JPH02115741A - ガスセンサ装置 - Google Patents
ガスセンサ装置Info
- Publication number
- JPH02115741A JPH02115741A JP26892088A JP26892088A JPH02115741A JP H02115741 A JPH02115741 A JP H02115741A JP 26892088 A JP26892088 A JP 26892088A JP 26892088 A JP26892088 A JP 26892088A JP H02115741 A JPH02115741 A JP H02115741A
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- JP
- Japan
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- gas
- sensor
- calibration
- signal
- gas sensor
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- Pending
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明はガスセンサ装置に係り、特にオフセット等の調
整を自動的に行なうことを可能にしたガスセンサ装置に
関する。
整を自動的に行なうことを可能にしたガスセンサ装置に
関する。
［従来の技術］
ガスセンサには様々な方式のものが存在し、それらの殆
どは、ガス検知特性の経時的な変化に対する定期的な校
正を必要としている。この校正では、従来、定期的に作
業員が標準ガスをセンサに対して供給し、人手により０
点の調整を行なうようにしている。
どは、ガス検知特性の経時的な変化に対する定期的な校
正を必要としている。この校正では、従来、定期的に作
業員が標準ガスをセンサに対して供給し、人手により０
点の調整を行なうようにしている。
［発明が解決しようとする課題］
従来のガスセンサ装置ではこの校正の際に一旦サンプリ
ングを中止して標準ガスを用いて作業員の手作業で０点
（オフセット）の調整を行なうため、手間がかかる。特
に、−度に多数のセンサを調整する場合には、校正作業
に要する時間は極めて長いものとなる。
ングを中止して標準ガスを用いて作業員の手作業で０点
（オフセット）の調整を行なうため、手間がかかる。特
に、−度に多数のセンサを調整する場合には、校正作業
に要する時間は極めて長いものとなる。
本発明は校正作業を自動的に行ない、ガスセンサでの安
定した高精度なガス濃度計測を容易に行なうことが可能
なガスセンサ装置を提供することを目的とする。
定した高精度なガス濃度計測を容易に行なうことが可能
なガスセンサ装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明のガスセンサ装置は、ガスサンプリング管と、該
ガスサンプリング管に設けられたセンサと、該センサの
信号を処理して濃度信号を出力する信号処理器とを有す
るガスセンサ装置において、センサよりも上流側のガス
サンプリング管に接続された校正ガス導入管と、ガスサ
ンプリング管と校正ガス導入管とを択一的に選択してセ
ンサにガスを流す流路選択手段と、校正ガス導入管から
校正ガスがセンサに導入されているときに信号処理器の
校正を行う手段とを設けたことを特徴とするものである
。
ガスサンプリング管に設けられたセンサと、該センサの
信号を処理して濃度信号を出力する信号処理器とを有す
るガスセンサ装置において、センサよりも上流側のガス
サンプリング管に接続された校正ガス導入管と、ガスサ
ンプリング管と校正ガス導入管とを択一的に選択してセ
ンサにガスを流す流路選択手段と、校正ガス導入管から
校正ガスがセンサに導入されているときに信号処理器の
校正を行う手段とを設けたことを特徴とするものである
。
［作用］
本発明のガスセンサ装置では、サンプリング管より導入
したガス（被検ガス）がセンサと接触することにより、
例えばセンサのインピーダンスが変化する。このセンサ
信号は信号処理器を経て出力される。
したガス（被検ガス）がセンサと接触することにより、
例えばセンサのインピーダンスが変化する。このセンサ
信号は信号処理器を経て出力される。
本発明装置において校正を行なう場合には、例えば以下
の方法により行なう。
の方法により行なう。
まず、連続的に被検ガス中の目的成分濃度を計測してい
るガスセンサ装置において、前回校正終了時より一定時
間後に校正タイミング信号が出力され、その信号に基づ
きサンプリング管からガスセンサへの被検ガスの導入が
中断されると同時に校正ガス導入管より校正ガスがガス
センサへ供給される。
るガスセンサ装置において、前回校正終了時より一定時
間後に校正タイミング信号が出力され、その信号に基づ
きサンプリング管からガスセンサへの被検ガスの導入が
中断されると同時に校正ガス導入管より校正ガスがガス
センサへ供給される。
信号処理器では、ガスセンサの出力信号の状態を監視し
、状態が安定した時点でセンサからの信号を０点（オフ
セット）信号として記憶する。その後、被検気体の導入
を再開し、通常の計測を行なう、そして、記憶したオフ
セットによりガスセンサからの信号を補正し、それを用
いて濃度信号を出力する。
、状態が安定した時点でセンサからの信号を０点（オフ
セット）信号として記憶する。その後、被検気体の導入
を再開し、通常の計測を行なう、そして、記憶したオフ
セットによりガスセンサからの信号を補正し、それを用
いて濃度信号を出力する。
［実施例］
以下本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第１図は、本発明のガスセンサ装置の構成図である。
本実施例装置はセンサ部１と信号処理器２とより構成さ
れている。センサ部１は吸引ポンプ３を有しており、こ
の吸引ポンプ３は被検ガスをガスサンプリング管４より
半導体ガスセンサ５へ導入し、サンプリングガス吸着ユ
ニット１０を通して系外に放出させるよう構成されてい
る。
れている。センサ部１は吸引ポンプ３を有しており、こ
の吸引ポンプ３は被検ガスをガスサンプリング管４より
半導体ガスセンサ５へ導入し、サンプリングガス吸着ユ
ニット１０を通して系外に放出させるよう構成されてい
る。
ガスサンプリング管４には開、閉の２動作を行なう電磁
弁６が設けられている。この電磁弁６と半導体ガスセン
サ５の間には三方に分岐した導入管７が設けられていて
、三方の端部は電磁弁６と半導体センサ５に接続されて
おり、残りの１つの端部には校正ガス導入管８が電磁弁
９を介して接続されている。電磁弁６又は電磁弁９の開
閉の選択により半導体センサ５には被検ガスまたは校正
ガスが導入される。この校正ガスは、本実施例では目的
ガス成分濃度が０の清浄ガスが用いられている。サンプ
リングガス吸着ユニット１０には被検ガスに適合する吸
着剤が充填されており、計測後のガスを吸着処理した後
、系外に放出することが可能である。
弁６が設けられている。この電磁弁６と半導体ガスセン
サ５の間には三方に分岐した導入管７が設けられていて
、三方の端部は電磁弁６と半導体センサ５に接続されて
おり、残りの１つの端部には校正ガス導入管８が電磁弁
９を介して接続されている。電磁弁６又は電磁弁９の開
閉の選択により半導体センサ５には被検ガスまたは校正
ガスが導入される。この校正ガスは、本実施例では目的
ガス成分濃度が０の清浄ガスが用いられている。サンプ
リングガス吸着ユニット１０には被検ガスに適合する吸
着剤が充填されており、計測後のガスを吸着処理した後
、系外に放出することが可能である。
次に信号処理器２について説明する。半導体ガスセンサ
５から信号処理器２に人力された信号は、増幅部１１．
Ａ／Ｄ信号変換部１２．演算部１３における処理を経て
濃度信号として出力される。増幅部１１で増幅された信
号はＡ／Ｄ信号変換部１２でディジタル信号に変換され
た後、演算部１３に入力される。マイクロコンピュータ
を内蔵した演算部１３は入力された信号を濃度信号に変
換して出力する。演算部１３は、オフセット値の記憶機
能及び検出濃度値をこのオフセット値で補正する機能の
ほかに、計測時間を積算し、設定された定時間毎に校正
タイミング信号を出力する機能を有している。この校正
タイミング信号は、切換制御部１４に入力され、ここで
ガスサンプリング管４の電磁弁６と校正ガス導入管８の
電磁弁９へ作動信号を出力する。この２者の電磁弁の作
動信号は択一的であり、一方の弁が「開」となる時、他
方は「閉」となる。
５から信号処理器２に人力された信号は、増幅部１１．
Ａ／Ｄ信号変換部１２．演算部１３における処理を経て
濃度信号として出力される。増幅部１１で増幅された信
号はＡ／Ｄ信号変換部１２でディジタル信号に変換され
た後、演算部１３に入力される。マイクロコンピュータ
を内蔵した演算部１３は入力された信号を濃度信号に変
換して出力する。演算部１３は、オフセット値の記憶機
能及び検出濃度値をこのオフセット値で補正する機能の
ほかに、計測時間を積算し、設定された定時間毎に校正
タイミング信号を出力する機能を有している。この校正
タイミング信号は、切換制御部１４に入力され、ここで
ガスサンプリング管４の電磁弁６と校正ガス導入管８の
電磁弁９へ作動信号を出力する。この２者の電磁弁の作
動信号は択一的であり、一方の弁が「開」となる時、他
方は「閉」となる。
また、演算部１３はオフセット部から人力される信号の
状態を観察し、変化の安定性を検出する機能を有してい
て校正時に作動する０校正時において、校正ガスの継続
的な導入に伴いセンサ出力値が徐々に安定する０校正ガ
スを流してセンサ５の出力が安定した時点での信号がオ
フセット値として記憶される。その後、校正開始時とは
逆に電磁弁６．９を作動させる。
状態を観察し、変化の安定性を検出する機能を有してい
て校正時に作動する０校正時において、校正ガスの継続
的な導入に伴いセンサ出力値が徐々に安定する０校正ガ
スを流してセンサ５の出力が安定した時点での信号がオ
フセット値として記憶される。その後、校正開始時とは
逆に電磁弁６．９を作動させる。
このようなガスセンサ装置の作動パターンは第２図に示
すようなフローチャートのようになる。
すようなフローチャートのようになる。
まず装置全体が始動し、計測を行なう。ここでは、入力
されるガスセンサからの信号が増幅され、Ａ／Ｄ変換さ
れたのち演算部１３に人力され、入力された信号レベル
を連続計測し、記憶したオフセットで補正し、ガス濃度
として出力する。
されるガスセンサからの信号が増幅され、Ａ／Ｄ変換さ
れたのち演算部１３に人力され、入力された信号レベル
を連続計測し、記憶したオフセットで補正し、ガス濃度
として出力する。
この連続した計測時間が演算部１３に設定された設定時
間になると、校正タイミング信号が演算部１３より出力
され、切換制御部１４により電磁弁６を閉、電磁弁９を
開にする。そのためサンプリングガスの吸引が打ち切ら
れ、校正ガス（例えば純ガス等）が半導体ガスセンサ５
に供給される。このように経路が選択されることにより
校正が開始されることになる０校正時に出力される半導
体ガスセンサ５からの信号は増幅され、演算部へ人力さ
れる。そして、入力信号が一定時間安定したことを確認
し、この時の値を０点（オフセット）の値として演算部
１３は記憶する。それと同時に、校正タイミング信号の
出力を中止して、切換制御部１４は校正ガスの電磁弁９
を閉じ、サンプリング管の電磁弁６を開ける。このよう
に経路を選択することにより、被検ガスの計測を再開す
る。これをくりかえすことにより、本発明のガスセンサ
装置は計測を続ける。
間になると、校正タイミング信号が演算部１３より出力
され、切換制御部１４により電磁弁６を閉、電磁弁９を
開にする。そのためサンプリングガスの吸引が打ち切ら
れ、校正ガス（例えば純ガス等）が半導体ガスセンサ５
に供給される。このように経路が選択されることにより
校正が開始されることになる０校正時に出力される半導
体ガスセンサ５からの信号は増幅され、演算部へ人力さ
れる。そして、入力信号が一定時間安定したことを確認
し、この時の値を０点（オフセット）の値として演算部
１３は記憶する。それと同時に、校正タイミング信号の
出力を中止して、切換制御部１４は校正ガスの電磁弁９
を閉じ、サンプリング管の電磁弁６を開ける。このよう
に経路を選択することにより、被検ガスの計測を再開す
る。これをくりかえすことにより、本発明のガスセンサ
装置は計測を続ける。
本実施例装置においては、三方電磁弁を２つ必要として
いるが、三方弁を用いても良い。
いるが、三方弁を用いても良い。
［発明の効果］
以上詳述したように本発明のガスセンサ装置は、計測１
校正の切換えを自動的に行なうことが可能であり、高精
度なガス濃度計測を著しく容易に行なうことが可能であ
る。
校正の切換えを自動的に行なうことが可能であり、高精
度なガス濃度計測を著しく容易に行なうことが可能であ
る。
第１図は本発明のガスセンサ装置の一実施例装置に係る
ブロック図、第２図は作動を示すフローチャート図であ
る。 ２・・・信号処理器、 ４・・・ガスサンプリング管、
５・・・半導体ガスセンサ、 ６．９・・・１！磁弁
、８・・・校正ガス導入管、 １３・・・演算部、
１４・・・切換制御部。 第２図 代理人 弁理士 重 野 剛
ブロック図、第２図は作動を示すフローチャート図であ
る。 ２・・・信号処理器、 ４・・・ガスサンプリング管、
５・・・半導体ガスセンサ、 ６．９・・・１！磁弁
、８・・・校正ガス導入管、 １３・・・演算部、
１４・・・切換制御部。 第２図 代理人 弁理士 重 野 剛
Claims (1)
- （１）ガスサンプリング管と、該ガスサンプリング管に
設けられたセンサと、該センサの信号を処理して濃度信
号を出力する信号処理器とを有するガスセンサ装置にお
いて、センサよりも上流側のガスサンプリング管に接続
された校正ガス導入管と、ガスサンプリング管と校正ガ
ス導入管とを択一的に選択してセンサにガスを流す流路
選択手段と、校正ガス導入管から校正ガスがセンサに導
入されているときに信号処理器の校正を行う手段とを設
けたことを特徴とするガスセンサ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26892088A JPH02115741A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | ガスセンサ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26892088A JPH02115741A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | ガスセンサ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02115741A true JPH02115741A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17465114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26892088A Pending JPH02115741A (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | ガスセンサ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02115741A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0587772A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-06 | Shimadzu Corp | 限界電流式酸素濃度測定装置 |
| WO2008051731A1 (en) * | 2006-10-23 | 2008-05-02 | 3M Innovative Properties Company | Testing performance of gas monitors |
| US7497108B2 (en) * | 2006-10-23 | 2009-03-03 | 3M Innovative Properties Company | Gas monitor testing apparatus, method, and system |
| JP2013242274A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Horiba Ltd | 分析計校正システム及び排ガス分析システム |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6324148A (ja) * | 1986-04-21 | 1988-02-01 | エルサグ・インターナショナル・ビー・ブイ | 酸素および可燃物分析器用自動較正および制御装置 |
-
1988
- 1988-10-25 JP JP26892088A patent/JPH02115741A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6324148A (ja) * | 1986-04-21 | 1988-02-01 | エルサグ・インターナショナル・ビー・ブイ | 酸素および可燃物分析器用自動較正および制御装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0587772A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-06 | Shimadzu Corp | 限界電流式酸素濃度測定装置 |
| WO2008051731A1 (en) * | 2006-10-23 | 2008-05-02 | 3M Innovative Properties Company | Testing performance of gas monitors |
| US7497108B2 (en) * | 2006-10-23 | 2009-03-03 | 3M Innovative Properties Company | Gas monitor testing apparatus, method, and system |
| US7805974B2 (en) | 2006-10-23 | 2010-10-05 | 3M Innovative Properties Company | Testing performance of gas monitors |
| JP2013242274A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Horiba Ltd | 分析計校正システム及び排ガス分析システム |
| US9255917B2 (en) | 2012-05-22 | 2016-02-09 | Horiba, Ltd. | Analyzer calibrating system and exhaust gas analyzing system |
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