JPH02120853A - ピンホールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ピンホールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法に
関するものであり、特に印刷製版分野等における感光材
料として用いた場合に明室と呼び得る環境下で取り扱う
ことができるハロゲン化銀写真感光材料に関するもので
ある。
関するものであり、特に印刷製版分野等における感光材
料として用いた場合に明室と呼び得る環境下で取り扱う
ことができるハロゲン化銀写真感光材料に関するもので
ある。
近年印刷製版分野において省力化、合理化作業環境の改
善のため、従来暗室下で行われていたフィルムメーキン
グ、いわゆる返し工程作業を明るい部屋でできるように
するための技術が要求され感光材料やプリンター等の機
器の改良がなされている。
善のため、従来暗室下で行われていたフィルムメーキン
グ、いわゆる返し工程作業を明るい部屋でできるように
するための技術が要求され感光材料やプリンター等の機
器の改良がなされている。
明室取り扱い可能な感光材料としては、紫外光に富む光
源、例えば超高圧水銀灯、メタルハライド光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等などに感光するハロゲン化
銀写真感光材料が挙げられる。これらのハロゲン化銀写
真感光材料は、100〜300ルクスという明るい一般
蛍光灯あるいは、紫外線量の少ない専用の蛍光灯下で取
り扱うことができる。
源、例えば超高圧水銀灯、メタルハライド光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等などに感光するハロゲン化
銀写真感光材料が挙げられる。これらのハロゲン化銀写
真感光材料は、100〜300ルクスという明るい一般
蛍光灯あるいは、紫外線量の少ない専用の蛍光灯下で取
り扱うことができる。
このような利点を有する一方、現像処理後に得られる黒
化画像中にピンホールと言われる故障が発生しやすい欠
点を有していた。
化画像中にピンホールと言われる故障が発生しやすい欠
点を有していた。
ここで言うピンホールとは、黒化画像中に約30μm以
内で白く抜けてしまう現象で、その形状は円形もしくは
不定形で、あたかもビンで刺した穴状にみえることから
、つけられたものである。
内で白く抜けてしまう現象で、その形状は円形もしくは
不定形で、あたかもビンで刺した穴状にみえることから
、つけられたものである。
微少な網点画像からの返し工程用フィルムとしては、フ
ィルム自体に異常黒化部をもっていては、忠実な画像再
現は得られない。そのため発生したピンホールにはオペ
−キング(穴埋め・画像修正作業)で対処しなければな
らず、著るしく作業効率を悪くしていた。
ィルム自体に異常黒化部をもっていては、忠実な画像再
現は得られない。そのため発生したピンホールにはオペ
−キング(穴埋め・画像修正作業)で対処しなければな
らず、著るしく作業効率を悪くしていた。
このような現状から、ピンホールの発生しにくい明室用
フィルムが強く望まれていた。
フィルムが強く望まれていた。
本発明は上記の事情に鑑みて為されたものでありその第
1の目的は、選択した光源による露光でピンホールの発
生がないハロゲン化銀写真感光材料を提供することであ
る。
1の目的は、選択した光源による露光でピンホールの発
生がないハロゲン化銀写真感光材料を提供することであ
る。
第2の目的は、抜き文字品質など製版用返し特性を改良
したハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
したハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
上述した本発明の目的は、ヒドラジン化合物又はテトラ
ゾリム化合物を含有する感光性乳剤層を設けた支持体の
反対側にスルホン酸の塩を持つポリマーまたはこれと組
み合わせた共重合ポリマーを含有する親水性コロイド層
をビニルスルホン型またはトリアジン型硬膜剤で硬化さ
せたことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によっ
て達成されることを見出した。
ゾリム化合物を含有する感光性乳剤層を設けた支持体の
反対側にスルホン酸の塩を持つポリマーまたはこれと組
み合わせた共重合ポリマーを含有する親水性コロイド層
をビニルスルホン型またはトリアジン型硬膜剤で硬化さ
せたことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によっ
て達成されることを見出した。
以下、本発明について詳述する。
本発明に用いるハロゲン化銀写真感光材料は、ヒドラジ
ン化合物を含有する。
ン化合物を含有する。
本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式(I)aで表される化合物である。
記一般式(I)aで表される化合物である。
一般式(I) a
R’−N −N −C−R”
式中、R1は1価の有機残基を表し、R2は水素原子ま
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を存するものも含む)を
表し、X、は酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
〔I〕で表される化合物のうち、Xlが酸素原子であり
、かっR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を存するものも含む)を
表し、X、は酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
〔I〕で表される化合物のうち、Xlが酸素原子であり
、かっR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
上記R1及びR2の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
チオウレア基など)のついたものを含む。置換基のつい
たものの具体例として、例えば、4−メチル7エニル基
、4−エチルフェニル基、4−オキシエチルフェニル基
、4−ドデンルフェニル基、4−カルボキシフェニル基
、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オクチルアミノ
フェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基、4−アセ
トアミド−2−メチルフェニル基、4−(3−エチルチ
オウレイド)フェニル基、4−[2〜(2,4−ジーt
ert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド] フェニル
基、4−[2−(2,4−ジーtert−ブチルフェノ
キン)ブチルアミド]フェニル基などを挙げることがで
きる。
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
チオウレア基など)のついたものを含む。置換基のつい
たものの具体例として、例えば、4−メチル7エニル基
、4−エチルフェニル基、4−オキシエチルフェニル基
、4−ドデンルフェニル基、4−カルボキシフェニル基
、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オクチルアミノ
フェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基、4−アセ
トアミド−2−メチルフェニル基、4−(3−エチルチ
オウレイド)フェニル基、4−[2〜(2,4−ジーt
ert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド] フェニル
基、4−[2−(2,4−ジーtert−ブチルフェノ
キン)ブチルアミド]フェニル基などを挙げることがで
きる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する三員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。
原子のうち少なくとも一つを有する三員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。
具体的には例えば、ピロリン環、ピリジン環、キノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環なとの残
基を挙げることが出来る。
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環なとの残
基を挙げることが出来る。
これらの複素環は、メチル基、エチル基枠炭素数1〜4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基枠炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアン基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基枠炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアン基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1〜
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、1−オ
クチル基等である。
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、1−オ
クチル基等である。
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜lOのも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキン基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチル基、
4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。また、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl) 基、アルキニル基としては例えばゾロパル
ギル基を挙げることかできる。
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキン基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチル基、
4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。また、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl) 基、アルキニル基としては例えばゾロパル
ギル基を挙げることかできる。
本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下に示
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
(I−1)l−ホルミル−2−(4−[2−(2,4−
ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド1フエ
ニル)ヒドラジン (I=2)l−ホルミル−2−(4−ジエチルアミノフ
ェニル)ヒドラジン (1−3)l−ホルミル−2−(p−)リル)ヒドラジ
ン (1−4)1−ホルミル−2−(4−エチルフェニル)
ヒドラジン (I−5)1−ホルミル−2−(4−アセトアミ ビー
2〜メチルフエニル)ヒドラジン Cl−6)1−ホルミル−2−(4−オキシエチルフェ
ニル)ヒドラジン (I−7)l−ホルミル−2−(4−N、N−ジヒドロ
キシエチルアミノフェニル)ヒドラジン (I−8)1−ホルミル−2−[4−(3−エチルチオ
ウレイド)フェニル)ヒドラジン (I〜9)l−チオホルミル−2−(4−[2−(2,
4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミトコ
フェニル)ヒドラジン (I−10)I−ホルミル−2−(4−ベンジルアミノ
フェニル)ヒドラジン (1−11)1−ホルミル−2−(4−オクチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (I−12)1−ホルミル−2−(4−ドデシルフェニ
ル)ヒドラジン (I−13)I−アセチル−2−(4−2−2,4−ジ
ーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミトコフェニ
ル)ヒドラジン (I−14)4−カルボキシフェニルヒドラジン(I−
15)1−アセチル−1−(4−’チルフェニルスルホ
ニル)−2−フェニルヒドラジンCl−16)l−エト
キシカルボニル−1−(4−メチルフェニルスルホニル
)−2−フェニルヒドラジン (1−17)1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒド
ラジン (I −18) 1−(4−アセトキシフェニル)−2
−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルボニル)−
ヒドラジン Cl−19)1−ホルミル−2−(4−ヘキサノキシフ
ェニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒ
ドラジン (I−20)l−ホルミル−2−(4−(テトラヒドロ
2H−ピラン−2−イルオキシ)−フェニル〕−2−(
4−メチルフェニルスルホニル)ヒドラジン ■−ホルミルー2− C4−(3−へキシルウレイドフ
ェニル))−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−
ヒドラジン l−ホルミル−2−(4 メチルフェニル スルホニル)−2−(4−(フェノキシチオカルボニル
アミノ)−フェニル)−ヒ一27) ドラジン 1−(4−エトキシチオカルボニルアミノフェニル)−
2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル)
−ヒドラジン1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−C4−(3−メチル−3−フェニル
−2−チオウレイド)−フェニル〕−ヒドラジン =25) 1−((4−(3−[4−(2,4−ビス−t−アミル
フェノキシ)−ブチルクーウレイド)−フェニル))−
2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル)
−ヒドラジン(r−29) (I−31) (I (I (I (I =43) しH。
ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド1フエ
ニル)ヒドラジン (I=2)l−ホルミル−2−(4−ジエチルアミノフ
ェニル)ヒドラジン (1−3)l−ホルミル−2−(p−)リル)ヒドラジ
ン (1−4)1−ホルミル−2−(4−エチルフェニル)
ヒドラジン (I−5)1−ホルミル−2−(4−アセトアミ ビー
2〜メチルフエニル)ヒドラジン Cl−6)1−ホルミル−2−(4−オキシエチルフェ
ニル)ヒドラジン (I−7)l−ホルミル−2−(4−N、N−ジヒドロ
キシエチルアミノフェニル)ヒドラジン (I−8)1−ホルミル−2−[4−(3−エチルチオ
ウレイド)フェニル)ヒドラジン (I〜9)l−チオホルミル−2−(4−[2−(2,
4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミトコ
フェニル)ヒドラジン (I−10)I−ホルミル−2−(4−ベンジルアミノ
フェニル)ヒドラジン (1−11)1−ホルミル−2−(4−オクチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (I−12)1−ホルミル−2−(4−ドデシルフェニ
ル)ヒドラジン (I−13)I−アセチル−2−(4−2−2,4−ジ
ーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミトコフェニ
ル)ヒドラジン (I−14)4−カルボキシフェニルヒドラジン(I−
15)1−アセチル−1−(4−’チルフェニルスルホ
ニル)−2−フェニルヒドラジンCl−16)l−エト
キシカルボニル−1−(4−メチルフェニルスルホニル
)−2−フェニルヒドラジン (1−17)1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒド
ラジン (I −18) 1−(4−アセトキシフェニル)−2
−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルボニル)−
ヒドラジン Cl−19)1−ホルミル−2−(4−ヘキサノキシフ
ェニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒ
ドラジン (I−20)l−ホルミル−2−(4−(テトラヒドロ
2H−ピラン−2−イルオキシ)−フェニル〕−2−(
4−メチルフェニルスルホニル)ヒドラジン ■−ホルミルー2− C4−(3−へキシルウレイドフ
ェニル))−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−
ヒドラジン l−ホルミル−2−(4 メチルフェニル スルホニル)−2−(4−(フェノキシチオカルボニル
アミノ)−フェニル)−ヒ一27) ドラジン 1−(4−エトキシチオカルボニルアミノフェニル)−
2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル)
−ヒドラジン1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−C4−(3−メチル−3−フェニル
−2−チオウレイド)−フェニル〕−ヒドラジン =25) 1−((4−(3−[4−(2,4−ビス−t−アミル
フェノキシ)−ブチルクーウレイド)−フェニル))−
2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル)
−ヒドラジン(r−29) (I−31) (I (I (I (I =43) しH。
(■
(■
(I
(■
(I
(I
(■
(■
(I
(■
(I
(I
(■
=56)
(■
(I
H3
一般式(I c)
一般式(I) aで表わされるヒドラジン化合物の添加
位置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロ
ゲン化銀乳剤層側にある非感光層でおるが、好ましくは
、ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添
加量は、10−’−10−’モル/銀1モルが好ましく
、更に好ましくは10−4〜l0−1モル/銀1モルで
ある。
位置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロ
ゲン化銀乳剤層側にある非感光層でおるが、好ましくは
、ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添
加量は、10−’−10−’モル/銀1モルが好ましく
、更に好ましくは10−4〜l0−1モル/銀1モルで
ある。
次に本発明に用いられるテトラゾリウム化合物について
説明する。
説明する。
テトラゾリウム化合物は下記一般式[I b)、(1c
)または[I d)で示すことができる。
)または[I d)で示すことができる。
一般式(I b)
一般式(I d)
式中、Rl+R3,R4,Rs+R8+Rs、Rlo及
びR1゜は、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ドデシル基等)、アルケニル基、
(例えばビニル基、アリル基、プロペニル基等)、アリ
ール基(例えばフェニル基、トリル基、ヒドロキシフェ
ニル基、カルボキシフェニル基、アミノフェニル基、メ
ルカプトフェニル基、αナフチル基、β−す7チル基、
ヒドロキシナフチル基、カルボキシナフチル基、アミノ
ナフチル基等)、及び複素環基(例えばチアゾリル基、
ベンゾチアゾリル基、オキサシリル基、ピリミジニル基
、ピリジル基等)から選ばれる基を表し、これらはいず
れも金属キレートあるいは錯体を形成するような基でも
よい。
びR1゜は、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ドデシル基等)、アルケニル基、
(例えばビニル基、アリル基、プロペニル基等)、アリ
ール基(例えばフェニル基、トリル基、ヒドロキシフェ
ニル基、カルボキシフェニル基、アミノフェニル基、メ
ルカプトフェニル基、αナフチル基、β−す7チル基、
ヒドロキシナフチル基、カルボキシナフチル基、アミノ
ナフチル基等)、及び複素環基(例えばチアゾリル基、
ベンゾチアゾリル基、オキサシリル基、ピリミジニル基
、ピリジル基等)から選ばれる基を表し、これらはいず
れも金属キレートあるいは錯体を形成するような基でも
よい。
R、、R、及びR7それぞれアリル基、置換基を有して
もよいフェニル基、置換基を有してもよいす7チル基、
複素環基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メルカプト
メチル基等)、ヒドロキシル基、カルボキシル基又はそ
の塩、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基等)、アミン基(例えば
アミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メルカプ
ト基、ニトロ基、又は水素原子から選ばれる基を表し、
Dは2価の芳香族基を表わし、Eはアルキレン基、アリ
レン基、アラルキレン基から選ばれる基を表し、Xeは
アニオンを表し、nはl又は2の整数を表す。ただし化
合物が分子内塩を形成する場合nはlである。次に前記
一般式(I b)、(I c)又はCI d)で表され
るテトラゾリウム化金物の具体例を示すが、本発明はこ
れらのみに限定されるものではない。
もよいフェニル基、置換基を有してもよいす7チル基、
複素環基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メルカプト
メチル基等)、ヒドロキシル基、カルボキシル基又はそ
の塩、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基等)、アミン基(例えば
アミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メルカプ
ト基、ニトロ基、又は水素原子から選ばれる基を表し、
Dは2価の芳香族基を表わし、Eはアルキレン基、アリ
レン基、アラルキレン基から選ばれる基を表し、Xeは
アニオンを表し、nはl又は2の整数を表す。ただし化
合物が分子内塩を形成する場合nはlである。次に前記
一般式(I b)、(I c)又はCI d)で表され
るテトラゾリウム化金物の具体例を示すが、本発明はこ
れらのみに限定されるものではない。
(1)2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−3−フェ
ニル−5−ドデシル−2H−テトラゾリウム(2)2.
3−ジフェニル−5−(4−t−オクチルオキシフェニ
ル)−2H−テトラゾリウム (3) 2,3.5−1−リフユニルー2H−テトラゾ
リウム(4)2.3.5−トリ(p−力ルポキシエチル
フェニル)2H−テトラゾリウム (5)2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−3−フェ
ニル−5−Co−クロロフェニル)−28−テトラゾリ
ウム(6)2.3−ジフェニル−2H−テトラゾリウム
(7)2.3−ジフェニル−5−メチル−2H−テトラ
ゾリウム (8)3−(p−ヒドロキシフェニル)−5−メチル−
2−フェニル−2H−テトラゾリウム (9)2.3−ジフェニル−5−エチル−2■−テトラ
ゾリウム (10) 2.3−ジフェニル−5−n−へキシル−2
H−テトラゾリウム (11) 5−シアノ−2,3−ジフェニル−2H−テ
トラゾリウム (12) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−5−
フェニル−3−(4−+−リル)−2H−テトラゾリウ
ム(13)2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−5−
(4−クロロフェニル)−3−(4−ニトロフェニル)
−2F!−テトラゾリウム (14) 5−エトキシカルボニル−2,3−ジ(3−
ニトロフェニル)−2H−テトラゾリウム (15) 5−アセチル−2,3−ジ(p−エトキシフ
ェニル)−2H−テトラゾリウム (16) 2.5−ジフェニル−3−(p−トリル)−
2H−テトラゾリウム (17) 2.5−ジフェニル−3−(p−ヨードフェ
ニル)−2H−テトラゾリウム (18) 2.3−ジフェニル−5−(p−ジフェニル
) −2H−テトラゾリウム (19) 5−(p−ブロモフェニル)−2−フェニル
−3−(2,4゜6−ドデシルフェニル)−21(−テ
トラゾリウム(20) 3−(p−ヒドロキシフェニル
)−5−(p−ニトロフェニル)−2−7xニル−2H
−テトラゾリウム(21) 5−(3,4−ジメトキン
フェニル)−3−(2−エトキシフェニル)−2−(4
−メトキシフェニル)2H−テトラゾリウム (22) 5−(4−シアノフェニル)−2,3−ジフ
ェニル2H−テトラゾリウム (23) 3−(p−アセトアミドフェニル)−2,5
−ジフェニル−2H−テトラゾリウム (24) 5−アセチル−2,3−ジフェニル−2H−
テトラゾリウム (25) 5−(フラン−2−イル−2,3−ジフェニ
ル−2H−テトラゾリウム (26)5−(チオフェン−2−イル)−2,3−ジフ
ェニル−2H−テトラゾリウム (27) 2.3−ジフェニル−5−(ピリド−4−イ
ル)−2H−テトラゾリウム (28) 2.3−ジフェニル−5−(キノール−2−
イル> −211−テトラゾリウム (29) 2.3−ジフェニル−5−(ベンゾオキサゾ
ール−2−イル)−2H−テトラゾリウム (30) 2.3.5−トリ(p−エチルフェニル)−
2H−テトラゾリウム (3]、) 2,3.5−トリ(p−アリルフェニル)
−2H−テトラゾリウム (32) 2,3.5−トリ(p−ヒドロキシエチルオ
キシエトキシフェニル)−2H−テトラゾリウム(33
) 2,3.5−トリ(p−ドデシルフェニル)−2H
−テトラゾリウム (34) 2,3.5−トリ(p−ベンジルフェニル)
−2H−テトラゾリウム 前記一般式(r b)ないしく I c)におけるxe
で表されるアニオン部としてはノ\ロゲンイオン例えば
CQeを挙げることができる。
ニル−5−ドデシル−2H−テトラゾリウム(2)2.
3−ジフェニル−5−(4−t−オクチルオキシフェニ
ル)−2H−テトラゾリウム (3) 2,3.5−1−リフユニルー2H−テトラゾ
リウム(4)2.3.5−トリ(p−力ルポキシエチル
フェニル)2H−テトラゾリウム (5)2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−3−フェ
ニル−5−Co−クロロフェニル)−28−テトラゾリ
ウム(6)2.3−ジフェニル−2H−テトラゾリウム
(7)2.3−ジフェニル−5−メチル−2H−テトラ
ゾリウム (8)3−(p−ヒドロキシフェニル)−5−メチル−
2−フェニル−2H−テトラゾリウム (9)2.3−ジフェニル−5−エチル−2■−テトラ
ゾリウム (10) 2.3−ジフェニル−5−n−へキシル−2
H−テトラゾリウム (11) 5−シアノ−2,3−ジフェニル−2H−テ
トラゾリウム (12) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−5−
フェニル−3−(4−+−リル)−2H−テトラゾリウ
ム(13)2−(ベンゾチアゾール−2−イル)−5−
(4−クロロフェニル)−3−(4−ニトロフェニル)
−2F!−テトラゾリウム (14) 5−エトキシカルボニル−2,3−ジ(3−
ニトロフェニル)−2H−テトラゾリウム (15) 5−アセチル−2,3−ジ(p−エトキシフ
ェニル)−2H−テトラゾリウム (16) 2.5−ジフェニル−3−(p−トリル)−
2H−テトラゾリウム (17) 2.5−ジフェニル−3−(p−ヨードフェ
ニル)−2H−テトラゾリウム (18) 2.3−ジフェニル−5−(p−ジフェニル
) −2H−テトラゾリウム (19) 5−(p−ブロモフェニル)−2−フェニル
−3−(2,4゜6−ドデシルフェニル)−21(−テ
トラゾリウム(20) 3−(p−ヒドロキシフェニル
)−5−(p−ニトロフェニル)−2−7xニル−2H
−テトラゾリウム(21) 5−(3,4−ジメトキン
フェニル)−3−(2−エトキシフェニル)−2−(4
−メトキシフェニル)2H−テトラゾリウム (22) 5−(4−シアノフェニル)−2,3−ジフ
ェニル2H−テトラゾリウム (23) 3−(p−アセトアミドフェニル)−2,5
−ジフェニル−2H−テトラゾリウム (24) 5−アセチル−2,3−ジフェニル−2H−
テトラゾリウム (25) 5−(フラン−2−イル−2,3−ジフェニ
ル−2H−テトラゾリウム (26)5−(チオフェン−2−イル)−2,3−ジフ
ェニル−2H−テトラゾリウム (27) 2.3−ジフェニル−5−(ピリド−4−イ
ル)−2H−テトラゾリウム (28) 2.3−ジフェニル−5−(キノール−2−
イル> −211−テトラゾリウム (29) 2.3−ジフェニル−5−(ベンゾオキサゾ
ール−2−イル)−2H−テトラゾリウム (30) 2.3.5−トリ(p−エチルフェニル)−
2H−テトラゾリウム (3]、) 2,3.5−トリ(p−アリルフェニル)
−2H−テトラゾリウム (32) 2,3.5−トリ(p−ヒドロキシエチルオ
キシエトキシフェニル)−2H−テトラゾリウム(33
) 2,3.5−トリ(p−ドデシルフェニル)−2H
−テトラゾリウム (34) 2,3.5−トリ(p−ベンジルフェニル)
−2H−テトラゾリウム 前記一般式(r b)ないしく I c)におけるxe
で表されるアニオン部としてはノ\ロゲンイオン例えば
CQeを挙げることができる。
本発明に使用するテトラゾリウム化合物は、1種を用い
てもよく、また、2種以上を任意の比率で組合せて併用
することもできる。
てもよく、また、2種以上を任意の比率で組合せて併用
することもできる。
本発明の好ましい一つの実施態様として、本発明に係わ
るテトラゾリウム化合物をノ10ゲン化銀乳剤層中に添
加することが挙げられる。また本発明の別の好ましい実
施態様においては、ノ10ゲン化銀乳剤層に直接隣接す
る非感光性親水性コロイド層、または中間層を介して隣
接する非感光性親水性コロイド層に添加される。
るテトラゾリウム化合物をノ10ゲン化銀乳剤層中に添
加することが挙げられる。また本発明の別の好ましい実
施態様においては、ノ10ゲン化銀乳剤層に直接隣接す
る非感光性親水性コロイド層、または中間層を介して隣
接する非感光性親水性コロイド層に添加される。
又別の態様としては、本発明に係わるテトラゾリウム化
合物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノール
等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解し
てオーバーコート法等により感光材料のハロゲン化銀乳
剤層側の最大層になる部分に直接塗布して感光材料に含
有せしめてもよい。
合物を適当な有機溶媒、例えばメタノール、エタノール
等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解し
てオーバーコート法等により感光材料のハロゲン化銀乳
剤層側の最大層になる部分に直接塗布して感光材料に含
有せしめてもよい。
本発明に係わるテトラゾリウム化合物は本発明の感光材
料中に含有されるハロゲン化銀1モル当りlXl0−’
−!=ルから10モルまで、特に2 X 10−’−E
−ルから2 X 10−’モルまでの範囲で用いるのが
好まし次に本発明に用いるスルホン酸基で置換されたヘ
テロ環を有する高分子化合物(以下、本発明のポリマー
という)は分子量200〜200万の範囲であるものが
好ましい。
料中に含有されるハロゲン化銀1モル当りlXl0−’
−!=ルから10モルまで、特に2 X 10−’−E
−ルから2 X 10−’モルまでの範囲で用いるのが
好まし次に本発明に用いるスルホン酸基で置換されたヘ
テロ環を有する高分子化合物(以下、本発明のポリマー
という)は分子量200〜200万の範囲であるものが
好ましい。
本発明のポリマーにおけるヘテロ環の好ましい例として
ピリジン環、ピロリジン環、カルバゾール環、ビロール
環、チオフェン環、7ラン環、インドール環を挙げるこ
とができる。又スルホン酸基としては、炭素1−16の
アルキルスルホン酸基又は置換アルキルスルホン酸基を
挙げることができる。又、これらのスルホン酸基とへテ
ロ環基の結合基は、炭素、窒素、硫黄、酸素およびリン
原子から構成される2価の結合基ならいずれでもよい。
ピリジン環、ピロリジン環、カルバゾール環、ビロール
環、チオフェン環、7ラン環、インドール環を挙げるこ
とができる。又スルホン酸基としては、炭素1−16の
アルキルスルホン酸基又は置換アルキルスルホン酸基を
挙げることができる。又、これらのスルホン酸基とへテ
ロ環基の結合基は、炭素、窒素、硫黄、酸素およびリン
原子から構成される2価の結合基ならいずれでもよい。
本発明のポリマーとして代表的具体例としてホモポリマ
ー コポリマー ターポリマーを下記に列挙するが、こ
れらに限定されるものではない。
ー コポリマー ターポリマーを下記に列挙するが、こ
れらに限定されるものではない。
SO,Na
SO,Na
(lO)
M坤60万
H3
x:y:z:v−40:30:20:10M#50万
x:y:z−40:30:30
M#50万
上記本発明ポリマーを形成し得る七ツマ−を重合せしめ
る媒体としては、水溶液中の他にメタノール、エタノー
ルなどのアルコール中、ゼラチン水溶液のごとき親水性
コロイド溶液マトリックス中あるいはトリクレジルホス
7エートナトリウム塩、流動パラフィンなどのような高
沸点溶媒中で上記重合開始剤を用いてポリマーを形成す
ることができる。
る媒体としては、水溶液中の他にメタノール、エタノー
ルなどのアルコール中、ゼラチン水溶液のごとき親水性
コロイド溶液マトリックス中あるいはトリクレジルホス
7エートナトリウム塩、流動パラフィンなどのような高
沸点溶媒中で上記重合開始剤を用いてポリマーを形成す
ることができる。
これらの化合物の添加量は1O−1〜10’mg/m”
までが好ましく、特に好ましくは10−2〜10’mg
/m’である。
までが好ましく、特に好ましくは10−2〜10’mg
/m’である。
本発明の高分子化合物はポリマーを形成し得る七ツマ−
を市販化成品として入手し、容易に合成することができ
る。
を市販化成品として入手し、容易に合成することができ
る。
つぎに本発明に用いられるビニルスルホン系硬膜剤とし
ては、例えば次の一般式(II) で示される化合物
がある。
ては、例えば次の一般式(II) で示される化合物
がある。
(1) 一般式 (II)
CHz ”” CHSO! R1lSo□CH−CH
2R1,は2価の連結基であり、アルキレン基又は置換
アルキレン基であり、間に、アミド連結部分、エーテル
連結部分あるいはチオエーテル連結部分を有してもよい
。
2R1,は2価の連結基であり、アルキレン基又は置換
アルキレン基であり、間に、アミド連結部分、エーテル
連結部分あるいはチオエーテル連結部分を有してもよい
。
一般式 (II) で示される化合物の具体例を次に
挙げる。
挙げる。
(II−1)
C8,−CI(S(hCHzSO2CH−CHx([[
−2) CHz = CH3J(CHt)tso□CH−CH。
−2) CHz = CH3J(CHt)tso□CH−CH。
(I[−3)
CHz = CH3J(CHx)*5JC1i= CH
2(n−4) CH,−CH30,C)1.0CI(、SO,CH−C
H。
2(n−4) CH,−CH30,C)1.0CI(、SO,CH−C
H。
(II−5)
CH2−CHSOx(C)l*)*0(CHz)SOt
CH−CHxCL =CH5ChCLC)Ic)ItS
OzCH−CHt(■ −7) (■ (II−9) [C(CHzSOzCl(−Cl1z)4 ]IIl[
H2NOH,CHzSO,に1nm:a導2:1 本発明で用いられるトリアジン型硬膜剤としては、下記
一般式(n[) 及び CIV) で示される化合
物である。
CH−CHxCL =CH5ChCLC)Ic)ItS
OzCH−CHt(■ −7) (■ (II−9) [C(CHzSOzCl(−Cl1z)4 ]IIl[
H2NOH,CHzSO,に1nm:a導2:1 本発明で用いられるトリアジン型硬膜剤としては、下記
一般式(n[) 及び CIV) で示される化合
物である。
(I[I) (IV)X
lはハロゲン原子、N−メチロールアミノ基、グリシド
キシ基、Y、はH,ハロゲン原子、−〇H1−OM(M
はアルカリ金属イオン)、アミン基、置換アミノ基(置
換基としてはフェニル基、スルホン化フェニル基、カル
ボキシ化フェニル基、アルキル基、スルホン化アルキル
基、カルボキシ化7エ二ル基、ヒドロキシアルキル基)
、アルキル基又はフェニルエーテル基、アルキル又はフ
ェニルチオエーテル基、スルホンアミド又はアルキルス
ルホンアミド基。
lはハロゲン原子、N−メチロールアミノ基、グリシド
キシ基、Y、はH,ハロゲン原子、−〇H1−OM(M
はアルカリ金属イオン)、アミン基、置換アミノ基(置
換基としてはフェニル基、スルホン化フェニル基、カル
ボキシ化フェニル基、アルキル基、スルホン化アルキル
基、カルボキシ化7エ二ル基、ヒドロキシアルキル基)
、アルキル基又はフェニルエーテル基、アルキル又はフ
ェニルチオエーテル基、スルホンアミド又はアルキルス
ルホンアミド基。
ZlはY、と同じグループから選ばれ、Y、と同じ又は
異ってもよい。
異ってもよい。
一般式 (III) で示される化合物の具体例を次
に挙げる。
に挙げる。
(m−1)
N〒N
Q
(II[−4)
YN
ff
(■
a
(II[−6)
a
Q
(■
YN
(III −7)
YN
I2
(III −13)
(II[−9)
a
YN
I2
(■
]4)
Q
(m −11)
N″YN
CD。
一般式
%式%)
で示される化合物の具体例を次に
(m −12)
(■
a
OCR,CH−C町ブH3
(TV−3)
(IV−4)
I2
これらの硬膜剤は1種または2種以上を併用して、保護
コロイドの乾燥重量に対し、通常0.01〜100重量
%、好ましくは0.1−10重量%の範囲で用いられる
。硬膜剤の添加は、写真塗液を塗布するまでの任意の段
階で、保護コロイド含有液に硬膜剤溶液を添加すること
によって行われる。
コロイドの乾燥重量に対し、通常0.01〜100重量
%、好ましくは0.1−10重量%の範囲で用いられる
。硬膜剤の添加は、写真塗液を塗布するまでの任意の段
階で、保護コロイド含有液に硬膜剤溶液を添加すること
によって行われる。
(IV−5)
Q
Q
本発明の一般式 (II[) 又は (rV) で
示される化合物の中で、特に好ましいものは、Xlが塩
素原子の化合物である。
示される化合物の中で、特に好ましいものは、Xlが塩
素原子の化合物である。
Y、とじては種々のものが選べるが、−0M(Mはアル
カリ金属イオン)やスルホン酸又はカルボキシル基など
の水溶性基の置換したアルキルアミノ基やアリールアミ
ノ基が好ましい。
カリ金属イオン)やスルホン酸又はカルボキシル基など
の水溶性基の置換したアルキルアミノ基やアリールアミ
ノ基が好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲ
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等で少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが好
ましい。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜0
.5μmの範囲のものが好ましく用いられるが0.05
〜0.30μmがより好ましい。
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等で少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが好
ましい。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜0
.5μmの範囲のものが好ましく用いられるが0.05
〜0.30μmがより好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の単分散度は、下記式(
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方
晶粒子の校長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径で割った値を100倍した数値で表す。
晶粒子の校長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径で割った値を100倍した数値で表す。
又、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、少なくと
も2層の多層積層構造を有するタイプのものを好ましく
用いることができる。たとえばコア部に塩化銀、シェル
部に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀で
ある塩臭化銀粒子であってもよい。このときヨードは任
意の層に5%モル以内で含有させることができる。
も2層の多層積層構造を有するタイプのものを好ましく
用いることができる。たとえばコア部に塩化銀、シェル
部に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀で
ある塩臭化銀粒子であってもよい。このときヨードは任
意の層に5%モル以内で含有させることができる。
又、少なくとも2種類の粒子を混合して用いることもで
きる。例えば生乳粒子は10モル%以下の塩化銀及び5
モル%以下のヨードを含有する立方晶、八面体又は平板
状の塩沃臭化銀粒子であり、副粒子はヨード5モル%以
下で塩化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体又は
平板状塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とすることがで
きる。このように粒子を混合して用いる場合は、主・副
粒子の化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化
学増感(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度
を低くしてもよいし、粒子径や内部にドープするロジウ
ムなどの貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい
。また副粒子の内部を金でカブらせてもよいし、コア/
シェル法でコアとシェルの組成を変化させてカブらせて
もよい。主粒子と副粒子は小粒子程よいが、例えば0.
025μm〜1.0μmの任意の値をとることができる
。
きる。例えば生乳粒子は10モル%以下の塩化銀及び5
モル%以下のヨードを含有する立方晶、八面体又は平板
状の塩沃臭化銀粒子であり、副粒子はヨード5モル%以
下で塩化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体又は
平板状塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とすることがで
きる。このように粒子を混合して用いる場合は、主・副
粒子の化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化
学増感(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度
を低くしてもよいし、粒子径や内部にドープするロジウ
ムなどの貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい
。また副粒子の内部を金でカブらせてもよいし、コア/
シェル法でコアとシェルの組成を変化させてカブらせて
もよい。主粒子と副粒子は小粒子程よいが、例えば0.
025μm〜1.0μmの任意の値をとることができる
。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤調製時には、ロジウム
塩を添加して感度または階調をコントロールする事がで
きる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好まし
いが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
塩を添加して感度または階調をコントロールする事がで
きる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好まし
いが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤に添加されるロジウム
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い。代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドなどが用いられる。
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い。代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドなどが用いられる。
ロジウム塩の添加量は、必要とする感度、階調により自
由に変えられるが銀1モルに対して10−’モルから1
0−’モルの範囲が特に有用である。
由に変えられるが銀1モルに対して10−’モルから1
0−’モルの範囲が特に有用である。
またロジウム塩を使用するときに、他の無機化合物例え
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い。イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、銀1モル当り10−9モルから
io−’モルの範囲まで好ましく用いることができる。
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い。イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、銀1モル当り10−9モルから
io−’モルの範囲まで好ましく用いることができる。
本発明において用いられるハロゲン化銀は種々の化学増
感剤によって増感することができる。増感剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレノ尿素
、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロロオ
ーレート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルク
ロライド、アンモニウムクロロパラテート、カリウムク
ロロオーレ−ト、ナトリウムクロロバラダイト等で代表
される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あるいは
2種以上併用して用いることができる。なお金増感剤を
使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用すること
もできる。
感剤によって増感することができる。増感剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレノ尿素
、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロロオ
ーレート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルク
ロライド、アンモニウムクロロパラテート、カリウムク
ロロオーレ−ト、ナトリウムクロロバラダイト等で代表
される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あるいは
2種以上併用して用いることができる。なお金増感剤を
使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用すること
もできる。
本発明の効果は、減感色素及び/又は紫外線吸収剤を本
発明に係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せしめる
ことにより、−層高めることができる。
発明に係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せしめる
ことにより、−層高めることができる。
減感色素としては下記一般式(V) −(a)〜(e)
で表されるものを好ましく用いることができる。
で表されるものを好ましく用いることができる。
紫外線吸収剤としては下記一般式(v)−(f)。
(g)で表されるものを好ましく用いることができる。
これらの化合物は、米国特許第3,567.456号、
同3,615,639、同3,579,345、同3,
615,608、同3,598.596、同3,598
,955、同3,592,653、同3,582,34
3号、特公昭40−26751、同40−27332、
同43−13167、同45−8833、同47−87
46号等の明細書を参考にして合成することができる。
同3,615,639、同3,579,345、同3,
615,608、同3,598.596、同3,598
,955、同3,592,653、同3,582,34
3号、特公昭40−26751、同40−27332、
同43−13167、同45−8833、同47−87
46号等の明細書を参考にして合成することができる。
一般式〔V) −(a)
〔式中R11及びR32は水素またはハロゲン原子、シ
アノ基又はニトロ基を表す。又、R31とR32とで芳
香族環を形成してもよい。R33及びR34はそれぞれ
アルキル基、低級アルケニル基、フェニル基又は低級ヒ
ドロキシアルキル基を表し又R31及びR32が水素原
子以外の場合にはアリール基であってもよ(m4は1〜
4の正の正数、R1,は低級アルキル基又はスルホン化
低級アルキル基を表し、Xlは酸アニオンを表す。〕 一般式(Vl −(c) 、−2,〜、。
アノ基又はニトロ基を表す。又、R31とR32とで芳
香族環を形成してもよい。R33及びR34はそれぞれ
アルキル基、低級アルケニル基、フェニル基又は低級ヒ
ドロキシアルキル基を表し又R31及びR32が水素原
子以外の場合にはアリール基であってもよ(m4は1〜
4の正の正数、R1,は低級アルキル基又はスルホン化
低級アルキル基を表し、Xlは酸アニオンを表す。〕 一般式(Vl −(c) 、−2,〜、。
一般式〔V)−(b)
R$3
〔式中、Ro及びR1,はそれぞれ水素原子又はニトロ
基、R3,及びR3,は低級アルキル基、アリル基又は
フェニル基、Zlはニトロベンゾチアゾール核、ニトロ
ベンゾオキサゾール核、ニトロベンゾセレナゾール核、
イミダゾ〔4・5−b〕キノキサリン核、3・3−ジメ
チル−3H−ピロロ〔2・3−b〕 ピリジン核、3・
3−ジアルキル−3H−二トロインドール核、チアゾロ
〔4・5−b〕キノリン核、ニトロキノリン核、ニトロ
チアゾール核、ニトロナフトチアゾール核、ニトロオキ
サゾール核、ニトロナフトオキサゾール核、ニトロセレ
ナゾール核、ニトロナフトセレナゾール核又はニトロピ
リジン核を形成するために必要な原子群、x。
基、R3,及びR3,は低級アルキル基、アリル基又は
フェニル基、Zlはニトロベンゾチアゾール核、ニトロ
ベンゾオキサゾール核、ニトロベンゾセレナゾール核、
イミダゾ〔4・5−b〕キノキサリン核、3・3−ジメ
チル−3H−ピロロ〔2・3−b〕 ピリジン核、3・
3−ジアルキル−3H−二トロインドール核、チアゾロ
〔4・5−b〕キノリン核、ニトロキノリン核、ニトロ
チアゾール核、ニトロナフトチアゾール核、ニトロオキ
サゾール核、ニトロナフトオキサゾール核、ニトロセレ
ナゾール核、ニトロナフトセレナゾール核又はニトロピ
リジン核を形成するために必要な原子群、x。
はアニオン、Ill、及びnはそれぞれlまたは2を表
す。ただし化合物が分子内塩を形成する場合はnはlを
表す。〕 一般式(V)−(d) 〔式中R4゜、R6いR42及びR43はそれぞれ水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基又はニトロ基、R44は水素原子、アルキ
ル基又はニトロ基を表す。Z2は非置換又はそれぞれ低
級アルキル基、フェニル基、チエニル基、ハロゲン原子
、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキルス
ルフォニル基、アルコキシカルボニル基、フェニルスル
フォニル基、トリフルオロメチル基で置換されたチアゾ
ール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、オ
キサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフトエキサゾ
ール核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフ
トセレナゾール核、チアゾリン核、ピリジン核、キノリ
ン核、インキノリン核、3゜3−ジアルキル−3H−イ
ンゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核又
はす7トイミダゾール核を形成するに必要な原子群を表
し、L、及びR2はそれぞれ非置換又は低級アルキル基
もしくはアリール基で置換されたメチン鎖を表し、R1
5及びR48はそれぞれ非置換もしくは置換基を有する
アルキル基、アルケニル基、アリール基、スルホアルキ
ル基又はアラルキル基、X、はアニオン、m6及びnは
それぞれl又は2を表す。ただし化合物が分子内塩を形
成する場合はnはlを表す。〕一般式[:VI −(e
) 一般式(V)−(D 〔式中R47及びR49はそれぞれアルキル基、R46
はアリール基を表す。L、及びR2はそれぞれ非置換又
は低級アルキル基もしくはアリール基で置換されたメチ
ン鎖を表しZ、はチアゾール核、ベンゾチアゾール核、
ナフトチアゾール核、オキサゾール核、ベンズオキサゾ
ール核、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベン
ゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン
核、ピリジン核、キノリン核、3・3−ジアルキルイン
ドレニン核、イミダゾール核、イミダゾ(415−b〕
キノキザリン核を形成するために必要な原子群、X!は
アニオン、m7は1〜3の正の整数、m、は1又は2を
表す。〕 〔式中R6゜はアルキル、ヒドロキシアルキル、シアノ
アルキル、スルホアルキル基を表しZ、はオキサゾール
、チアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール
、イミダゾール、ベンツイミダゾール環を、Aはビロー
ル環、ピロリジン環を形成するに必要な原子群を表す。
す。ただし化合物が分子内塩を形成する場合はnはlを
表す。〕 一般式(V)−(d) 〔式中R4゜、R6いR42及びR43はそれぞれ水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基又はニトロ基、R44は水素原子、アルキ
ル基又はニトロ基を表す。Z2は非置換又はそれぞれ低
級アルキル基、フェニル基、チエニル基、ハロゲン原子
、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキルス
ルフォニル基、アルコキシカルボニル基、フェニルスル
フォニル基、トリフルオロメチル基で置換されたチアゾ
ール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、オ
キサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフトエキサゾ
ール核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフ
トセレナゾール核、チアゾリン核、ピリジン核、キノリ
ン核、インキノリン核、3゜3−ジアルキル−3H−イ
ンゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核又
はす7トイミダゾール核を形成するに必要な原子群を表
し、L、及びR2はそれぞれ非置換又は低級アルキル基
もしくはアリール基で置換されたメチン鎖を表し、R1
5及びR48はそれぞれ非置換もしくは置換基を有する
アルキル基、アルケニル基、アリール基、スルホアルキ
ル基又はアラルキル基、X、はアニオン、m6及びnは
それぞれl又は2を表す。ただし化合物が分子内塩を形
成する場合はnはlを表す。〕一般式[:VI −(e
) 一般式(V)−(D 〔式中R47及びR49はそれぞれアルキル基、R46
はアリール基を表す。L、及びR2はそれぞれ非置換又
は低級アルキル基もしくはアリール基で置換されたメチ
ン鎖を表しZ、はチアゾール核、ベンゾチアゾール核、
ナフトチアゾール核、オキサゾール核、ベンズオキサゾ
ール核、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベン
ゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン
核、ピリジン核、キノリン核、3・3−ジアルキルイン
ドレニン核、イミダゾール核、イミダゾ(415−b〕
キノキザリン核を形成するために必要な原子群、X!は
アニオン、m7は1〜3の正の整数、m、は1又は2を
表す。〕 〔式中R6゜はアルキル、ヒドロキシアルキル、シアノ
アルキル、スルホアルキル基を表しZ、はオキサゾール
、チアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール
、イミダゾール、ベンツイミダゾール環を、Aはビロー
ル環、ピロリジン環を形成するに必要な原子群を表す。
〕
一般式(V) −(g)
Rss Rss
〔式中R、イR、、、Ro、Rs4はアルキル基、ヒド
ロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ基、アル
コキシ基又はスルホアルキル基を表す。
ロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ基、アル
コキシ基又はスルホアルキル基を表す。
R5,及びR1はスルホン酸基、アルキルスルポン酸基
を表す。〕 次に、本発明に好ましく用いられる減感色素及び紫外線
吸収剤の具体的例示化合物を示すが、これらに限定され
るものではない。(尚以下例示のv−1〜v−36の中
には、前場の一般式に該当しないものがある。又pus
は、バラトルエンスルホC,Fls C2H。
を表す。〕 次に、本発明に好ましく用いられる減感色素及び紫外線
吸収剤の具体的例示化合物を示すが、これらに限定され
るものではない。(尚以下例示のv−1〜v−36の中
には、前場の一般式に該当しないものがある。又pus
は、バラトルエンスルホC,Fls C2H。
C)12CIhOH
CH,CH!OH
e
ts0
(v −13)
(V−14)
(v−15)
(V−16)
(V−10)
(V
(V −12)
(v−17)
(v−18)
(■
(v−21)
(V−22)
(V
(v−24)
フェノサフラニン
(v−29)
So、Na
(V
(V−32)
(V−25)
ビナクリプトルイエロー
H3
CI(30SO,e
(V−26)
(v−33)
(V−34)
(V
(V−36)
SO3Na SOsNa
(V−37)
(v−38)
(v−39)
(”/−40)
また本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米
国特許筒2,444.607号、同第2,716.06
2号、同第3,512,982号、西独国出願公告第1
.189.380号、同第2,058,626号、同第
2,118.411号、特公昭43−4133号、米国
特許筒3.342,596号、特公昭47−4417号
、西独国出願公告第2,149.789号、特公昭39
−2825号、特公昭49−13566号等の各明細書
または公報に記載されている化合物、好ましくは、例え
ば5.6−ドリメチレンー7−ヒドロキシンーS−トリ
アゾロ (1,5−a)ピリミジン、5.6−テトラメ
チレンー7−ヒドロキシーS−トリアゾロ (1,5−
a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−s−ト
リアゾロ (1,5−a)ピリミジン、5−メチル−7
−ヒドロキシ−s−トリアゾロ (1,5−a)ピリミ
ジン、7−ヒトロキンンーs−トリアシロン(1,5−
a)ピリミジン、5−メチル−6−プロモーフ−ヒドロ
キシ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、没食
子酸エステル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ド
デシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メ
ルカプタン類(l−フェニル−5−メルカプトテトラゾ
ール、2−メルカプトベンツチアゾール)、ベンゾトリ
アゾール類(5−ブロムベンツトリアゾール、5=メチ
ルベンツトリアゾール)、ベンツイミダゾール類(6−
ニドロペンツイミダゾール)等を用いて安定化すること
ができる。
国特許筒2,444.607号、同第2,716.06
2号、同第3,512,982号、西独国出願公告第1
.189.380号、同第2,058,626号、同第
2,118.411号、特公昭43−4133号、米国
特許筒3.342,596号、特公昭47−4417号
、西独国出願公告第2,149.789号、特公昭39
−2825号、特公昭49−13566号等の各明細書
または公報に記載されている化合物、好ましくは、例え
ば5.6−ドリメチレンー7−ヒドロキシンーS−トリ
アゾロ (1,5−a)ピリミジン、5.6−テトラメ
チレンー7−ヒドロキシーS−トリアゾロ (1,5−
a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−s−ト
リアゾロ (1,5−a)ピリミジン、5−メチル−7
−ヒドロキシ−s−トリアゾロ (1,5−a)ピリミ
ジン、7−ヒトロキンンーs−トリアシロン(1,5−
a)ピリミジン、5−メチル−6−プロモーフ−ヒドロ
キシ−S−トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、没食
子酸エステル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ド
デシル、没食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メ
ルカプタン類(l−フェニル−5−メルカプトテトラゾ
ール、2−メルカプトベンツチアゾール)、ベンゾトリ
アゾール類(5−ブロムベンツトリアゾール、5=メチ
ルベンツトリアゾール)、ベンツイミダゾール類(6−
ニドロペンツイミダゾール)等を用いて安定化すること
ができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
本発明に好ましく用いられるアミノ化合物は、第1級〜
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
でない。
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
でない。
ジエチルアミノエタノール
ジエチルアミノブタノール
ジエチルアミノプロバン−1,2−ジオールジメチルア
ミノプロバン−1,2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパツール トリエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノプロパン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパノール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/又は現像液
中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中に
含有する態様である。
ミノプロバン−1,2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパツール トリエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノプロパン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパノール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/又は現像液
中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中に
含有する態様である。
アミノ化合物の含有量は含有させる対象、アミノ化合物
の種類等によって異なるが、コントラスト促進量が必要
である。
の種類等によって異なるが、コントラスト促進量が必要
である。
又現像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液
の処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や
抑制剤を含有せしめることができる。
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液
の処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や
抑制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテート、アク
リルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニルアルコー
ル、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼラチン誘
導体、例えば米国特許第2,614.928号、同第2
.525.753号の各明細書に記載されている如きフ
ェニルカルバミルゼラチン、アシル化ゼラチン、フタル
化ゼラチン、あるいは米国特許第2.548,520号
、同第2,831.767号の各明細書に記載されてい
る如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸、メタクリル酸エステル等のエチレン基を持つ
重合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等
を挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロゲ
ン化銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、保
護層、中間層等にも適用できる。
ンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテート、アク
リルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニルアルコー
ル、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼラチン誘
導体、例えば米国特許第2,614.928号、同第2
.525.753号の各明細書に記載されている如きフ
ェニルカルバミルゼラチン、アシル化ゼラチン、フタル
化ゼラチン、あるいは米国特許第2.548,520号
、同第2,831.767号の各明細書に記載されてい
る如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸、メタクリル酸エステル等のエチレン基を持つ
重合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等
を挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロゲ
ン化銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、保
護層、中間層等にも適用できる。
本発明に用いる支持体としては、例えばバライタ紙、ポ
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
ばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ホリプロピレンフィルム、ポ
リカーホネートフイルム、ポリスチレンフィルム等力代
表的なものとして包含される。これらの支持体は、それ
ぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適宜
選択される。
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
ばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ホリプロピレンフィルム、ポ
リカーホネートフイルム、ポリスチレンフィルム等力代
表的なものとして包含される。これらの支持体は、それ
ぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適宜
選択される。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としては次のものが挙げられる。HO−(
CH−CH)、 −OH型現像主薬の代表的なものとし
ては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコール、ピ
ロガロール及びその誘導体ならびにアスコルビン酸、ク
ロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、メチルハ
イドロキノン、2.3ジブロモハイドロキノン、2.5
−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4−クロロカ
テコール、4−7エニルーカテコール、3−メトキシ−
カテコール、4−アセチル−ピロガロール、アスコルビ
ン酸ソーダ等がある。
れる現像主薬としては次のものが挙げられる。HO−(
CH−CH)、 −OH型現像主薬の代表的なものとし
ては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコール、ピ
ロガロール及びその誘導体ならびにアスコルビン酸、ク
ロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、メチルハ
イドロキノン、2.3ジブロモハイドロキノン、2.5
−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4−クロロカ
テコール、4−7エニルーカテコール、3−メトキシ−
カテコール、4−アセチル−ピロガロール、アスコルビ
ン酸ソーダ等がある。
また、HO−(CH= CEI)、−NH2型現像現像
剤ては、オルト及びパラのアミノフェノールが代表的な
もので、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェ
ニルフエノール、2−アミノ−4−クロロ−6−7エニ
ルフエノール、N−メチル−p−アミノフェニール等が
ある。
剤ては、オルト及びパラのアミノフェノールが代表的な
もので、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェ
ニルフエノール、2−アミノ−4−クロロ−6−7エニ
ルフエノール、N−メチル−p−アミノフェニール等が
ある。
更に、82N−(CH−CH)、 −NHj型現像現像
剤ては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチ
ルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニ
リン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モル
ホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
剤ては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチ
ルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニ
リン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モル
ホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
ヘテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、■−フェニルー4−メチルー4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン!、
1−7二二ルー4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
リドン、l−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、■−フェニルー4−メチルー4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン!、
1−7二二ルー4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
その他、T、H,ジェームス著ザ・セオリイオブ・ザ・
ホトグラフィック・プロセス第4版(The Theo
ry of Photographic Proces
s FourthEdition)第291〜334頁
及びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソ
サエティ(Journal ofthe Americ
an Chemical 5ociety)第73巻、
第3,100頁(1951)に記載されているごとき現
像剤が本発明に有効に使用し得るものである。これらの
現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせてもよい
が、2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい。また
本発明にかかる感光材料の現像に使用する現像液には保
恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜
硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることはな
い。又保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化
合物を用いることができ、この場合その使用量は現像液
IQ当たり5〜500gが好ましく、より好ましくは2
0〜200gである。
ホトグラフィック・プロセス第4版(The Theo
ry of Photographic Proces
s FourthEdition)第291〜334頁
及びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソ
サエティ(Journal ofthe Americ
an Chemical 5ociety)第73巻、
第3,100頁(1951)に記載されているごとき現
像剤が本発明に有効に使用し得るものである。これらの
現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせてもよい
が、2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい。また
本発明にかかる感光材料の現像に使用する現像液には保
恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜
硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることはな
い。又保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化
合物を用いることができ、この場合その使用量は現像液
IQ当たり5〜500gが好ましく、より好ましくは2
0〜200gである。
また現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させ
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール
、1.5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液112当たり5〜500
gで、より好ましくは20〜200gである。これらの
有機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール
、1.5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液112当たり5〜500
gで、より好ましくは20〜200gである。これらの
有機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることがで
きる。
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることがで
きる。
上記の組成になる現像液のpH値は好ましくは9〜13
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜1
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜1
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50°C以下が好ましく、特に25°C〜40’C!
前後が好ましく、又現像時間は2分以内に終了すること
が一般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好
効果をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例
えば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜
、中和等の工程を採用することは任意であり、これらは
適宜省略することもできる。更にまた、これらの処理は
皿現像、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー
現像、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50°C以下が好ましく、特に25°C〜40’C!
前後が好ましく、又現像時間は2分以内に終了すること
が一般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好
効果をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例
えば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜
、中和等の工程を採用することは任意であり、これらは
適宜省略することもできる。更にまた、これらの処理は
皿現像、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー
現像、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
なお、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施
例に限定されるものではない。
例に限定されるものではない。
実施例−■
pH3,0の酸性雰囲気下でコントロールダブルジェッ
ト法によりロジウムを銀1モル当たり10−’モル含有
する下記表−1に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成単分
散度の粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニ
ンを1%のゼラチン水溶液112当たり30mg含有す
る系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4−
ヒドロキシ−1,3,3a、7テトラザインデンをハロ
ゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱
塩した。
ト法によりロジウムを銀1モル当たり10−’モル含有
する下記表−1に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成単分
散度の粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニ
ンを1%のゼラチン水溶液112当たり30mg含有す
る系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4−
ヒドロキシ−1,3,3a、7テトラザインデンをハロ
ゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱
塩した。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−テトラザイン
デンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安定
剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3゜38.
7−テトラザインデンを加えた。
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−テトラザイン
デンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安定
剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3゜38.
7−テトラザインデンを加えた。
(ハロゲン化銀乳剤層)
前記各乳剤に添加剤を下記の付量になるよう調整添加し
、特開昭59−19941号の実施例−1によるラテッ
クス下引処理しtニー (100μm厚さ)ポリエチレ
ンテレフタレート支持体上に塗布した。
、特開昭59−19941号の実施例−1によるラテッ
クス下引処理しtニー (100μm厚さ)ポリエチレ
ンテレフタレート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/m”テトラフ
ェニルホスホニウムクロライド30 mg/m2 サポニン 200 ag/m2
ポリエチレングリコール 100 mg/m2
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100 mg
/m’ ハイドロキノン20omg/I!12 フ二二ドン 100 mg/m”
スチレン−マレイン酸重合体200 mg/m”没食
子酸ブチルエステル 500 mg/m2ヒド
ラジン〔一般式〔I〕〕の化合物 表−1に示す 5−メチルベンゾトリアシーL 30 mg/m
2一般式(V)の減感色素 表−1に示す 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
30 mg/m”イナ
ートオセインゼラチン (等電点4.9)1.5 g
/m” 1−(p−アセチルアミドフェニル)−5メルヵプトチ
トラゾール 30 mg/m2銀量
2.8 g/ln”(乳剤層保
護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/m”テトラフ
ェニルホスホニウムクロライド30 mg/m2 サポニン 200 ag/m2
ポリエチレングリコール 100 mg/m2
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100 mg
/m’ ハイドロキノン20omg/I!12 フ二二ドン 100 mg/m”
スチレン−マレイン酸重合体200 mg/m”没食
子酸ブチルエステル 500 mg/m2ヒド
ラジン〔一般式〔I〕〕の化合物 表−1に示す 5−メチルベンゾトリアシーL 30 mg/m
2一般式(V)の減感色素 表−1に示す 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸
30 mg/m”イナ
ートオセインゼラチン (等電点4.9)1.5 g
/m” 1−(p−アセチルアミドフェニル)−5メルヵプトチ
トラゾール 30 mg/m2銀量
2.8 g/ln”(乳剤層保
護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300mg/
m” マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3゜5μ
m) 100 mg/m”硝
酸リチウム塩 30 mg/m2酸処
理ゼラチン(等電点7.0) 1.2 g/+”
コロイダルシリカ 50 mg/m”
スチレン−マレイン酸共fE 合体100 mg/m
”媒染剤 (バッキング層) 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側の支持体
上に塗布した。
m” マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3゜5μ
m) 100 mg/m”硝
酸リチウム塩 30 mg/m2酸処
理ゼラチン(等電点7.0) 1.2 g/+”
コロイダルシリカ 50 mg/m”
スチレン−マレイン酸共fE 合体100 mg/m
”媒染剤 (バッキング層) 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側の支持体
上に塗布した。
ハイドロキノン 100 mg/m
2フェニドン3oIIIg/1112 ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン共
重合体 0−5 g/ m”本発明のポリマ
ー 表−1に示すスチレン−マレイン酸共
重合体 100 mg/m”クエン酸
40 mg/ m”サポニン
200 B/m”ベンゾトリアゾール
100 mg/ m’硝酸リチウム塩
30 rag/rn2以ど寅〉 、□+1.ブ ソニノ バンキング染料 (a) (b) (c) SO,Na オセインゼラチン 2.0g/m”(バ
ッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。
2フェニドン3oIIIg/1112 ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン共
重合体 0−5 g/ m”本発明のポリマ
ー 表−1に示すスチレン−マレイン酸共
重合体 100 mg/m”クエン酸
40 mg/ m”サポニン
200 B/m”ベンゾトリアゾール
100 mg/ m’硝酸リチウム塩
30 rag/rn2以ど寅〉 、□+1.ブ ソニノ バンキング染料 (a) (b) (c) SO,Na オセインゼラチン 2.0g/m”(バ
ッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。
ジオクチルスルホコハク酸エステル
300 mg/m”
マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径4.0μ
+n) 100 mg/m2コロイ
ダルシリカ 30 mg/m”オセイ
ンゼラチン(等電点4.9) 1.1g/m”弗素
化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50 mg/m’ト
リアジン型硬膜剤 表−1に示す以上のよう
にして得られた試料を表−■に示す光源にて露光し下記
に示す現像液、定着液を使用して現像処理した。
+n) 100 mg/m2コロイ
ダルシリカ 30 mg/m”オセイ
ンゼラチン(等電点4.9) 1.1g/m”弗素
化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50 mg/m’ト
リアジン型硬膜剤 表−1に示す以上のよう
にして得られた試料を表−■に示す光源にて露光し下記
に示す現像液、定着液を使用して現像処理した。
(露光方法)
400〜420nmに比エネルギーの極大を持つ「7球
」と呼ばれる米国ヒユージョン(FUS l0N)製の
at極放電光源、または350〜380nmに比エネル
ギーの極大を持つrD球」と呼ばれる従来の光源をガラ
ス版下に装着し、ガラス面上に、抜き文字品質を評価で
きるように原稿と感光材料を載せ露光した。
」と呼ばれる米国ヒユージョン(FUS l0N)製の
at極放電光源、または350〜380nmに比エネル
ギーの極大を持つrD球」と呼ばれる従来の光源をガラ
ス版下に装着し、ガラス面上に、抜き文字品質を評価で
きるように原稿と感光材料を載せ露光した。
く現像液処方〉
ハイドロキノン 25 gl−フェ
ニル−4,4ジメチル−3− ピラゾリドン 0.4g臭化ナトリ
ウム 3g5−メチルベンゾトリアゾ
ール 0.3g5−ニトロインダゾール 0
−05g5gジエチルアミノプロパン−2−ジオール0
g 亜硫酸カリウム 90 g5−スルホ
サリチル酸ナトリウム75 gエチレンジアミン四酢
酸ナトリウム g 水でlQに仕上げた。
ニル−4,4ジメチル−3− ピラゾリドン 0.4g臭化ナトリ
ウム 3g5−メチルベンゾトリアゾ
ール 0.3g5−ニトロインダゾール 0
−05g5gジエチルアミノプロパン−2−ジオール0
g 亜硫酸カリウム 90 g5−スルホ
サリチル酸ナトリウム75 gエチレンジアミン四酢
酸ナトリウム g 水でlQに仕上げた。
p)lは、苛性ソーダで11.5とした。
〈定着液処方〉
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム(72,5w%水溶液)240
ml 亜硫酸ナトリウム 17 g酢酸ナト
リウム・3水塩 6,5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g酢酸(90w%水溶液) 13.
6mQ(組成り) 純水(イオン交換水) 17 tnQ硫
酸(50w%の水溶液) 4.7g硫酸アル
ミニウム(AI220.換算含量が8.1v%の水溶液
) 26.5g定着液の使用時に水50
0mff中に上記組成A1組成りの順に溶かし、112
に仕上げて用いた。この定着液のp8は約4.3であっ
I;。
ml 亜硫酸ナトリウム 17 g酢酸ナト
リウム・3水塩 6,5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g酢酸(90w%水溶液) 13.
6mQ(組成り) 純水(イオン交換水) 17 tnQ硫
酸(50w%の水溶液) 4.7g硫酸アル
ミニウム(AI220.換算含量が8.1v%の水溶液
) 26.5g定着液の使用時に水50
0mff中に上記組成A1組成りの順に溶かし、112
に仕上げて用いた。この定着液のp8は約4.3であっ
I;。
〈現像処理条件〉
(工程) (温度) (時間)現像
40°C15秒 定着 35°0 10秒水洗 常
温 10秒 評価は以下のようにして行い、結果を表−1に示した。
40°C15秒 定着 35°0 10秒水洗 常
温 10秒 評価は以下のようにして行い、結果を表−1に示した。
(写真性能評価方法)
(1)ピンホール改良性能
貼り込み用ベース上に網フィルムを載せて、更に網フィ
ルムの周辺を透明な製版用スコッチテープで固定してお
き、露光現像処理した後、ピンホールの発生がないとき
を 「5」、最も発生が多くて悪いレベルを rlJと
して5段階相対評価をした。
ルムの周辺を透明な製版用スコッチテープで固定してお
き、露光現像処理した後、ピンホールの発生がないとき
を 「5」、最も発生が多くて悪いレベルを rlJと
して5段階相対評価をした。
(2)抜き文字品質
抜き文字品質は、50%の網点面積を持つ部分が、返し
用感光材料に50%の網点面積となるように適正露光し
たとき、線画フィルム上の50μlの線巾が再現される
画質を言い、非常に良い抜き文字画質を 「5」とし、
最も悪いレベルを rl+とじて相対5段階評価をした
。
用感光材料に50%の網点面積となるように適正露光し
たとき、線画フィルム上の50μlの線巾が再現される
画質を言い、非常に良い抜き文字画質を 「5」とし、
最も悪いレベルを rl+とじて相対5段階評価をした
。
表−1よりハロゲン化銀乳剤層中にヒドラジン化合物(
一般式〔I〕)及び減感色素または紫外線吸収剤(一般
式〔v〕を含有した層上に保護層として染料及び本発明
に係るポリスチレンスルホン酸塩を含有する層を設ける
ことにより、ピンホールの発生を抑制し、かつ、抜き文
字性能も改良していることがわかる。
一般式〔I〕)及び減感色素または紫外線吸収剤(一般
式〔v〕を含有した層上に保護層として染料及び本発明
に係るポリスチレンスルホン酸塩を含有する層を設ける
ことにより、ピンホールの発生を抑制し、かつ、抜き文
字性能も改良していることがわかる。
さらに、露光用光源として400〜420nmにエネル
ギー極大を有する光源を用いると著るしく抜き文字性能
が改良され、ピンホール発生も少ない感光材料が得られ
ることを示している。
ギー極大を有する光源を用いると著るしく抜き文字性能
が改良され、ピンホール発生も少ない感光材料が得られ
ることを示している。
実施例−2
実施例−■と同様にして試料を作成したが、ここでは、
主・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。
主・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。
主粒子は平均粒径0.12μm1単分散度15、ヨード
2モル%を含む立法晶沃臭化銀粒子で、粒子内部にロジ
ウムを10−’モル含有する。
2モル%を含む立法晶沃臭化銀粒子で、粒子内部にロジ
ウムを10−’モル含有する。
又副粒子は平均粒径0.08μm1単分散度15で、内
部にロジウムを2 X 10−’モル含有し、主粒子よ
り感度が低い臭化銀2モル%含有の立方晶の塩臭化銀粒
子であった。主粒子1に対して副粒子IOの割合で混合
して、実施例−1と同様な添加剤を加えて試料を作成し
、露光し、現像処理した。
部にロジウムを2 X 10−’モル含有し、主粒子よ
り感度が低い臭化銀2モル%含有の立方晶の塩臭化銀粒
子であった。主粒子1に対して副粒子IOの割合で混合
して、実施例−1と同様な添加剤を加えて試料を作成し
、露光し、現像処理した。
表−2の結果からも明らかなように、本発明に係る組合
せに於て、ハロゲン化銀乳剤層中にテトラゾリウム化合
物を用いた場合にも金属酸化物を含有する層を設けるこ
とにより、ピンホールの発生を抑制し、かつ抜き文字性
能を改良していることが分かる。
せに於て、ハロゲン化銀乳剤層中にテトラゾリウム化合
物を用いた場合にも金属酸化物を含有する層を設けるこ
とにより、ピンホールの発生を抑制し、かつ抜き文字性
能を改良していることが分かる。
上述のように本発明の画像形成方法によれば写真特性と
してピンホールの発生が抑えられ、かつ、抜き文字品質
のよいハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成がで
きる。
してピンホールの発生が抑えられ、かつ、抜き文字品質
のよいハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成がで
きる。
Claims (1)
- ヒドラジン化合物又はテトラゾリム化合物を含有する感
光性乳剤層を設けた支持体の反対側にスルホン酸の塩を
持つポリマーまたはこれと組み合わせた共重合ポリマー
を含有する親水性コロイド層をビニルスルホン型または
トリアジン型硬膜剤で硬化させたことを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63276561A JP2811311B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63276561A JP2811311B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02120853A true JPH02120853A (ja) | 1990-05-08 |
| JP2811311B2 JP2811311B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=17571207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63276561A Expired - Fee Related JP2811311B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2811311B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6076744A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真用印画紙 |
| JPS61249047A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS62222242A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 超硬調ネガ型写真感光材料 |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP63276561A patent/JP2811311B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6076744A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真用印画紙 |
| JPS61249047A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS62222242A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 超硬調ネガ型写真感光材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2811311B2 (ja) | 1998-10-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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