JPH0267277A - 光学活性(r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方法 - Google Patents
光学活性(r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0267277A JPH0267277A JP63218946A JP21894688A JPH0267277A JP H0267277 A JPH0267277 A JP H0267277A JP 63218946 A JP63218946 A JP 63218946A JP 21894688 A JP21894688 A JP 21894688A JP H0267277 A JPH0267277 A JP H0267277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- naphthylmethyl
- formula
- succinic acid
- mmol
- added
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般式
(式中、Arは置換アリール基を表し、(R)を記した
炭素原子は(R)−配置であることを意味する)で表さ
れる光学活性(R) −2−(1−ナフチルメチル)コ
ハク酸誘導体をモルホリンと反応させることを特徴とす
る、一般式 (式中、Arは置換アリール基を表し、(R)を記した
炭素原子は(R)−配置であることを意味する)で表さ
れる光学活性(R) −2−(1−ナフチルメチル)コ
ハク酸誘導体の製造方法。
炭素原子は(R)−配置であることを意味する)で表さ
れる光学活性(R) −2−(1−ナフチルメチル)コ
ハク酸誘導体をモルホリンと反応させることを特徴とす
る、一般式 (式中、Arは置換アリール基を表し、(R)を記した
炭素原子は(R)−配置であることを意味する)で表さ
れる光学活性(R) −2−(1−ナフチルメチル)コ
ハク酸誘導体の製造方法。
(式中、Xはモルホリン−4−イル基または置換アリー
ルオキシ基を表し、Arは置換アリール基を表す。また
、式中、(R)を記した炭素原子は(R)−配置である
ことを意味する)で表される光学活性(R) −2−(
1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方
法に関する。
ルオキシ基を表し、Arは置換アリール基を表す。また
、式中、(R)を記した炭素原子は(R)−配置である
ことを意味する)で表される光学活性(R) −2−(
1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方
法に関する。
本発明で得られる一般式(1)で表される(R)−2−
(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体はヒトレニン阻
害活性により高血圧症治療剤として有用な一般式 (式中、(R)または(S)を記した炭素原子はそれぞ
れ(R)−配置または(S)−配置であることを意味し
、Yは酸素原子またはアミノ基を表し、Rは炭素数1〜
7の直鎮または分枝アルキル基を表す)で表されるアミ
ノ酸誘導体の製造原料である、式〔従来の技術〕 前記一般式(III)で表されるアミノ酸誘導体は4個
の不斉炭素を有し、それぞれの炭素上の立体配置はその
活性に影響を与えることが知られている。特に(S)−
ヒスチジンのα−アミノ基についたアシル部分の不斉炭
素は(R)−配置である方が好ましいことが確認されて
いる。しかしながら、この不斉炭素において、光学純度
の高い化合物を製造することは困難で多くの手間を要す
るものであった。
(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体はヒトレニン阻
害活性により高血圧症治療剤として有用な一般式 (式中、(R)または(S)を記した炭素原子はそれぞ
れ(R)−配置または(S)−配置であることを意味し
、Yは酸素原子またはアミノ基を表し、Rは炭素数1〜
7の直鎮または分枝アルキル基を表す)で表されるアミ
ノ酸誘導体の製造原料である、式〔従来の技術〕 前記一般式(III)で表されるアミノ酸誘導体は4個
の不斉炭素を有し、それぞれの炭素上の立体配置はその
活性に影響を与えることが知られている。特に(S)−
ヒスチジンのα−アミノ基についたアシル部分の不斉炭
素は(R)−配置である方が好ましいことが確認されて
いる。しかしながら、この不斉炭素において、光学純度
の高い化合物を製造することは困難で多くの手間を要す
るものであった。
例えば、前記式(IV)の合成原料として有用な式
(式中、(R)または(S>を記した炭素原子はそれぞ
れ(R)−または(S)−配置であることを意味する)
で表される光学活性ヒスチジン誘導体に誘導できく特開
昭62−234071および参考側参照)、医薬品原料
として大変有用な化合物である。
れ(R)−または(S)−配置であることを意味する)
で表される光学活性ヒスチジン誘導体に誘導できく特開
昭62−234071および参考側参照)、医薬品原料
として大変有用な化合物である。
(式中、(R)は前記と同じ意味を表す)で表される光
学活性カルボン酸を不斉合成法や対応するラセミ体の光
学分割により合成することは困難であった。
学活性カルボン酸を不斉合成法や対応するラセミ体の光
学分割により合成することは困難であった。
従って、式(V)に対応するラセミ体のカルボン酸を合
成し、(S)−ヒスチジン誘導体とのアミドに変換後、
得られたN−アシルヒスチジンl導体のジアステレオマ
ー混合物をカラムクロマトグラフィーなどにより分離せ
ざるを得なかった。
成し、(S)−ヒスチジン誘導体とのアミドに変換後、
得られたN−アシルヒスチジンl導体のジアステレオマ
ー混合物をカラムクロマトグラフィーなどにより分離せ
ざるを得なかった。
しかしながら、この方法も高価なカラムや充てん剤を要
したり、大量の溶媒を用いるなどの問題があり、しかも
大量に処理することが困難なものであった。さらに式(
V)に対応するラセミ体のカルボン酸と(S)−ヒスチ
ジン誘導体を縮合させ、2種のジアステレオマーの混合
物であるN−アシルヒスチジン誘導体を合成する方法と
しては、ジフェニルアジドを縮合剤として用いる方法、
N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボ
キシイミド(HONB)とジシクロへキシルカルボジイ
ミド(OCC)を用いる方法などが挙げられるが、これ
らの方法は反応剤が比較的高価である。あるいは、反応
後の生成物の精製が煩雑であるため大量合成には不適当
であった(特開昭61−234071参照)。
したり、大量の溶媒を用いるなどの問題があり、しかも
大量に処理することが困難なものであった。さらに式(
V)に対応するラセミ体のカルボン酸と(S)−ヒスチ
ジン誘導体を縮合させ、2種のジアステレオマーの混合
物であるN−アシルヒスチジン誘導体を合成する方法と
しては、ジフェニルアジドを縮合剤として用いる方法、
N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボ
キシイミド(HONB)とジシクロへキシルカルボジイ
ミド(OCC)を用いる方法などが挙げられるが、これ
らの方法は反応剤が比較的高価である。あるいは、反応
後の生成物の精製が煩雑であるため大量合成には不適当
であった(特開昭61−234071参照)。
このため、式(rV)で表される光学活性N−アシルヒ
スチジン誘導体あるいはその合成原料である式(V)で
表される光学活性カルボン酸の効率的かつ簡便な製造方
法を見出すことが望まれてl/)だ。
スチジン誘導体あるいはその合成原料である式(V)で
表される光学活性カルボン酸の効率的かつ簡便な製造方
法を見出すことが望まれてl/)だ。
本発明者らは、前記式(rV)で表される光学活性N−
アシルヒスチジン誘導体、あるG)(よ前8己式(V)
で表される光学活性カルボン酸の効率的合成法の開発を
鋭意検討した結果、簡便に合成できる本発明化合物であ
る、一般式(1)で表される光学活性(R) −2−(
1−ナフチルメチル導体が、有用な合成原料となること
を見出し、本発明を完成した。
アシルヒスチジン誘導体、あるG)(よ前8己式(V)
で表される光学活性カルボン酸の効率的合成法の開発を
鋭意検討した結果、簡便に合成できる本発明化合物であ
る、一般式(1)で表される光学活性(R) −2−(
1−ナフチルメチル導体が、有用な合成原料となること
を見出し、本発明を完成した。
一般式(I)で表される本発明化合物は下記反応工程に
従い製造できる。
従い製造できる。
第2工程
■
第3工程
第6エ程
(式中、(R)を記した炭素原子は(R)−配置である
ことを意味し、(RS)を記した炭素原子は(R)−お
よび(S)−配置の化合物の等置部合物であるラセミ体
を意味する。また、式中、Yは塩素、臭素またはヨウ素
原子を意味し、^rは置換アリール基を意味する)。
ことを意味し、(RS)を記した炭素原子は(R)−お
よび(S)−配置の化合物の等置部合物であるラセミ体
を意味する。また、式中、Yは塩素、臭素またはヨウ素
原子を意味し、^rは置換アリール基を意味する)。
(第1工程)
本工程は1−ナツトアルデヒドとコハク酸ジエステルと
を塩基性条件下縮合し、さらに加水分解することにより
、式(Vl)で表される2−(1−ナフチルメチレン)
コハク酸を製造する工程である(参考側参照)。
を塩基性条件下縮合し、さらに加水分解することにより
、式(Vl)で表される2−(1−ナフチルメチレン)
コハク酸を製造する工程である(参考側参照)。
コハク酸ジエステルとしてはコハク酸ジメチル、コハク
酸ジエチル、コハク酸ジプロピル、コハク酸ジイソプロ
ピル、コハク酸ジブチルなどが例示でき、好適にはコハ
ク酸ジエチルが用いられる。
酸ジエチル、コハク酸ジプロピル、コハク酸ジイソプロ
ピル、コハク酸ジブチルなどが例示でき、好適にはコハ
ク酸ジエチルが用いられる。
また縮合反応に用いられる塩基としては、リチウムメチ
ラート、リチウムエチラート、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラート、カリウムメチラート、カリウム
エチラートなどのアルカリ金属アルコラード、リチウム
、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、リチウム
アミド、ナトリウムアミド、カリウムアミドなどのアル
カリ金属アミド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物などが例示で
き、好適にはナトリウムメチラートが用いられる。本反
応は溶媒中で行われ、用いる溶媒としては反応に関与し
ないものであれば如何なる溶媒も使用できるが、好適に
はメタノール、エタノール、プロパツールなどのアルコ
ール系溶媒が用いられる。縮合に引き続いて行われる加
水分解はメタノール、エタノール、プロパツールなどの
アルコール系溶媒と水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
などのアルカリ金属水酸化物の水溶液との混合液を用い
て行われる。反応は25〜80℃で円滑に進行する。
ラート、リチウムエチラート、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラート、カリウムメチラート、カリウム
エチラートなどのアルカリ金属アルコラード、リチウム
、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、リチウム
アミド、ナトリウムアミド、カリウムアミドなどのアル
カリ金属アミド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物などが例示で
き、好適にはナトリウムメチラートが用いられる。本反
応は溶媒中で行われ、用いる溶媒としては反応に関与し
ないものであれば如何なる溶媒も使用できるが、好適に
はメタノール、エタノール、プロパツールなどのアルコ
ール系溶媒が用いられる。縮合に引き続いて行われる加
水分解はメタノール、エタノール、プロパツールなどの
アルコール系溶媒と水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
などのアルカリ金属水酸化物の水溶液との混合液を用い
て行われる。反応は25〜80℃で円滑に進行する。
(第2工程)
本工程は式(Vl)で表される2−(1−ナフチルメチ
レン)コハク酸を触媒存在下、水素添加し、式(■)で
表されるラセミ体の2−(1−ナフチルメチル)コハク
酸を合成するものである。触媒としては、炭素上に担持
したパラジウム、白金、ロジウムなどが用いられる。ま
た、溶媒としてはメタノール、エタノール、フロパノー
ルなどのアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸アミルなどのエステル系溶媒ベンゼン、トルエン、
ヘキサンなどの炭化水素系溶媒および水などが用いられ
る。反応は常圧の水素雰囲気下0℃から100℃の間で
円滑に進行する。
レン)コハク酸を触媒存在下、水素添加し、式(■)で
表されるラセミ体の2−(1−ナフチルメチル)コハク
酸を合成するものである。触媒としては、炭素上に担持
したパラジウム、白金、ロジウムなどが用いられる。ま
た、溶媒としてはメタノール、エタノール、フロパノー
ルなどのアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸アミルなどのエステル系溶媒ベンゼン、トルエン、
ヘキサンなどの炭化水素系溶媒および水などが用いられ
る。反応は常圧の水素雰囲気下0℃から100℃の間で
円滑に進行する。
(第3工程)
本工程は式(■)で表されるラセミ体の2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸と光学活性な塩基とからジアステ
レオマーの関係にある塩の混合物を製造し、この塩の混
合物を分別再結晶することにより純度の高い一般式(■
)で表される(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸と光学活性塩基との塩を分離するものである。本工
程に用いられる光学活性塩基としては(+)−シンコニ
ン、(−)−シンコニジン、(+)−エフェドリン、(
−)−N−メチルエフェドリン、(−)−1−フェニル
エチルアミン、(−)−2−アミノ−3−フェニル−1
−プロパツール、(+)−スレ第2−アミノ−1−フェ
ニル−1,3−プロパンジオール、(−)−2−アミノ
ブタンなどが例示できるが、好適にはく−)−シンコニ
ジンが用いられる。光学活性塩基はラセミ体の2−(l
−ナフチルメチル)コノ1り酸に対し、0.4当量〜2
当量用いられるが、好適には1当量が用いられる。溶媒
としては、水、メタノール、エタノール、プロパツール
、フタノールなどのプロトン性溶媒、ベンゼン、トルエ
ンなどの芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、ジクロロエタンナトのハロゲン化炭化水素
系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性溶媒
、アセトン、2−ブタノン、メチルイソプロピルケトン
等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミ
ル等のエステル系溶媒などが例示できるが、好適にはエ
タノールが用いられる。
チルメチル)コハク酸と光学活性な塩基とからジアステ
レオマーの関係にある塩の混合物を製造し、この塩の混
合物を分別再結晶することにより純度の高い一般式(■
)で表される(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸と光学活性塩基との塩を分離するものである。本工
程に用いられる光学活性塩基としては(+)−シンコニ
ン、(−)−シンコニジン、(+)−エフェドリン、(
−)−N−メチルエフェドリン、(−)−1−フェニル
エチルアミン、(−)−2−アミノ−3−フェニル−1
−プロパツール、(+)−スレ第2−アミノ−1−フェ
ニル−1,3−プロパンジオール、(−)−2−アミノ
ブタンなどが例示できるが、好適にはく−)−シンコニ
ジンが用いられる。光学活性塩基はラセミ体の2−(l
−ナフチルメチル)コノ1り酸に対し、0.4当量〜2
当量用いられるが、好適には1当量が用いられる。溶媒
としては、水、メタノール、エタノール、プロパツール
、フタノールなどのプロトン性溶媒、ベンゼン、トルエ
ンなどの芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、ジクロロエタンナトのハロゲン化炭化水素
系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性溶媒
、アセトン、2−ブタノン、メチルイソプロピルケトン
等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミ
ル等のエステル系溶媒などが例示できるが、好適にはエ
タノールが用いられる。
(第4工程)
本工程は、一般式(■)で表される純度の高い(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸と光学活性塩基
との塩を酸処理して、式(IX)で表される(R) −
2−(1−ナフチルメチル)コハク酸を製造するもので
ある。酸としては、塩酸、硫酸、ホウ酸、硝酸、リン酸
などが例示できるが、好適には塩酸が用いられる。反応
は式(■)で表される塩に酢酸エチル、トルエン、ジク
ロロメタン等の有機溶媒と酸の水溶液を加え、式(IX
)で表される(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸を有機溶媒中に抽出することによって行われる。本
工程は5〜30℃で円滑に進行する。
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸と光学活性塩基
との塩を酸処理して、式(IX)で表される(R) −
2−(1−ナフチルメチル)コハク酸を製造するもので
ある。酸としては、塩酸、硫酸、ホウ酸、硝酸、リン酸
などが例示できるが、好適には塩酸が用いられる。反応
は式(■)で表される塩に酢酸エチル、トルエン、ジク
ロロメタン等の有機溶媒と酸の水溶液を加え、式(IX
)で表される(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸を有機溶媒中に抽出することによって行われる。本
工程は5〜30℃で円滑に進行する。
(第5工程)
本工程は、(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハク
酸をハロゲン化剤で処理して一般式(II)で表される
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジハロ
ゲン化物を製造する工程である。ハロゲン化剤としては
、塩化チオニル、塩化オキザリル、三塩化リン、五塩化
リン、オキシ塩化リン、ジクロロメチルメチルエーテル
、ホスゲン、臭化チオニル、臭化オキザリル、三臭化リ
ン、五臭化リン、オキシ臭化リン、三ヨウ化リン、五ヨ
ウ化リンなどが単独あるいは触媒量のジメチルホルムア
ミド、ピリジン、または塩化亜鉛等の存在下用いられる
。
酸をハロゲン化剤で処理して一般式(II)で表される
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジハロ
ゲン化物を製造する工程である。ハロゲン化剤としては
、塩化チオニル、塩化オキザリル、三塩化リン、五塩化
リン、オキシ塩化リン、ジクロロメチルメチルエーテル
、ホスゲン、臭化チオニル、臭化オキザリル、三臭化リ
ン、五臭化リン、オキシ臭化リン、三ヨウ化リン、五ヨ
ウ化リンなどが単独あるいは触媒量のジメチルホルムア
ミド、ピリジン、または塩化亜鉛等の存在下用いられる
。
ハロゲン化剤は1当量〜10当量用いられる。反応は無
溶媒あるいは溶媒中で行われるが好適には無溶媒で行わ
れ、0℃〜150℃で円滑に進行する。
溶媒あるいは溶媒中で行われるが好適には無溶媒で行わ
れ、0℃〜150℃で円滑に進行する。
(第6エ程)
本工程は、(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハク
酸ジハロゲン化物(n)を置換フェノール類と塩基で処
理して本発明化合物である一般式(I”)で表される(
R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジアリー
ルを製造するものである。置換フェノール類としては、
フェノールのベンゼン環上の5個の水素のうち1〜5個
が塩素、臭素、ヨウ素、ニトロなどの電子吸引基で置換
されたものであり、2−フルオロフェノール、2−クロ
ロフェノール、2−ブロモフェノール、2−ヨウドフェ
ノール、2−ニトロフェノール、3−フルオロフェノー
ル、3−クロロフェノール、3−ブロモフェノール、3
−ヨウドフェノール、3−ニトロフェノール、4−フル
オロフェノール、4−クロロフェノール、4−ブロモフ
ェノール、4−ヨウドフェノール、4−ニトロフェノー
ルなどの一置換フエノール類、2.4−ジフルオロフェ
ノール、2、3− ジクロロフェノール、2.4−ジク
ロロフェノール、2.5−ジクロロフェノール、2.6
− ジクロロフェノール、3.4−ジクロロフェノール
、3.5−ジクロロフェノール、2,4−ジニトロフェ
ノール、2.5−ジニトロフェノールなどの二置換フェ
ノール類、2.3゜4− ) ’J クロロフェノール
、2.3.5− )ジクロロフェノール、2.3.6−
)ジクロロフェノール、2.4.6−ドリクロロフエノ
ール、2.4.6−)リニトロフエトールなどの三置換
フェノール、2.3.4.5−テトラクロロフェノール
、2,3.5.6−テトラクロロフェノールなどの四置
換フェノール、2.3.4.5.6−ペンタクロロフェ
ノールなどの三置換フェノールなどが例示できる。塩基
としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン、N−メチルモルホリン、N−エチルモ
ルホリン、1.5−ジアザビシクロ(4,3,0)ノン
−5−エン、1.8−ジアザビシクロ(5,4,0]
ウンデカづ一エン、ピリジン、ルチジン、コリジン、4
−ジメチルアミノピリジン、4−ピロリジノピリジンな
どの有機第三アミン化合物、炭酸リチウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウ
ムなどのアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の炭酸
塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物が用いられるが、好適には
トリエチルアミンが用いられる。反応は溶媒中、−20
℃〜50℃で行われるが、溶媒としてはジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、■、2−ジメト
キシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン
、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化
炭素などのハロアン化炭化水素系溶媒、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ヘキ
サメチルホスホリックトリアミドなどの極性非プロトン
性溶媒あるいはこれらの溶媒の混合物が例示できる。
酸ジハロゲン化物(n)を置換フェノール類と塩基で処
理して本発明化合物である一般式(I”)で表される(
R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジアリー
ルを製造するものである。置換フェノール類としては、
フェノールのベンゼン環上の5個の水素のうち1〜5個
が塩素、臭素、ヨウ素、ニトロなどの電子吸引基で置換
されたものであり、2−フルオロフェノール、2−クロ
ロフェノール、2−ブロモフェノール、2−ヨウドフェ
ノール、2−ニトロフェノール、3−フルオロフェノー
ル、3−クロロフェノール、3−ブロモフェノール、3
−ヨウドフェノール、3−ニトロフェノール、4−フル
オロフェノール、4−クロロフェノール、4−ブロモフ
ェノール、4−ヨウドフェノール、4−ニトロフェノー
ルなどの一置換フエノール類、2.4−ジフルオロフェ
ノール、2、3− ジクロロフェノール、2.4−ジク
ロロフェノール、2.5−ジクロロフェノール、2.6
− ジクロロフェノール、3.4−ジクロロフェノール
、3.5−ジクロロフェノール、2,4−ジニトロフェ
ノール、2.5−ジニトロフェノールなどの二置換フェ
ノール類、2.3゜4− ) ’J クロロフェノール
、2.3.5− )ジクロロフェノール、2.3.6−
)ジクロロフェノール、2.4.6−ドリクロロフエノ
ール、2.4.6−)リニトロフエトールなどの三置換
フェノール、2.3.4.5−テトラクロロフェノール
、2,3.5.6−テトラクロロフェノールなどの四置
換フェノール、2.3.4.5.6−ペンタクロロフェ
ノールなどの三置換フェノールなどが例示できる。塩基
としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン、N−メチルモルホリン、N−エチルモ
ルホリン、1.5−ジアザビシクロ(4,3,0)ノン
−5−エン、1.8−ジアザビシクロ(5,4,0]
ウンデカづ一エン、ピリジン、ルチジン、コリジン、4
−ジメチルアミノピリジン、4−ピロリジノピリジンな
どの有機第三アミン化合物、炭酸リチウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウ
ムなどのアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の炭酸
塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物が用いられるが、好適には
トリエチルアミンが用いられる。反応は溶媒中、−20
℃〜50℃で行われるが、溶媒としてはジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、■、2−ジメト
キシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン
、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化
炭素などのハロアン化炭化水素系溶媒、N、N−ジメチ
ルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ヘキ
サメチルホスホリックトリアミドなどの極性非プロトン
性溶媒あるいはこれらの溶媒の混合物が例示できる。
(第7エ程)
本工程は一般式(1°)で表される(R)−2−(1−
ナフチルメチル〉コハク酸ジアリールをモルホリンで処
理して本発明化合物である一般式(■”)で表される光
学活性N−アシルモルホリンを製造するものである。モ
ルホリンは1当量〜5当量用いられるが、好適には1当
量用いられる。反応は無溶媒または溶媒中で行われるが
、溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタンなどのエー
テル系溶媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘ
キサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、
N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの
極性非プロトン性溶媒あるいはこれらの混合物が例示で
きるが、好適には無溶媒またはジクロロメタンが用いら
れる。反応は、−30℃〜100℃で円滑に進行する。
ナフチルメチル〉コハク酸ジアリールをモルホリンで処
理して本発明化合物である一般式(■”)で表される光
学活性N−アシルモルホリンを製造するものである。モ
ルホリンは1当量〜5当量用いられるが、好適には1当
量用いられる。反応は無溶媒または溶媒中で行われるが
、溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタンなどのエー
テル系溶媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘ
キサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、
N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセ
トアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの
極性非プロトン性溶媒あるいはこれらの混合物が例示で
きるが、好適には無溶媒またはジクロロメタンが用いら
れる。反応は、−30℃〜100℃で円滑に進行する。
以上の合成工程において、第5および第6エ程あるいは
、第5、第6および第7エ程を途中の反応成績体を分離
することなく連続して行い、本発明化合物である一般式
(Io)あるいは一般式(1’”〉で表される光学活性
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体
を式(IX)で表される(R) −2−(1ナフチルメ
チル)コハク酸から一気に製造することもできる(実施
例1.2.7あるいは4.9.10参照)。
、第5、第6および第7エ程を途中の反応成績体を分離
することなく連続して行い、本発明化合物である一般式
(Io)あるいは一般式(1’”〉で表される光学活性
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体
を式(IX)で表される(R) −2−(1ナフチルメ
チル)コハク酸から一気に製造することもできる(実施
例1.2.7あるいは4.9.10参照)。
以上の合成工程によって得られた本発明化合物である一
般式(I”)で表される光学活性N−アシルモルホリン
は下記反応工程により高血圧症治療剤である一般式(I
II)の合成原料として有用な式(V)で表される光学
活性カルボン酸および式(IV)で表される光学活性N
−アシルヒスチジン誘導体に誘導できる。
般式(I”)で表される光学活性N−アシルモルホリン
は下記反応工程により高血圧症治療剤である一般式(I
II)の合成原料として有用な式(V)で表される光学
活性カルボン酸および式(IV)で表される光学活性N
−アシルヒスチジン誘導体に誘導できる。
(式中、(R)、(S)およびArは前記と同じ意味を
表す)。
表す)。
(第8工程)
本工程は一般式(I”)で表される光学活性N−アシル
モルホリンを塩基で処理してエステル部分を加水分解し
、式(V)で表される光学活性カルボン酸を製造するも
のである。塩基としては通常のエステル加水分解に用い
られるすべての塩基が使用可能であるが、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネ
シウム、水酸化バリウムなどのアルカリ金属またはアル
カリ土類金属の水酸化物が例示でき、好適には水酸化ナ
トリウムが用いられる。反応は溶媒中で行われ、溶媒と
しては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、1.2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶
媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサンな
どの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、N、N−
ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド
、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性非プ
ロトン溶媒、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピ
リジン、コリジンなどのアミン系溶媒、メタノール、エ
タノール、プロパツール、ブタノール、アミルアルコー
ルなどのアルコール系溶媒、アセトン、2−ブタノン、
メチルインブチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸アミルなどのエステル系溶媒、水
などが単独であるいは混合溶媒として用いられる。反応
は−10℃〜100℃で円滑に進行する。
モルホリンを塩基で処理してエステル部分を加水分解し
、式(V)で表される光学活性カルボン酸を製造するも
のである。塩基としては通常のエステル加水分解に用い
られるすべての塩基が使用可能であるが、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネ
シウム、水酸化バリウムなどのアルカリ金属またはアル
カリ土類金属の水酸化物が例示でき、好適には水酸化ナ
トリウムが用いられる。反応は溶媒中で行われ、溶媒と
しては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、1.2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶
媒、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサンな
どの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒、N、N−
ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド
、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性非プ
ロトン溶媒、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピ
リジン、コリジンなどのアミン系溶媒、メタノール、エ
タノール、プロパツール、ブタノール、アミルアルコー
ルなどのアルコール系溶媒、アセトン、2−ブタノン、
メチルインブチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸アミルなどのエステル系溶媒、水
などが単独であるいは混合溶媒として用いられる。反応
は−10℃〜100℃で円滑に進行する。
(第9工程)
本工程は一般式(F′)で表される光学活性N−アシル
モルホリンを(S)−ヒスチジン誘導体で処理して(I
V)で表される光学活性N−アシルヒスチジン誘導体を
製造するものである。用いる(S)−ヒスチジン誘導体
としては(S)−ヒスチジン、(S)−ヒスチジンメチ
ルエステル、(S)−ヒスチジンエチルエステル、(S
)−ヒスチジンプロピルエステルなどの(S)−ヒスチ
ジン低級アルキルエステル、(S)−ヒスチジンフェニ
ルエステル、(S)−ヒスチジン−p−メトキシフェニ
ルエステルなどの(S)−ヒスチジン無置換若しくは置
換アリールエステル、(S)−ヒスチジンベンジルエス
テル、(S)−ヒスチジン−p−ニトロベンジルエステ
ル等の(S)−ヒスチジン無i換若しくは置換アリール
メチルエステルおよびこれらの塩酸塩が例示できる。な
お、塩酸塩を用いる場合には塩酸に対して当量のトリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
ジイソプロピルエチルアミンなどの第3アミンを反応系
に添加する必要がある。本反応は溶媒中で行われるが、
溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、■、
2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン
、トルエン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素な
どのハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、N、
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性
溶媒、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケト
ンなどのケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
アミル等のエステル系溶媒、インプロパツール、t−ブ
タノールなどのアルコール系溶媒が用いられるが、好適
にはジメチルホルムアミドが用いられる。反応は一20
℃〜100℃で円滑に進行する。
モルホリンを(S)−ヒスチジン誘導体で処理して(I
V)で表される光学活性N−アシルヒスチジン誘導体を
製造するものである。用いる(S)−ヒスチジン誘導体
としては(S)−ヒスチジン、(S)−ヒスチジンメチ
ルエステル、(S)−ヒスチジンエチルエステル、(S
)−ヒスチジンプロピルエステルなどの(S)−ヒスチ
ジン低級アルキルエステル、(S)−ヒスチジンフェニ
ルエステル、(S)−ヒスチジン−p−メトキシフェニ
ルエステルなどの(S)−ヒスチジン無置換若しくは置
換アリールエステル、(S)−ヒスチジンベンジルエス
テル、(S)−ヒスチジン−p−ニトロベンジルエステ
ル等の(S)−ヒスチジン無i換若しくは置換アリール
メチルエステルおよびこれらの塩酸塩が例示できる。な
お、塩酸塩を用いる場合には塩酸に対して当量のトリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
ジイソプロピルエチルアミンなどの第3アミンを反応系
に添加する必要がある。本反応は溶媒中で行われるが、
溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、■、
2−ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン
、トルエン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素な
どのハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル、N、
N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性
溶媒、アセトン、2−ブタノン、メチルイソブチルケト
ンなどのケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
アミル等のエステル系溶媒、インプロパツール、t−ブ
タノールなどのアルコール系溶媒が用いられるが、好適
にはジメチルホルムアミドが用いられる。反応は一20
℃〜100℃で円滑に進行する。
以上の合成工程において、第5、第6、第7および第9
工程を途中の反応成績体を分離することなく連続して行
い。式(IX)で表される(R) −2−(1−ナフチ
ルメチル)コハク酸から式(TV)で表される光学活性
N−アシルヒスチジン誘導体を一気に製造することもで
きる(実施例5および6参照)。
工程を途中の反応成績体を分離することなく連続して行
い。式(IX)で表される(R) −2−(1−ナフチ
ルメチル)コハク酸から式(TV)で表される光学活性
N−アシルヒスチジン誘導体を一気に製造することもで
きる(実施例5および6参照)。
以下、実施例および参考例により本発明の詳細な説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
参考例 1
ナトリウム7.01 g (0,305mol>をメタ
ノール180dに溶かし、コハク酸ジエチル69.6g
(0,400mol)を加えた後、加熱還流下に1−ナ
ツトアルデヒド31.7 g (0,203mol)の
メタノール(11〇−)溶液を1.5時間かけて滴下し
た。さらに1.5時間還流後、2N−水酸化ナトリウム
水溶液500 mNを加え1時間還流した。約400m
1のメタノールを蒸留して除き、さらに1時間還流した
。放冷漬水500 m/で希釈し、エーテル(200m
g X 3 )で洗浄した。水層に濃塩酸150−を加
えて酸性にした後、0℃で一夜放置した。析出した結晶
をろ取して2−(1−ナフチルメチレン)コハク酸45
.8 g (収率88%)を淡黄色結晶として得た。本
島のアセトン−ds 中テ(’) H−NMRl:おイ
テδ: 3.42 ppmに6−オレフィン由来のメチ
レン水素のシグナルが観測され、δ: 3.65 pp
mにZ−オレフィン由来のメチレン水素のシグナルが観
測された。これらのシグナルの強度比より本島はE:Z
=14:1の立体異性体混合物であることが判明した。
ノール180dに溶かし、コハク酸ジエチル69.6g
(0,400mol)を加えた後、加熱還流下に1−ナ
ツトアルデヒド31.7 g (0,203mol)の
メタノール(11〇−)溶液を1.5時間かけて滴下し
た。さらに1.5時間還流後、2N−水酸化ナトリウム
水溶液500 mNを加え1時間還流した。約400m
1のメタノールを蒸留して除き、さらに1時間還流した
。放冷漬水500 m/で希釈し、エーテル(200m
g X 3 )で洗浄した。水層に濃塩酸150−を加
えて酸性にした後、0℃で一夜放置した。析出した結晶
をろ取して2−(1−ナフチルメチレン)コハク酸45
.8 g (収率88%)を淡黄色結晶として得た。本
島のアセトン−ds 中テ(’) H−NMRl:おイ
テδ: 3.42 ppmに6−オレフィン由来のメチ
レン水素のシグナルが観測され、δ: 3.65 pp
mにZ−オレフィン由来のメチレン水素のシグナルが観
測された。これらのシグナルの強度比より本島はE:Z
=14:1の立体異性体混合物であることが判明した。
さらにこの結晶をメタノール:水(1: l)から再結
晶すると80%の回収率で97%以上の純度のトオレフ
ィン体が得られた。
晶すると80%の回収率で97%以上の純度のトオレフ
ィン体が得られた。
融 点:198〜198℃ (分解)
IR(KBr): 3400. 30?0. 170
0. 1632. 1510゜1421、1290.1
218.960.802゜782 cm ’ H−NMR(アセトン−dS) δ: 3.42(2H,s、 CH2)、 7.5
2〜8.03(7H,m。
0. 1632. 1510゜1421、1290.1
218.960.802゜782 cm ’ H−NMR(アセトン−dS) δ: 3.42(2H,s、 CH2)、 7.5
2〜8.03(7H,m。
ナフチル)、 8.38 (1)1. s、 ArCH
)H−NMR(DMSO−da) δ: 3.25(2L s、 C)+2)、 7
J9〜8.04(7H,m。
)H−NMR(DMSO−da) δ: 3.25(2L s、 C)+2)、 7
J9〜8.04(7H,m。
ナフチル)、 8.21(1)1. s、 ArcH
)、 12.50(2H,bs、 C00)I X
2)Mass mle; 256 (M” )、 2
38 (M−820)、 221゜210、 209 元素分析値: (C+5LJnとして)計算値 C
; 70.31 、 )1.4.72%分析値 C;
70.19 、 H; 4.85%参考例 2 渣をメタノール:水(1: l)の混合溶媒220 m
l。
)、 12.50(2H,bs、 C00)I X
2)Mass mle; 256 (M” )、 2
38 (M−820)、 221゜210、 209 元素分析値: (C+5LJnとして)計算値 C
; 70.31 、 )1.4.72%分析値 C;
70.19 、 H; 4.85%参考例 2 渣をメタノール:水(1: l)の混合溶媒220 m
l。
に加熱溶解し、放冷して析出した結晶をろ取してラセミ
体の(R3) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸
26.6 g (収率75%)を淡黄色結晶として得た
。さらにろ液を濃縮して2番晶を7.45 g (収率
21%)得た(全収率96%)。
体の(R3) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸
26.6 g (収率75%)を淡黄色結晶として得た
。さらにろ液を濃縮して2番晶を7.45 g (収率
21%)得た(全収率96%)。
融 点 = 184〜186℃
2−(1−ナフチルメチレン)コハク酸35.7 g(
0,138mol)をエタノール240rn1に溶かし
、10%−Pd/c 2.Ogを加え、水素雰囲気下4
1時間撹拌した。
0,138mol)をエタノール240rn1に溶かし
、10%−Pd/c 2.Ogを加え、水素雰囲気下4
1時間撹拌した。
不溶物をろ別後、溶媒を減圧留去して得られた残(R3
)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸10.2g(
39,5mmol)と(−)−シンコニジン11゜7
y、 (39,5mmol)をエタノール960 ml
に加熱溶解後、放冷した。室温3日、0℃1日静置して
析出した結晶をろ取し、〈R)−2−(1−ナフチルメ
チル)コハク酸のシンコニジン塩8.85 g (収率
40%)を無色結晶として得た。本島の−aB(数mg
)を塩酸で分解して得られる(R) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸をジアゾメタン処理して(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジメチルに変換
し、光学活性カラムによるHPLC分析の結果、得られ
た(R)−コハク酸誘導体の光学純度は54%eeであ
った。そこで本シンコニジン塩をさらにエタノールから
3回再結晶を行い純粋な(R) −2−(1−ナフチル
メチル)コハク酸のく−)−シンコニジン塩3.95
g (収率18%)を無色結晶として得た。
)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸10.2g(
39,5mmol)と(−)−シンコニジン11゜7
y、 (39,5mmol)をエタノール960 ml
に加熱溶解後、放冷した。室温3日、0℃1日静置して
析出した結晶をろ取し、〈R)−2−(1−ナフチルメ
チル)コハク酸のシンコニジン塩8.85 g (収率
40%)を無色結晶として得た。本島の−aB(数mg
)を塩酸で分解して得られる(R) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸をジアゾメタン処理して(R)
−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジメチルに変換
し、光学活性カラムによるHPLC分析の結果、得られ
た(R)−コハク酸誘導体の光学純度は54%eeであ
った。そこで本シンコニジン塩をさらにエタノールから
3回再結晶を行い純粋な(R) −2−(1−ナフチル
メチル)コハク酸のく−)−シンコニジン塩3.95
g (収率18%)を無色結晶として得た。
融 点:198〜199℃ (分解)
IR(KBr): 3450. 2950. 1718
. 1562. 1510゜1412、 1238.
1178. 800. 781゜758 cm−’ Mass mle 258.240.212.198
.195(α) −56,6°(CO,643,M
en)I)元素分析値: (C+Js60sNaとし
て)計算値 C; 73.89. It; 6.57
. N; 5.07%分析値 C; 73.94.
H,6,65,N、 4.86%参考例3で得られた純
粋な(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸の
(−)−シンコニジン塩3.94g(7,13mmol
)に酢酸エチル150mfとIN−塩酸29dを加えて
撹拌した。有機層をIN=塩酸7rnl、飽和食塩水7
rnlx 2で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧で溶媒を留去し、(R) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸1.84 g (定量的収率)を
無色結晶として得た。なお、分析用サンプルは酢酸エチ
ルより再結晶して得た。
. 1562. 1510゜1412、 1238.
1178. 800. 781゜758 cm−’ Mass mle 258.240.212.198
.195(α) −56,6°(CO,643,M
en)I)元素分析値: (C+Js60sNaとし
て)計算値 C; 73.89. It; 6.57
. N; 5.07%分析値 C; 73.94.
H,6,65,N、 4.86%参考例3で得られた純
粋な(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸の
(−)−シンコニジン塩3.94g(7,13mmol
)に酢酸エチル150mfとIN−塩酸29dを加えて
撹拌した。有機層をIN=塩酸7rnl、飽和食塩水7
rnlx 2で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧で溶媒を留去し、(R) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸1.84 g (定量的収率)を
無色結晶として得た。なお、分析用サンプルは酢酸エチ
ルより再結晶して得た。
融 点: 161〜162℃
IR(KBr): 3450. 3050. 1?12
. 1510. 1421゜1400、 12g0.
1240. 1196. 923゜800、790.7
79 cnr’ )1−NMR(DMSO−d、) δ’ 2.15〜2.69(2H,m、 CLCO)
、2.91〜3、42 (3H,m、^rC)I、C)
ICO)、 7.27〜8.16(7H,m、 ナフ
チル>、 12.22(211,bs。
. 1510. 1421゜1400、 12g0.
1240. 1196. 923゜800、790.7
79 cnr’ )1−NMR(DMSO−d、) δ’ 2.15〜2.69(2H,m、 CLCO)
、2.91〜3、42 (3H,m、^rC)I、C)
ICO)、 7.27〜8.16(7H,m、 ナフ
チル>、 12.22(211,bs。
0口OHx 2)
MaSS m/eH259(m+1)” 、 2.41
(M−叶)” 、 213(M−COOH戸、 199
.196 〔α)+20.6° (C1,18,MeOH)元素分
析値’ (CISH1404として)計算値 c;
69.76、 H; 5.46%分析値 c; 6
9.51. H; 5.51%一方、水層に8N−水酸
化す) IJウム8mlを加え氷冷するとシンコニジン
が2.07 g (115198%)無色結晶として回
収された。
(M−叶)” 、 213(M−COOH戸、 199
.196 〔α)+20.6° (C1,18,MeOH)元素分
析値’ (CISH1404として)計算値 c;
69.76、 H; 5.46%分析値 c; 6
9.51. H; 5.51%一方、水層に8N−水酸
化す) IJウム8mlを加え氷冷するとシンコニジン
が2.07 g (115198%)無色結晶として回
収された。
(RS) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸11
.7g(45J mmol)と(−)−シンコニジン1
3.3 g (45,3mmol)をエタノール1.2
1に加熱溶解後、放冷した。室温10日間静置して析出
した結晶(11,4g。
.7g(45J mmol)と(−)−シンコニジン1
3.3 g (45,3mmol)をエタノール1.2
1に加熱溶解後、放冷した。室温10日間静置して析出
した結晶(11,4g。
収率45%)をろ取した。このものをエタノール700
rnlから再結晶し、(R) −2−(1−ナフチル
メチル〉コハク酸のシンコニジン塩6.11 g (収
率24%)を無色結晶として得た。このものをIN−塩
酸45rn1および酢酸エチル300 rRlに加え撹
拌した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧で溶媒を留去し、(R) −2−(
1−ナフチルメチル) コハク酸2.80 g (収率
24%)を無色結晶として得た。水晶の一部(10mg
)をジアゾメタンで処理して(R) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸メチルに変換し光学活性カラムに
よるHPLC分析の結果、得られた(R)−コハク酸誘
導体の光学純度は75%であった。
rnlから再結晶し、(R) −2−(1−ナフチル
メチル〉コハク酸のシンコニジン塩6.11 g (収
率24%)を無色結晶として得た。このものをIN−塩
酸45rn1および酢酸エチル300 rRlに加え撹
拌した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧で溶媒を留去し、(R) −2−(
1−ナフチルメチル) コハク酸2.80 g (収率
24%)を無色結晶として得た。水晶の一部(10mg
)をジアゾメタンで処理して(R) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸メチルに変換し光学活性カラムに
よるHPLC分析の結果、得られた(R)−コハク酸誘
導体の光学純度は75%であった。
参考例 6
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.7
36g(2,85mmol)に塩化チオニル0.832
m1.(11,4mmol)とジメチルホルムアミド(
DMF) 22m (0,28mmol)を加えて75
℃で12時間撹拌後、塩化チオニル0.832t! (
11,4mmol)を加えさらに3時間80℃で撹拌し
た。減圧で過剰の反応剤を除去した後、クーゲルロール
でII L、(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸ジクロリド0.420 g (収率50%)を淡黄
色油状物として得た。(浴温200〜250℃、 0.
5 mmHg)IR(neat): 3070.29
50.1?90.1600.1513゜1455、14
00.1359.1305.1267゜1218、98
8.972.908.802.778゜751、677
、578 cm−’ HNMR(CDC1a) δ: 2.70〜4.10 (5H,m、 CL
CHCHa)、7.24〜8.08 (78,m、
ナフチル)実施例 1 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
40g(0,544mmol)に塩化チオニル0.32
0m1 (4,35mmol)とDMF 4.2Ji(
0,054mmol)を加え、室温で30分、80℃で
4時間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(
R) −2−(1−ナフチルメチル)コノAり酸ジクロ
リドを得た。このものにジクロロメタン2dを加え溶か
した。この溶液をp−ニトロフェノール151mg (
1,09mmol)のジクロロメタン(3d)懸濁液に
加えた。この溶液を0℃に冷却後、トリエチルアミン0
.277m7! (1,99mmol)を加え徐々ニ昇
温し、さらに室温で2時間撹拌した。水3rnl。
36g(2,85mmol)に塩化チオニル0.832
m1.(11,4mmol)とジメチルホルムアミド(
DMF) 22m (0,28mmol)を加えて75
℃で12時間撹拌後、塩化チオニル0.832t! (
11,4mmol)を加えさらに3時間80℃で撹拌し
た。減圧で過剰の反応剤を除去した後、クーゲルロール
でII L、(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸ジクロリド0.420 g (収率50%)を淡黄
色油状物として得た。(浴温200〜250℃、 0.
5 mmHg)IR(neat): 3070.29
50.1?90.1600.1513゜1455、14
00.1359.1305.1267゜1218、98
8.972.908.802.778゜751、677
、578 cm−’ HNMR(CDC1a) δ: 2.70〜4.10 (5H,m、 CL
CHCHa)、7.24〜8.08 (78,m、
ナフチル)実施例 1 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
40g(0,544mmol)に塩化チオニル0.32
0m1 (4,35mmol)とDMF 4.2Ji(
0,054mmol)を加え、室温で30分、80℃で
4時間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(
R) −2−(1−ナフチルメチル)コノAり酸ジクロ
リドを得た。このものにジクロロメタン2dを加え溶か
した。この溶液をp−ニトロフェノール151mg (
1,09mmol)のジクロロメタン(3d)懸濁液に
加えた。この溶液を0℃に冷却後、トリエチルアミン0
.277m7! (1,99mmol)を加え徐々ニ昇
温し、さらに室温で2時間撹拌した。水3rnl。
エーテル30mj!を加えて分液し、有機層を飽和食塩
水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。
水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムで
分離精製しくヘキサン:ジクロロメタン:酢酸エチル=
38:1:1〜16:1:3)、(R) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸ジp−ニトロフェニル0.2
48g(収率91%)を淡黄色結晶として得た。
分離精製しくヘキサン:ジクロロメタン:酢酸エチル=
38:1:1〜16:1:3)、(R) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸ジp−ニトロフェニル0.2
48g(収率91%)を淡黄色結晶として得た。
融 点: 122〜123℃
IR(C)ICI、) 3050.1?62.162
0.1598.1529゜1495、1350.116
0.1125゜862 cm−’ H−NMR(CDC13) δ: 2.8g(IH,dd、 J=4.5.17.
2)+2. CH2C0の一方)、 3.22(IH
,dd、 J=3.6゜17.2Hz、 C)12
CDの一方)、 3.24〜3.89(3H,m、
ArCH2−C)I)、 6.83〜8J3(15
)1. m、 Aromatic)MaSS m/
e; 500 (Ma、 362 (M−NO,−C
6H40)。
0.1598.1529゜1495、1350.116
0.1125゜862 cm−’ H−NMR(CDC13) δ: 2.8g(IH,dd、 J=4.5.17.
2)+2. CH2C0の一方)、 3.22(IH
,dd、 J=3.6゜17.2Hz、 C)12
CDの一方)、 3.24〜3.89(3H,m、
ArCH2−C)I)、 6.83〜8J3(15
)1. m、 Aromatic)MaSS m/
e; 500 (Ma、 362 (M−NO,−C
6H40)。
240.233
〔α]19.4° (C1,23,CHCl3)元素分
析値二 (CzJ2oN20eとして)計算値 C;
64.80. H: 4.03. N; 5.60%
分析値 C; 64.58. H; 3.89. N
; 5.56%実施例 2 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.3
52 g(1,36mmol)に塩化チオニル0.79
5mj! (10,9mmol)とDMF 10.cf
fl (0,13mmol)を加え80℃で1.5時間
撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(R)〜
2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを得た
。このものにジクロロメタン2.7mlを加えて溶かし
た。この溶液に0℃でp−二トロフェノール0.397
g (2,86m+nol)を加えた後トリエチルア
ミン0.473m1(3,40mmol)を加えた。室
温で8時間撹拌後、水と酢酸エチルを加えて分液し、有
機層をIN−塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣
0.765gに酢酸エチル2mlを加えて、1日静置し
た。析出した結晶をろ取して(R) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸ジーp−二トロフェニル0.36
7 g (収率54%)を淡茶色結晶として得た。
析値二 (CzJ2oN20eとして)計算値 C;
64.80. H: 4.03. N; 5.60%
分析値 C; 64.58. H; 3.89. N
; 5.56%実施例 2 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.3
52 g(1,36mmol)に塩化チオニル0.79
5mj! (10,9mmol)とDMF 10.cf
fl (0,13mmol)を加え80℃で1.5時間
撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(R)〜
2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを得た
。このものにジクロロメタン2.7mlを加えて溶かし
た。この溶液に0℃でp−二トロフェノール0.397
g (2,86m+nol)を加えた後トリエチルア
ミン0.473m1(3,40mmol)を加えた。室
温で8時間撹拌後、水と酢酸エチルを加えて分液し、有
機層をIN−塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣
0.765gに酢酸エチル2mlを加えて、1日静置し
た。析出した結晶をろ取して(R) −2−(1−ナフ
チルメチル)コハク酸ジーp−二トロフェニル0.36
7 g (収率54%)を淡茶色結晶として得た。
さらにろ液を濃縮して2番品53mg(収率9.3%)
を得た。ろ液はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より分離精製し0゜213 g (収率32%)の目的
物を得た(全収率95%)。
を得た。ろ液はシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より分離精製し0゜213 g (収率32%)の目的
物を得た(全収率95%)。
物性値は実施例1のサンプルと一致した。
実施例 3
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジp−
ニトロフェニル0.106 g (0,211mmol
)をDMF O,21ndに溶かし、水冷下、モルホリ
ン18.44 (0,211mmol)を加えた。0℃
で3時間撹拌後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシ
リカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタ
ン=7:3:1〜6:4:1)で分離精製し、(R)
−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−4
−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロフェニル
91Jmg(収率97%)を淡黄色結晶として得た。
ニトロフェニル0.106 g (0,211mmol
)をDMF O,21ndに溶かし、水冷下、モルホリ
ン18.44 (0,211mmol)を加えた。0℃
で3時間撹拌後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシ
リカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタ
ン=7:3:1〜6:4:1)で分離精製し、(R)
−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−4
−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロフェニル
91Jmg(収率97%)を淡黄色結晶として得た。
融 点 = 124〜125℃
IR(CHCl3) 1760. 1640. 15
98. 1527. 1460゜1438、1350.
1134.1118 cm−’11−NMR(CHC
l3) δ: 2.62(1)1. dd、 J=3.9.1
6.6Hz、 Cfl、CDの一方)、 2.88(
IH,dd、 J=9.2゜16.6H2,CH2C
0の一方)、 3.32〜3.45(3H,m、 A
rCH2−0H)、 3.50−3.67(8N。
98. 1527. 1460゜1438、1350.
1134.1118 cm−’11−NMR(CHC
l3) δ: 2.62(1)1. dd、 J=3.9.1
6.6Hz、 Cfl、CDの一方)、 2.88(
IH,dd、 J=9.2゜16.6H2,CH2C
0の一方)、 3.32〜3.45(3H,m、 A
rCH2−0H)、 3.50−3.67(8N。
n9モルホリン)、 7.00〜8.18(IIH。
m、^romatic)
Mass m/e; 44B (M”)、 310
(M−Nlll、C,1(40)。
(M−Nlll、C,1(40)。
281、223
〔α〕 + 81.0@ (C1,90,CHCl
、)元素分析値’ (C2sH2JaOsとして)計
算値 c; 66.95. H; 5.39. N;
6.25%分析値 c; 66.81. H; 5
.35. N; 6.17%実施例 4 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
03g(0,398mmol)に塩化チオニル0.23
2m1(3,18mmol)とDMF 3d (0,0
4mmol)を加え80℃で1.5時間撹拌した。過剰
の反応剤を減圧留去して、粗製の(R)−2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸ジクロリドを得た。このものに
ジクロロメタン0.8rn1.を加えて溶かした。この
溶液をp−二トロフェノール0.116 g (0,8
35mmol)のジクロロメタン懸濁液0.8−に加え
た後、0℃でトリエチルアミン0.194mj! (1
,39mmol)を加えた。0℃で1時間室温で30分
間撹拌後、0℃に冷却しモルホリン35.0Ii(Q、
400 mmol)を加え、徐々に室温に昇温した。
、)元素分析値’ (C2sH2JaOsとして)計
算値 c; 66.95. H; 5.39. N;
6.25%分析値 c; 66.81. H; 5
.35. N; 6.17%実施例 4 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
03g(0,398mmol)に塩化チオニル0.23
2m1(3,18mmol)とDMF 3d (0,0
4mmol)を加え80℃で1.5時間撹拌した。過剰
の反応剤を減圧留去して、粗製の(R)−2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸ジクロリドを得た。このものに
ジクロロメタン0.8rn1.を加えて溶かした。この
溶液をp−二トロフェノール0.116 g (0,8
35mmol)のジクロロメタン懸濁液0.8−に加え
た後、0℃でトリエチルアミン0.194mj! (1
,39mmol)を加えた。0℃で1時間室温で30分
間撹拌後、0℃に冷却しモルホリン35.0Ii(Q、
400 mmol)を加え、徐々に室温に昇温した。
室温で一夜撹拌後、水とエーテルを加えて分液し、有機
層を飽和炭酸水素す) IJウム水溶液、飽和食塩水、
0.3N−塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を
シリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメ
タン=6 : 4 : 1)で分離精製し、(R) −
2−(1−ナフチルメチル)−3〜(モルホリン−4−
イル−カルボニル)プロピオン9p−ニトロフェニル0
.167 g (収率94%)を淡黄色結晶として得た
。
層を飽和炭酸水素す) IJウム水溶液、飽和食塩水、
0.3N−塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を
シリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメ
タン=6 : 4 : 1)で分離精製し、(R) −
2−(1−ナフチルメチル)−3〜(モルホリン−4−
イル−カルボニル)プロピオン9p−ニトロフェニル0
.167 g (収率94%)を淡黄色結晶として得た
。
物性値は実施例3のサンプルと一致した。
参考例 7
(R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)フロピオン酸ρ−ニトロ
フェニル0.125 g (0,279mmol)をメ
タノール0.9mlに懸濁し、IN−水酸化ナトリウム
水溶液0.62rnl(0,62mmol)を氷冷下加
えた。室温で1日撹拌後、IN−塩酸1−右よび酢酸エ
チルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
リン−4−イル−カルボニル)フロピオン酸ρ−ニトロ
フェニル0.125 g (0,279mmol)をメ
タノール0.9mlに懸濁し、IN−水酸化ナトリウム
水溶液0.62rnl(0,62mmol)を氷冷下加
えた。室温で1日撹拌後、IN−塩酸1−右よび酢酸エ
チルを加えて分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られ
た残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:酢
酸=70:30:1)で分離精製し、(R) −2−(
1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−4−イル−
カルボニル〉プロピオン酸88.6mg(収率97%)
を無色カラメルとして得た。
た残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:酢
酸=70:30:1)で分離精製し、(R) −2−(
1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−4−イル−
カルボニル〉プロピオン酸88.6mg(収率97%)
を無色カラメルとして得た。
IR(にBr): 3450. 1?30. 16
30. 1440. 1235゜1115、802.7
80 cnr’)!−NMR(CDC13) δ’ 2.35〜2.62(2H,m、 CH2C0
N)、2.91〜3、78 (11H,m、 モルホ
リン、 ArCH,CH)。
30. 1440. 1235゜1115、802.7
80 cnr’)!−NMR(CDC13) δ’ 2.35〜2.62(2H,m、 CH2C0
N)、2.91〜3、78 (11H,m、 モルホ
リン、 ArCH,CH)。
6.52(DI、 bs、 CD叶)、 7.19〜8
.17(711゜m、ナフチル) Mass m/e; 327 (M”)、 268.
240.223.212参考例 8 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル〉プロピオンMp−二トロ
フェ= ル39.1mg<0.199 mmol)およ
び(S)−ヒスチジンメチルエステルニ塩酸塩46.8
mg(0,219mmol)をDMFO,1a+j!
に懸濁し、トリエチルアミン61.0d(0,438m
mol)を加えた。40℃で1日撹拌後、溶媒を減圧留
去した。残渣に酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液を加えて分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
.17(711゜m、ナフチル) Mass m/e; 327 (M”)、 268.
240.223.212参考例 8 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル〉プロピオンMp−二トロ
フェ= ル39.1mg<0.199 mmol)およ
び(S)−ヒスチジンメチルエステルニ塩酸塩46.8
mg(0,219mmol)をDMFO,1a+j!
に懸濁し、トリエチルアミン61.0d(0,438m
mol)を加えた。40℃で1日撹拌後、溶媒を減圧留
去した。残渣に酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液を加えて分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られ
た残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン:メタノー
ル=1:0〜20:1)で分離精製し、N−((R)−
2−(1−ナフチルメチル)3−(モルホリン−4−イ
ル−カルボニル)プロピオニル)−(S)−ヒスチジン
メチルエステル83.9■(収率88%)を無色カラメ
ルとして得た。
た残渣をシリカゲルカラム(ジクロロメタン:メタノー
ル=1:0〜20:1)で分離精製し、N−((R)−
2−(1−ナフチルメチル)3−(モルホリン−4−イ
ル−カルボニル)プロピオニル)−(S)−ヒスチジン
メチルエステル83.9■(収率88%)を無色カラメ
ルとして得た。
IR(KBr): 3450. 1740. 16
30. 1437. 1234゜1113、 1030
.780 cm−’H−NMR(CDCl2) δ: 2.42(LH,m、 C)ICON)、
3.04〜3.74(14H,m、 その他の水
素)、 3.60(3H。
30. 1437. 1234゜1113、 1030
.780 cm−’H−NMR(CDCl2) δ: 2.42(LH,m、 C)ICON)、
3.04〜3.74(14H,m、 その他の水
素)、 3.60(3H。
3H,s、CH3)、4.59(IH,m、NCHCO
)。
)。
6.14(IN、 d、 J=6.6Hz、 N
H)、 6.67(IH。
H)、 6.67(IH。
s、 1mH)、 7.30〜7.98(9H,m
。
。
Aromatic)
Mass m/e; 478 (M”)、447
(M−CH30)、405゜CU〕+42.1°
(C1,09,Me叶)本島をベンゼンより再結晶する
とN−((R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(
モルホリン−4−イルカルボニル)プロピオニル) −
(S)−ヒスチジンメチルエステルベンゼン錯体を無色
結晶として得た。
(M−CH30)、405゜CU〕+42.1°
(C1,09,Me叶)本島をベンゼンより再結晶する
とN−((R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(
モルホリン−4−イルカルボニル)プロピオニル) −
(S)−ヒスチジンメチルエステルベンゼン錯体を無色
結晶として得た。
IR(KBr): 3450. 1745. 16
23. 1535. 1438゜1235、 1115
. 1030. 780゜680 c+yl−’ (α)” + 35.9° (C1,30,MeOH)
D 元素分析値:(C3□)136N40Sとして)計算値
c; 69.05. )I; 6.52. N;
10.06%分析値 C; 69.15. H,6,
50,N、 9.72%参考例 9 (R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリ
ン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロフ
ェニルIJ5 g (3,00mmol)と(S)−ヒ
スチジンメチルエステルニ塩酸塩0.706 g (3
,30mmol)に0MF2.0dおよびトリエチルア
ミン0.920mg (6,60mmol)を加え40
℃で1日撹拌した。減圧で溶媒を留去後、酢酸エチルを
加えて撹拌後、不溶物をろ別した。ろ液を食塩水で洗浄
後、0.5N−塩酸で逆抽出した。水層を酢酸エチルで
洗浄後、炭酸ナトリウム水溶液を加えてpH8にした。
23. 1535. 1438゜1235、 1115
. 1030. 780゜680 c+yl−’ (α)” + 35.9° (C1,30,MeOH)
D 元素分析値:(C3□)136N40Sとして)計算値
c; 69.05. )I; 6.52. N;
10.06%分析値 C; 69.15. H,6,
50,N、 9.72%参考例 9 (R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリ
ン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロフ
ェニルIJ5 g (3,00mmol)と(S)−ヒ
スチジンメチルエステルニ塩酸塩0.706 g (3
,30mmol)に0MF2.0dおよびトリエチルア
ミン0.920mg (6,60mmol)を加え40
℃で1日撹拌した。減圧で溶媒を留去後、酢酸エチルを
加えて撹拌後、不溶物をろ別した。ろ液を食塩水で洗浄
後、0.5N−塩酸で逆抽出した。水層を酢酸エチルで
洗浄後、炭酸ナトリウム水溶液を加えてpH8にした。
酢酸エチルで有機物を抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し
て、粗製のN−((R)−2−(1−ナフチルメチル)
−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオ
ニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステル1.33g
を得た。水晶の一部(0,535g)とサリチル酸0.
154g(1,11mmol)を酢酸エチル2.5−に
加熱溶解し、放冷した。析出結晶をろ取してN−((R
)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−
4−イル−カルボニル)プロピオニル)−(S)−ヒス
チジンメチルエステルサリチル酸塩0.623 g (
収率90%)を無色結晶として得た。このものに酢酸エ
チルおよび炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて溶かし、
分液後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去してN−((R)−2−
(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−4−イル
−カルボニル)プロピオニル)−(S)−ヒスチジンメ
チルエステル0.464 g (収$96%)を無色カ
ラメルとして得た。
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し
て、粗製のN−((R)−2−(1−ナフチルメチル)
−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオ
ニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステル1.33g
を得た。水晶の一部(0,535g)とサリチル酸0.
154g(1,11mmol)を酢酸エチル2.5−に
加熱溶解し、放冷した。析出結晶をろ取してN−((R
)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−
4−イル−カルボニル)プロピオニル)−(S)−ヒス
チジンメチルエステルサリチル酸塩0.623 g (
収率90%)を無色結晶として得た。このものに酢酸エ
チルおよび炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて溶かし、
分液後、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去してN−((R)−2−
(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン−4−イル
−カルボニル)プロピオニル)−(S)−ヒスチジンメ
チルエステル0.464 g (収$96%)を無色カ
ラメルとして得た。
物性値は、参考例8と一致した。
実施例 5
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
02g(0,395mmol)に塩化チオニル0.23
−(3,16mmol)とDMF 3dを加え80℃で
2時間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去して、粗製の
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロ
リドを得た。このものにジクロロメタン1rR1を加え
て溶かした。このジクロロメタン溶液にp−ニトロフェ
ノール0.115g(0,827mmol)およびトリ
エチルアミン0.175rR1(1,26mmol)を
水冷下順次加えた。室温で1時間撹拌後、モルホリン3
4.4J11(0,395mmol)を加えた。
02g(0,395mmol)に塩化チオニル0.23
−(3,16mmol)とDMF 3dを加え80℃で
2時間撹拌した。過剰の反応剤を減圧留去して、粗製の
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロ
リドを得た。このものにジクロロメタン1rR1を加え
て溶かした。このジクロロメタン溶液にp−ニトロフェ
ノール0.115g(0,827mmol)およびトリ
エチルアミン0.175rR1(1,26mmol)を
水冷下順次加えた。室温で1時間撹拌後、モルホリン3
4.4J11(0,395mmol)を加えた。
室温で1日撹拌後、(S)−ヒスチジンメチルエステル
ニ塩酸塩93.0 mg(0,434mmol)とトリ
エチルアミン0.220m1.(1,58mmol)を
加えさらに1日撹拌した。参考例8と同様の後処理によ
り、N−((R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−
(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオニル)
−(S)−ヒスチジンメチルエステル28.7mg(収
率15%)を無色カラメルとして得た。
ニ塩酸塩93.0 mg(0,434mmol)とトリ
エチルアミン0.220m1.(1,58mmol)を
加えさらに1日撹拌した。参考例8と同様の後処理によ
り、N−((R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−
(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオニル)
−(S)−ヒスチジンメチルエステル28.7mg(収
率15%)を無色カラメルとして得た。
物性値は参考例8のサンプルと一致した。
実施例 6
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸(75
%ee)1.51 g (5,87mrnol)に塩化
チニオル3.43 g (28,8mmol)とDMF
43d (0,59mmol)を加えて80℃で1.
5時間撹拌した。減圧で過剰の反応剤を留去し、粗製の
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロ
リドを得た。このものにジクロロメタン14.7mlを
加えて溶かし、p−ニトロフェノール1.72g(12
,4mmol)を加えた。水冷下、トリエチルアミン3
.OOmj (21,5mmol)を加え0℃で10分
、室温で30分撹拌後、水冷下、モルホリン0.511
mN (5,87mmol)を加え0〜10℃で3時間
撹拌した。IN塩酸15−を加えて反応を停止し、酢酸
エチル150 mlで抽出した。飽和食塩水、炭酸水素
ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して粗製の(
R)=2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン
−4−イル−カルボニル)フロピオン酸p−ニトロフェ
ニル3.59gを得た。一部(1,82g)をヘキサン
:酢酸エチル(1: 1)から結晶化し、純品を0.5
75g(収率43%)得た。このものの光学純度は、一
部をメタノール中炭酸カリウムで処理してメチルエステ
ルに変換後、光学活性カラムによる)IPL[’分析に
よって98%eeであることが判明した。一方、粗製の
(R) −2−(1−ナフチルメチル”)−3−(モル
ホリン4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロ
フェニル0.441 gをシリカゲルカラムで分離精製
すると純品が0.276 g (収率85%)得られた
。このものの光学純度は先と同様にメチルエステルに交
換後光学活性カラムによるHPLC分析により70%e
eであった。残りの粗製(R) −2−(1−ナフチル
メチル)−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)
プロピオン酸p−ニトロフェニル1.33gに(S)−
ヒスチジンメチルエステルニ塩酸塩0.513 g (
2,40mmol)、DMF 2.2mlよびトリエチ
ルアミン0.668m1(4,80mmol)を加え、
40℃で31時間撹拌した。減圧で溶媒を留去後、酢酸
エチル15dを加えて不溶物をろ過した。ろ液を食塩水
で洗浄後、0.5N−塩酸10mNX3で逆抽出した。
%ee)1.51 g (5,87mrnol)に塩化
チニオル3.43 g (28,8mmol)とDMF
43d (0,59mmol)を加えて80℃で1.
5時間撹拌した。減圧で過剰の反応剤を留去し、粗製の
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロ
リドを得た。このものにジクロロメタン14.7mlを
加えて溶かし、p−ニトロフェノール1.72g(12
,4mmol)を加えた。水冷下、トリエチルアミン3
.OOmj (21,5mmol)を加え0℃で10分
、室温で30分撹拌後、水冷下、モルホリン0.511
mN (5,87mmol)を加え0〜10℃で3時間
撹拌した。IN塩酸15−を加えて反応を停止し、酢酸
エチル150 mlで抽出した。飽和食塩水、炭酸水素
ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して粗製の(
R)=2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン
−4−イル−カルボニル)フロピオン酸p−ニトロフェ
ニル3.59gを得た。一部(1,82g)をヘキサン
:酢酸エチル(1: 1)から結晶化し、純品を0.5
75g(収率43%)得た。このものの光学純度は、一
部をメタノール中炭酸カリウムで処理してメチルエステ
ルに変換後、光学活性カラムによる)IPL[’分析に
よって98%eeであることが判明した。一方、粗製の
(R) −2−(1−ナフチルメチル”)−3−(モル
ホリン4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−ニトロ
フェニル0.441 gをシリカゲルカラムで分離精製
すると純品が0.276 g (収率85%)得られた
。このものの光学純度は先と同様にメチルエステルに交
換後光学活性カラムによるHPLC分析により70%e
eであった。残りの粗製(R) −2−(1−ナフチル
メチル)−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)
プロピオン酸p−ニトロフェニル1.33gに(S)−
ヒスチジンメチルエステルニ塩酸塩0.513 g (
2,40mmol)、DMF 2.2mlよびトリエチ
ルアミン0.668m1(4,80mmol)を加え、
40℃で31時間撹拌した。減圧で溶媒を留去後、酢酸
エチル15dを加えて不溶物をろ過した。ろ液を食塩水
で洗浄後、0.5N−塩酸10mNX3で逆抽出した。
水層を酢酸エチル20mj2で洗浄後炭酸ナトリウム水
溶液でpH8にした。クロロホルム10mj2x4で有
機物を抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して粗製のN−(
(R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリ
ン−4−イル−カルボニル)プロピオニル]−(S)−
ヒスチジンメチルエステル1.09gを得た。水晶の一
部(0,178g)をシリカゲルカラム(ジクロロメタ
ン:メタノール1:0〜20:1)で精製し純品0.1
35 g (収率79%。
溶液でpH8にした。クロロホルム10mj2x4で有
機物を抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して粗製のN−(
(R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリ
ン−4−イル−カルボニル)プロピオニル]−(S)−
ヒスチジンメチルエステル1.09gを得た。水晶の一
部(0,178g)をシリカゲルカラム(ジクロロメタ
ン:メタノール1:0〜20:1)で精製し純品0.1
35 g (収率79%。
70%ee)を無色カラメルとしてえた。残りの粗製の
N−[:(R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(
モルホリン−4−1ルーカルボニル)プロピオニルE−
(S)−ヒスチジンメチルエステル0.916gにサリ
チル酸0.264 g(1,91mmol)を加え、酢
酸エチル2.5n+1に加熱溶解後放冷した。析出結晶
をろ取して、N−((R)−2−(1−ナフチルメチル
)−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピ
オニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステルサリチル
酸塩0.708 g (収率63%)を無色結晶として
得た。このものに酢酸エチル20mj!、炭酸水素す)
IJウム水溶液16dを加えて撹拌し、分液後有機層
を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去して、N−((R)−2−(1−ナフチ
ルメチル) −3−(モルホリン−4−イル−カルボニ
ル)プロピオニル〕−(S)−ヒスチジンメチルエステ
ル0.538 g (収率98%、84%de)を無色
カラメルとして得た。
N−[:(R)−2−(1−ナフチルメチル)−3−(
モルホリン−4−1ルーカルボニル)プロピオニルE−
(S)−ヒスチジンメチルエステル0.916gにサリ
チル酸0.264 g(1,91mmol)を加え、酢
酸エチル2.5n+1に加熱溶解後放冷した。析出結晶
をろ取して、N−((R)−2−(1−ナフチルメチル
)−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピ
オニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステルサリチル
酸塩0.708 g (収率63%)を無色結晶として
得た。このものに酢酸エチル20mj!、炭酸水素す)
IJウム水溶液16dを加えて撹拌し、分液後有機層
を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去して、N−((R)−2−(1−ナフチ
ルメチル) −3−(モルホリン−4−イル−カルボニ
ル)プロピオニル〕−(S)−ヒスチジンメチルエステ
ル0.538 g (収率98%、84%de)を無色
カラメルとして得た。
物性値は参考例8のサンプルと一致した。
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.2
89 g(1,12mmol)に塩化チオニル0.49
0m1(6,72mmol)およびDMF 8.7ul
(0,11mmol)を加え80℃で4時間撹拌後、過
剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(R) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを得た。このもの
にジクロロメタン2ff!!を加えて溶かし、水冷下p
−クロロフェノール0.317 g(1,23mmol
)のジクロロメタン溶液2mlを加えた。
89 g(1,12mmol)に塩化チオニル0.49
0m1(6,72mmol)およびDMF 8.7ul
(0,11mmol)を加え80℃で4時間撹拌後、過
剰の反応剤を減圧留去し、粗製の(R) −2−(1−
ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドを得た。このもの
にジクロロメタン2ff!!を加えて溶かし、水冷下p
−クロロフェノール0.317 g(1,23mmol
)のジクロロメタン溶液2mlを加えた。
さらにトリエチルアミン0.590mg (4,24m
rnol)を加えた後、室温で一夜撹拌した。エーテル
および水を加えて分液し、有機層をIN−塩酸、飽和食
塩水、飽和炭酸水素ナリトウム、水、飽和食塩水で順次
洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:エーテル:
ジクロロメタン=30:l:1)で精製し、(R)−2
−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジーp−クロロフェ
ニル0.452 g (収率84%)を無色結晶として
得た。
rnol)を加えた後、室温で一夜撹拌した。エーテル
および水を加えて分液し、有機層をIN−塩酸、飽和食
塩水、飽和炭酸水素ナリトウム、水、飽和食塩水で順次
洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン:エーテル:
ジクロロメタン=30:l:1)で精製し、(R)−2
−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジーp−クロロフェ
ニル0.452 g (収率84%)を無色結晶として
得た。
融 点 = 136〜137℃
IR(にBr): 1761.1491. 1373
. 1205.116B。
. 1205.116B。
1130、 1090. 1014. 790. 78
8゜510 C「I H−NMR(CDC13) δ: 2.79(1)1. dd、 J=4.4.1
6.9)1z、 CH2C0Nの一方>、 3.12
(IH,dd、 J=8.4゜16.9H2,CH2
C0Nの一方)、 3.26〜3.86(3H,m、
ArCH2Cf1)、 6.77〜8.19(15f
t。
8゜510 C「I H−NMR(CDC13) δ: 2.79(1)1. dd、 J=4.4.1
6.9)1z、 CH2C0Nの一方>、 3.12
(IH,dd、 J=8.4゜16.9H2,CH2
C0Nの一方)、 3.26〜3.86(3H,m、
ArCH2Cf1)、 6.77〜8.19(15f
t。
m、 八romatic)
Mass m/e; 478.480 (M”)、
351.353 (MCICI1840)、 223 〔α)+21.1° (C1,49,cHct、)元素
分析値’ (C27H2GC1204として)計算値
C; 67.65. H,4,21,C1,14,
79%分析値 C; 67.74. H: 4.11
. ct; 14.61%実施例 8 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジーP
−りooフェニル0.137 g (0,286mmo
l)を[3MF 0.29meに溶かし、モルホリン2
7.4.J(0,315mmol)を加えた。40℃で
17時間撹拌後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタン=8
: 2 : 1〜10:10:1)で分離精製し、(R
) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン
−4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−クロロフェ
ニル0.112g(収率89%)を無色力ラメルとして
得た。
351.353 (MCICI1840)、 223 〔α)+21.1° (C1,49,cHct、)元素
分析値’ (C27H2GC1204として)計算値
C; 67.65. H,4,21,C1,14,
79%分析値 C; 67.74. H: 4.11
. ct; 14.61%実施例 8 (R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸ジーP
−りooフェニル0.137 g (0,286mmo
l)を[3MF 0.29meに溶かし、モルホリン2
7.4.J(0,315mmol)を加えた。40℃で
17時間撹拌後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタン=8
: 2 : 1〜10:10:1)で分離精製し、(R
) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン
−4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−クロロフェ
ニル0.112g(収率89%)を無色力ラメルとして
得た。
IR(C)IC1,): 1751. 1639.14
87.1436.1189゜1140、 1112.1
082.1013゜502 (m−1 H−NMR(CDCl2) δ: 2.52(IH,dd、 J=4.6.16.
5Hz、 CH2C0Nの一方)、 2.82(IH
,dd、 J・7.5゜16゜5Hz、 CH2C
0Nの一方)、 3.20〜3.80(IIH,m、
モルホリン、^rCH2Cfl)。
87.1436.1189゜1140、 1112.1
082.1013゜502 (m−1 H−NMR(CDCl2) δ: 2.52(IH,dd、 J=4.6.16.
5Hz、 CH2C0Nの一方)、 2.82(IH
,dd、 J・7.5゜16゜5Hz、 CH2C
0Nの一方)、 3.20〜3.80(IIH,m、
モルホリン、^rCH2Cfl)。
6.7〜8.2(IIH,m、 Aromatic)M
ass m/e; 310 (M−CIC,)IaO
)、 223.205゜〔α) + 62.1”
(C1,66、CHCl3)参考例 10 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−クロロフ
ェニル77、1mg(0,176mmol)をメタノー
ル0.7−に溶かし、IN−水酸化ナトリウム0.35
mNを水冷下加えた。室温で17時間撹拌後2N−水酸
化ナトリウム0.20rn1を加えた。3時間後IN−
塩酸1mlを加えた参考例7と同様の後処理により(R
) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン
−4−イル−カルボニル)プロピオン酸56.7mg(
収率99%〉を無色カラメルとして得た。
ass m/e; 310 (M−CIC,)IaO
)、 223.205゜〔α) + 62.1”
(C1,66、CHCl3)参考例 10 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン4−イル−カルボニル)プロピオン酸p−クロロフ
ェニル77、1mg(0,176mmol)をメタノー
ル0.7−に溶かし、IN−水酸化ナトリウム0.35
mNを水冷下加えた。室温で17時間撹拌後2N−水酸
化ナトリウム0.20rn1を加えた。3時間後IN−
塩酸1mlを加えた参考例7と同様の後処理により(R
) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン
−4−イル−カルボニル)プロピオン酸56.7mg(
収率99%〉を無色カラメルとして得た。
物性は参考例7で得たサンプルと一致した。
実施例 9
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コノ1り酸0.
102g(0,395mmol)に塩化チオニル0.2
30rBl(3,16mmol)およびDMF 3d(
0,039mmol)を加えて80℃で2時間撹拌した
。過剰の反応剤を減圧留去して (R)−2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸ジクロリドを得た。このものを
ジクロロメタン0.8mNに溶かし、2.4−ジクロロ
フェノール0.135 g (0,830mmol)お
よびトリエチルアミ’/ 0.200m5 (1,44
mmol)を加えた。ジクロロメタン1.5mlを加え
て1時間室温で撹拌後、モルホリン34.4Al(0,
395mmol)を氷冷下加えた。室温で4日間撹拌機
酢酸エチルと水を加えて分液し、有機層を炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカ
ゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタン=
8 : 2 : 1〜7:3:0)で分離精製し、(R
) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン
−4−イル−カルボニル)プロピオン酸2,4−ジクロ
ロフェニル0.140 g (収率75%)を無色結晶
として得た。
102g(0,395mmol)に塩化チオニル0.2
30rBl(3,16mmol)およびDMF 3d(
0,039mmol)を加えて80℃で2時間撹拌した
。過剰の反応剤を減圧留去して (R)−2−(1−ナ
フチルメチル)コハク酸ジクロリドを得た。このものを
ジクロロメタン0.8mNに溶かし、2.4−ジクロロ
フェノール0.135 g (0,830mmol)お
よびトリエチルアミ’/ 0.200m5 (1,44
mmol)を加えた。ジクロロメタン1.5mlを加え
て1時間室温で撹拌後、モルホリン34.4Al(0,
395mmol)を氷冷下加えた。室温で4日間撹拌機
酢酸エチルと水を加えて分液し、有機層を炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカ
ゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタン=
8 : 2 : 1〜7:3:0)で分離精製し、(R
) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホリン
−4−イル−カルボニル)プロピオン酸2,4−ジクロ
ロフェニル0.140 g (収率75%)を無色結晶
として得た。
融 点= 113〜115℃
IR(CHCl3): 3020. 2870. 17
61. 1640. 1475゜1438、 1275
. 1230. 1210. 1130゜1113、1
098.960.852 cm−’)1−Null?
(CDl”l、)δ: 2.46(1)1. d
d、 J=4.4. 16.3)1z、 CH2C0
Nの一方)、 2.84(l)l、 dd、 J
=8.0゜16.3)+2. CH2C0N(D 一
方)、 3.20〜4.08(11N、 m、 モ
ルホリン、 ArCH2CH)。
61. 1640. 1475゜1438、 1275
. 1230. 1210. 1130゜1113、1
098.960.852 cm−’)1−Null?
(CDl”l、)δ: 2.46(1)1. d
d、 J=4.4. 16.3)1z、 CH2C0
Nの一方)、 2.84(l)l、 dd、 J
=8.0゜16.3)+2. CH2C0N(D 一
方)、 3.20〜4.08(11N、 m、 モ
ルホリン、 ArCH2CH)。
6.98〜8.27(IOH,m、 Aromati
c)Mass m/e: 320 (M−CH2
C0N[))、 24(1,223〔α〕−2,2°
(C1,53,CHCl3)元素分析値: (C2
S)123C12NO,トLr)計算値C’、63.5
7. )I;4.91. N、2.97. Cl;15
.01%分析値C;63.71. tl;4,94.
N;2.90. C1;15.04%参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸2.4−゛
ジクロロ7s 二/に60.2 mg(0,127mm
ol) isよび(S)−ヒスチジンメチルエステルニ
塩酸塩30.0 mg(0,140mmol)をOMF
0.13m1に溶かし、トリエチルアミン39AI2
(0,28mmol)を加えた。40tで2日間、50
℃で1日撹拌後、溶媒を減圧留去した。残渣に内酸水素
ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液し、有機層
を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラム(
ジクロロメタン:メタノール=1:0〜20:l)で分
離精製し、N−[:(R)−2(1−ナフチルメチル)
−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオ
ニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステル56.2m
g(収率92%)を無色カラメルとして得た。
c)Mass m/e: 320 (M−CH2
C0N[))、 24(1,223〔α〕−2,2°
(C1,53,CHCl3)元素分析値: (C2
S)123C12NO,トLr)計算値C’、63.5
7. )I;4.91. N、2.97. Cl;15
.01%分析値C;63.71. tl;4,94.
N;2.90. C1;15.04%参考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸2.4−゛
ジクロロ7s 二/に60.2 mg(0,127mm
ol) isよび(S)−ヒスチジンメチルエステルニ
塩酸塩30.0 mg(0,140mmol)をOMF
0.13m1に溶かし、トリエチルアミン39AI2
(0,28mmol)を加えた。40tで2日間、50
℃で1日撹拌後、溶媒を減圧留去した。残渣に内酸水素
ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液し、有機層
を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラム(
ジクロロメタン:メタノール=1:0〜20:l)で分
離精製し、N−[:(R)−2(1−ナフチルメチル)
−3−(モルホリン−4−イル−カルボニル)プロピオ
ニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステル56.2m
g(収率92%)を無色カラメルとして得た。
物性値は参考例8で得たサンプルと一致した。
実施例
(R) −2−(1−ナフチルメチル)コハク酸0.1
04g(0,399mmol)に塩化チオニル0.23
4m1(3,19mmol)およびDMF 3m(0,
039mmol)を−加えて80℃で2時間撹拌した。
04g(0,399mmol)に塩化チオニル0.23
4m1(3,19mmol)およびDMF 3m(0,
039mmol)を−加えて80℃で2時間撹拌した。
過剰の反応剤を減圧留去して得られた(R) −2−(
1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドをジクロロメ
タン0.8−に溶かし、2,4.6−)ジクロロフェノ
ール0.165 g (0,838mmol)およびト
リエチルアミン0.165mj(1,2mmol)を氷
冷下加えた。ジクロロメタン1.5rnlを加えて室温
で1時間撹拌後、モルホリン34. Ld2(0,39
9mmol)を氷冷下加えた。室温で4日間撹拌後、酢
酸エチルと水を加えて分液した。有機層を炭酸水素す)
IJウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣
をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロ
メタン=9:1:1〜17:3:O)で分離精製し、(
R) −2−(1−ナフチルメチル) −3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)フロピオン!2.4.6
トリクロロフエニル0.164 g (収率81%)を
無色カラメルとして得た。
1−ナフチルメチル)コハク酸ジクロリドをジクロロメ
タン0.8−に溶かし、2,4.6−)ジクロロフェノ
ール0.165 g (0,838mmol)およびト
リエチルアミン0.165mj(1,2mmol)を氷
冷下加えた。ジクロロメタン1.5rnlを加えて室温
で1時間撹拌後、モルホリン34. Ld2(0,39
9mmol)を氷冷下加えた。室温で4日間撹拌後、酢
酸エチルと水を加えて分液した。有機層を炭酸水素す)
IJウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣
をシリカゲルカラム(ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロ
メタン=9:1:1〜17:3:O)で分離精製し、(
R) −2−(1−ナフチルメチル) −3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)フロピオン!2.4.6
トリクロロフエニル0.164 g (収率81%)を
無色カラメルとして得た。
IR(C)IC1,): 1770.1642.156
5.1440.1273゜1230、 1113. 1
080. 858 cm ’H−NMR(CDCl2) δ: 2.41(IN、 dd、 J=5.1
. 16.0)1z、 CM、CONの一方)、
2.88(IH,dd、 J=6.7゜16.0)1
z、 C1l、CONの一方)、 3.27〜4.
06(11N、 m、 モルホリン、 ArC)lz
CH)。
5.1440.1273゜1230、 1113. 1
080. 858 cm ’H−NMR(CDCl2) δ: 2.41(IN、 dd、 J=5.1
. 16.0)1z、 CM、CONの一方)、
2.88(IH,dd、 J=6.7゜16.0)1
z、 C1l、CONの一方)、 3.27〜4.
06(11N、 m、 モルホリン、 ArC)lz
CH)。
7.37(2H,s、 C6H2CL)、 7.4
0〜8J1(7H,tn、 ナフチル) Mass m/e; 507 (M”)、 310
(M−C1+)12CI3)”。
0〜8J1(7H,tn、 ナフチル) Mass m/e; 507 (M”)、 310
(M−C1+)12CI3)”。
307、281
〔α)−40,6° (C1,34,CllCl、)参
考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸2.4.6
−)リフo o フs ニル73.3 mg(0,14
5mmol)および(S)−ヒスチジンメチルエステル
ニ塩酸塩34.2 mg(0,160mmol)を参考
例8と同様に処理してN−((R)−2−(1−ナフチ
ルメチル’)−3−(モルホリン−4−イル−カルボニ
ル)フロピオニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステ
ル58.6mg(収率84%)を無色カラメルとして得
た。
考例 (R) −2−(1−ナフチルメチル)−3−(モルホ
リン−4−イル−カルボニル)プロピオン酸2.4.6
−)リフo o フs ニル73.3 mg(0,14
5mmol)および(S)−ヒスチジンメチルエステル
ニ塩酸塩34.2 mg(0,160mmol)を参考
例8と同様に処理してN−((R)−2−(1−ナフチ
ルメチル’)−3−(モルホリン−4−イル−カルボニ
ル)フロピオニル)−(S)−ヒスチジンメチルエステ
ル58.6mg(収率84%)を無色カラメルとして得
た。
物性値は参考例8で得たサンプルと一致した。
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Xはモルホリン−4−イル基あるいは置換アリ
ールオキシ基を表し、Arは置換アリール基を表す。ま
た、式中(R)を記した炭素原子は(R)−配置である
ことを意味する)で表される光学活性(R)−2−(1
−ナフチルメチル)コハク酸誘導体。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Yは塩素、臭素、またはヨウ素原子を表し、(
R)を記した炭素原子は(R)−配置であることを意味
する)で表される(R)−2−(1−ナフチルメチル)
コハク酸ジハロゲン化物を塩基の存在下置換フェノール
類と反応させることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ′) (式中、Arは置換アリール基を表し、(R)を記した
炭素原子は(R)−配置であることを意味する)で表さ
れる光学活性(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸誘導体の製造方法。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ′) (式中、Arは置換アリール基を表し、(R)を記した
炭素原子は(R)−配置であることを意味する)で表さ
れる光学活性(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸誘導体をモルホリンと反応させることを特徴とする
、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ″) (式中、Arは置換アリール基を表し、(R)を記した
炭素原子は(R)−配置であることを意味する)で表さ
れる光学活性(R)−2−(1−ナフチルメチル)コハ
ク酸誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63218946A JPH0819114B2 (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 光学活性(r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63218946A JPH0819114B2 (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 光学活性(r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0267277A true JPH0267277A (ja) | 1990-03-07 |
| JPH0819114B2 JPH0819114B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=16727810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63218946A Expired - Lifetime JPH0819114B2 (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 光学活性(r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819114B2 (ja) |
-
1988
- 1988-09-01 JP JP63218946A patent/JPH0819114B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0819114B2 (ja) | 1996-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2268586A1 (en) | Process for producing n-glycyltyrosine and its crystal structure | |
| CN111892526A (zh) | 一种布瓦西坦的新制备方法 | |
| JPH0267277A (ja) | 光学活性(r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方法 | |
| JP3489319B2 (ja) | カルボン酸誘導体、その製造法および用途 | |
| JP3207018B2 (ja) | ベンジルコハク酸誘導体の製造方法およびその製造中間体 | |
| JPH0267243A (ja) | (r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸誘導体およびその製造方法 | |
| WO1991003460A1 (en) | New route of synthesis for tertiary alkyl esters | |
| JPH02111741A (ja) | 光学活性2−(1−ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法 | |
| JPH0269465A (ja) | 光学活性n−アシルヒスチジン誘導体の製造方法 | |
| JP3193597B2 (ja) | グリシン誘導体の製造方法 | |
| CN113943240A (zh) | 一种布瓦西坦的新制备方法 | |
| JPH02193941A (ja) | (s)―2―(1―ナフチルメチル)コハク酸のラセミ化法 | |
| JPH02157243A (ja) | 光学活性(r)−2−(1−ナフチルメチル)コハク酸の製造方法 | |
| JP2700943B2 (ja) | 光学活性な4―モルホリノ―2―(1―ナフチルメチル)―4―オキソ酪酸2’―ヒドロキシ―1,1’―ビナフタレン―2―イル及びその製造方法 | |
| JPH05279305A (ja) | 3′−アミノ−2′−ヒドロキシアセトフェノンの製造方法 | |
| FI64136C (fi) | Foerfarande foer framstaellning av d-2-(6-metoxi-2-naftyl)-propionsyra | |
| CN110256438B (zh) | 一种阿可替尼的制备方法 | |
| JPH0812658A (ja) | シドノン類の製造法 | |
| JPS61158962A (ja) | 1,4−ジヒドロピリジン誘導体の製造法 | |
| CN115197115A (zh) | 一种手性5-氧代吡咯烷-3-甲酸的制备方法与应用 | |
| JPH06741B2 (ja) | インド−ル類の製造方法 | |
| JPS60197644A (ja) | 2―メチルアミノ―1―プロパノール誘導体の製造法 | |
| JPH0368571A (ja) | N―置換2、4、6―トリイミノトリアジン誘導体の製造方法 | |
| JPH053866B2 (ja) | ||
| JPS6058909B2 (ja) | プロピオン酸誘導体およびその製法 |