルボニル〉プロピオン酸 2.4.6
−)リクロロフェニル73.3 mg(0,145mm
ol) #よび(S)−ヒスチジンメチルエステルニ塩
酸塩34.2mg (0,160mmol)を参考例1
5と同様に処理して、N−[(R)2−(1−ナフチル
メチル)−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)
プロピオニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステル5
8.6mg(収率84%)を無色カラメルとして得た。
物性値は参考例13で得たサンプルと一致した。
1、事件の表示
昭和6
3年特許願第2
20号
2、発明の名称
2−(l−ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法
1捕正をする者
事件との関係
住所(居所)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、(S)を記した炭素原子は(S)−配置である
。〕で表される(S)−2−(1−ナフチルメチル)コ
ハク酸をエステルに変換後塩基で処理してラセミ化し、
さらに加水分解して、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、(RS)はラセミ体であることを意味する。〕
で表される(RS)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸を製造することを特徴とする(S)−2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸のラセミ化法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26492088A JPH02111741A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 光学活性2−(1−ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26492088A JPH02111741A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 光学活性2−(1−ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02111741A true JPH02111741A (ja) | 1990-04-24 |
Family
ID=17410036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26492088A Pending JPH02111741A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 光学活性2−(1−ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02111741A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5278334A (en) * | 1992-10-01 | 1994-01-11 | Ethyl Corporation | Racemization process |
-
1988
- 1988-10-20 JP JP26492088A patent/JPH02111741A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5278334A (en) * | 1992-10-01 | 1994-01-11 | Ethyl Corporation | Racemization process |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EA023266B1 (ru) | Способы синтеза 2(s),4(s),5(s),7(s)-2,7-диалкил-4-гидрокси-5-амино-8-арилоктаноил амидов | |
| JPH02111741A (ja) | 光学活性2−(1−ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法 | |
| JP3489319B2 (ja) | カルボン酸誘導体、その製造法および用途 | |
| US4614806A (en) | Process for the asymmetric synthesis of chiral indoline-2-carboxylic acids | |
| EP0519763B1 (en) | Cyclohexylbutyric acid derivatives and their use in the production of optically active cyclohexylnorstatine | |
| US4169201A (en) | Novel ester precursor intermediates and antipodes for the preparation of 1-(2-tetrahydrofuryl)-5-fluorouracil | |
| US5977380A (en) | Process for preparing N-[1- (S)-ethoxycarbonyl-3- phenylpropyl]-L-alanine derivatives | |
| JP3207017B2 (ja) | ベンジルコハク酸誘導体の製造方法およびその製造中間体 | |
| CN113943240A (zh) | 一种布瓦西坦的新制备方法 | |
| JPH09208558A (ja) | 光学活性4−ヒドロキシ−2−ピロリドンの製造方法 | |
| JP3207018B2 (ja) | ベンジルコハク酸誘導体の製造方法およびその製造中間体 | |
| JPH02193941A (ja) | (s)―2―(1―ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法 | |
| JPH02157243A (ja) | 光学活性(r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸の製造方法 | |
| US7375245B2 (en) | N-(4-oxo-butanoic acid) -L-amino acid-ester derivatives and methods of preparation thereof | |
| JPH0269465A (ja) | 光学活性n−アシルヒスチジン誘導体の製造方法 | |
| JPH0267277A (ja) | 光学活性(r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方法 | |
| US5502221A (en) | Process for producing cyclohexylbutyric acid derivative | |
| JP4187822B2 (ja) | 光学活性4−ヒドロキシ−2−ピロリドンの製造方法 | |
| JPH0267243A (ja) | (r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方法 | |
| JP3669398B2 (ja) | 還元試薬 | |
| US4644081A (en) | Process for the asymmetric synthesis of chiral indoline-2-carboxylic acids | |
| CA1146960A (en) | O-(n-allyl-2,6-dichloroanilino) phenylacetic acid derivative and a process for preparing the same | |
| JP3660385B2 (ja) | 光学活性アロフェニルノルスタチン誘導体の製造方法 | |
| US6172234B1 (en) | Optically active cyclic amino acid ester derivatives and processes for producing the same | |
| JP2803879B2 (ja) | ピロリジン誘導体の製法 |