JPH02121309A - Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ磁芯の製造法及びそれを用いた磁気ヘッド - Google Patents

Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ磁芯の製造法及びそれを用いた磁気ヘッド

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JPH02121309A
JPH02121309A JP63274830A JP27483088A JPH02121309A JP H02121309 A JPH02121309 A JP H02121309A JP 63274830 A JP63274830 A JP 63274830A JP 27483088 A JP27483088 A JP 27483088A JP H02121309 A JPH02121309 A JP H02121309A
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film
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三男 里見
Takeshi Hirota
健 広田
Koichi Kugimiya
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、磁気ヘッド用磁芯に関するものである。
従来の技術 従来、合金積層タイプの磁気ヘッドとして基板の上に薄
膜作製装置を用い合金を形成した後層間絶縁材料をその
上に形成し以後所定の厚みに交互に積層した後反対側の
基板をガラス接着等により接着する所謂サンドイッチタ
イプの磁気ヘッドが作製されている。
発明が解決しようとする課題 このような従来の構成である積層タイプの磁気ヘッドは
、蒸着やスパッタなどの高価な薄膜作製装置が必要であ
るばかりか、その堆積速度は非常に遅（、マグネトロン
型でも膜質を考慮するとせいぜい５００Ａ／分程度であ
り、例えば５０ミクロンのトラック幅を有する磁気ヘッ
ドを作製しようとすると単層でも約１７時間必要であり
、積層タイプにすると更に時間が必要である。
また基板と磁性材料のサンドイッチタイプなので両者間
のテープ走行による段差所謂偏摩耗が問題となる。
課題を解決するための手段 Ｆｅ−Ｓｉ−Ａ！粉末をベースフィルム上に膜形成した
後、前記ベースフィルム上の膜を積層し熱間押し出し成
形することにより、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ磁芯を得る。
作用 薄膜作製装置を用いずに積層タイプの磁芯を得ることに
より、短時間で効率よく安価に作製出来、同時に耐摩耗
性も付与しているのでヘッド摩耗が少ない又基板材料を
一切用いないのでテープ走行による偏摩耗が問題となら
ない。
実施例 以下、具体的な実施例を挙げて説明を行う。
実施例 平均粒径２ミクロンに粉砕したＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ粉末１
００ｇに、樟脳５ｇ、ジブチルフタレート２ｇ、酢酸エ
チル２０ｇ、酢酸ブチル３０ｇを加え、ボールミルを用
い２０時間混合してスラリーを作製した後、予め表面に
ＳｉＯ２を約３０００Ａ付着したＰＥＴ（ポリエチレン
テレフタレト）フィルム上にドクターブレード法により
約２０ミクロンの厚みに塗布し乾燥した後、この膜をＰ
ＥＴフィルム上から剥がして、第１図（Ａ）に示す様に
渦巻き状に巻き取った。この時Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ膜の片
側には図では示さなかったが、ＰＥＴフィルム上に付着
したＳ　ｉ　Ｏ２が転写されている。
この状態で不活性雰囲気中で２００℃でバインダー分を
除去した後、ＳＯ８の容器に脱気封入した後、空気中で
誘導加熱により１０００℃に加熱しＳＵＳの容器の径が
約１／３になるように熱間押し出しした。
こうして得られたＦｅ−Ｓｉ−Ａｌコア材は一層が約５
ミクロンのＳｉＯ２で絶縁された積層コアとなる。この
コア材より第２図（Ａ）に示すように切り出し、ノツチ
３及び巻線窓４を加工する。
しかる後コア材の耐摩耗性を改善する目的で、熱処理を
施す。例えば酸素を含むガス気流中または真空中で熱処
理すると、被処理材料の表面のみ、非常に耐摩耗性の良
好な層が出来る事が知られている。従って従来はへラド
チップにして熱処理していた。しかるに本発明では、ノ
ツチ３及び巻線窓４を加工後熱処理する事で、磁気ヘッ
ドのテープ摺動部のほぼ全域にわたって耐摩耗性の良好
な部分が使用出来る。なおこの時巻線窓４の位置はギャ
ップ深さが出来るだけ最終ギャップ深さに近い事が望ま
しいのは言うまでもない。
この時の熱処理条件としては、例えば５０ｐｐｍ程度の
酸素を含む不活性ガスもしくは水素ガスまたは真空中に
おいて８５０℃以上１０５０℃未満の温度で約２０時間
熱処理するのが好ましい。
８５０℃以下もしくは１０５０℃以上の温度では耐摩耗
性は十分に得られない。
次にノツチ３にガラス５を充填しコア材１．２の突き合
わせ面を鏡面に仕上げ、所定の厚みのギャップスペーサ
を付けた後（図示せず）第２図（Ｂ）に示すようにギャ
ップ形成する。しかる後第２図（Ｃ）に示すように切り
出してヘッドチップが完成する。
こうして完成したヘッドを、実際のＶＴＲ装置に取り付
は走行テストを行ったところ、長時間安定したヘッド出
力が得られた。又摩耗量も１０〜２２μｍ／　５００時
間（テープ摺動面積０．１３Ｘ２１ａ２）と十分である
事が分かった。参考迄に前述の熱処理を施さない物の同
一条件の摩耗量は、４０〜７０μｍ／　５００時間であ
った。
以上の実施例では、第１図（Ａ）に示す様に渦巻キ状に
巻き取ったものについて述べたが、材料歩留まりを考慮
すると、第１図（Ｂ）に示した矩形状のものがより望ま
しい。またヘッド形状についても片側にノツチを配した
形状について述べたが両側にノツチを配した形状につい
てはなお望ましい。
なお上記実施例ではＦｅ−Ｓｉ−Ａ１合金について述べ
たが、他の合金、例えばパーマロイや非晶質合金につい
ても応用が可能である。又ＰＥＴフィルム上の絶縁物と
して、ＳｉＯ２について述べたが、非磁性で絶縁物のセ
ラミック、例えば、Ａｌ２Ｏ３やＺｒＯ２等の酸化物は
もとより窒化物や炭化物で熱的に安定でありかつ磁性材
料と反応しない材料であれば良い。又、上記実施例では
、ベースフィルム上に予め非磁性絶縁体の粉末を塗布し
ておき、この非磁性絶縁体の粉末をＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ膜
に転写する方法について述べたが、スプレー法、印刷法
、スピンナー等による方法も考えられる。
発明の効果 この発明によれば、薄膜作製装置を用いずに、積層タイ
プの磁芯を短時間で効率よく安価に作製出来、積層タイ
プであるので高周波での磁気特性が良好である。又同時
に耐摩耗性も付与されるのでこれを用いた磁気ヘッドは
摩耗特性が良好であり基板材料を必要としない。従って
テープ走行による偏摩耗が問題とならず構造も簡単なの
で製造が容易となる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例に於けるＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ磁
芯の製造法を説明するためのグリーンシートの斜視図、
第２図は同実施例により製造された積層タイプの磁芯か
ら磁気ヘッドを作製する製造工程を示す図である。 １．２・・・・コア材、３・・・・ノツチ、４・・・・
巻線窓、５・・・・ガラス、６・・・・ギャップ。 代理人の氏名　弁理士　粟野重孝　はか１名１図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ粉末をベースフィルム上に膜形
    成した後、前記ベースフィルム上の膜を積層し熱間押し
    出し成形することを特徴とするＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ磁芯の
    製造法。
  2. （２）ベースフィルム上に膜形成した片面に、非磁性絶
    縁体を付着させた後、積層し熱間押し出し成形すること
    を特徴とする請求項１に記載のＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ磁芯の
    製造法。
  3. （３）ベースフィルム上に予め非磁性絶縁体の粉末を塗
    布しておきこの非磁性絶縁体の粉末をＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ
    膜に転写することを特徴とする請求項１に記載のＦｅ−
    Ｓｉ−Ａｌ磁芯の製造法。
  4. （４）請求項１に記載の積層Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ磁芯を用
    い、ギャップ形成以前の工程で、不純物ガスとして酸素
    を含む不活性ガスもしくは水素ガスまたは真空中におい
    て８５０℃以上１０５０℃未満の温度で熱処理し、耐摩
    耗性を改善したことを特徴とする磁気ヘッド。
JP63274830A 1988-10-31 1988-10-31 Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ磁芯の製造法及びそれを用いた磁気ヘッド Pending JPH02121309A (ja)

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