JPH0212607A - 磁気ヘッド用コアスライダ及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド用コアスライダ及びその製造方法Info
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- JPH0212607A JPH0212607A JP16186888A JP16186888A JPH0212607A JP H0212607 A JPH0212607 A JP H0212607A JP 16186888 A JP16186888 A JP 16186888A JP 16186888 A JP16186888 A JP 16186888A JP H0212607 A JPH0212607 A JP H0212607A
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
この発明は、磁気ディスクに記録・再生を行うための浮
動式の磁気ヘッドに深川される磁気ヘッド用コアスライ
ダ及びその製造方法に関する。
動式の磁気ヘッドに深川される磁気ヘッド用コアスライ
ダ及びその製造方法に関する。
[従来の技術]
従来、浮動式磁気ヘッドのコアスライダとして、Mn−
Znフェライト等の焼結フェライトを素材とするモノリ
シックタイプのものが用いられている。
Znフェライト等の焼結フェライトを素材とするモノリ
シックタイプのものが用いられている。
これは、第1図に示すように、いずれもフェライトを素
材とするコ字状のコアlと平板状のスライダ2とがその
間に磁気ギャップ3を構成するようにガラス4で接合さ
れているもので、第2図及び第3図に示す方法で製造さ
れる。すなわち、断面がコ字状の第1コアブロツク5と
平板状の第2コアブロツク6とをガラス4を用いて接合
して一体化した後、第1コアブロツク5を所定のコア幅
になるように切削し、ついでリノッドディスクに対向す
る面をラップ研摩して平滑に仕上げ、さらにこの面に浮
動性を上げるための溝7を加工し、所定の寸法にチップ
スライスしてコアスライダとする工程となる。
材とするコ字状のコアlと平板状のスライダ2とがその
間に磁気ギャップ3を構成するようにガラス4で接合さ
れているもので、第2図及び第3図に示す方法で製造さ
れる。すなわち、断面がコ字状の第1コアブロツク5と
平板状の第2コアブロツク6とをガラス4を用いて接合
して一体化した後、第1コアブロツク5を所定のコア幅
になるように切削し、ついでリノッドディスクに対向す
る面をラップ研摩して平滑に仕上げ、さらにこの面に浮
動性を上げるための溝7を加工し、所定の寸法にチップ
スライスしてコアスライダとする工程となる。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、このような従来の磁気コアスライダにお
いては、表層部のフェライト粒子が脱落しやすく、この
脱落粒子が磁気記憶媒体である磁気ディスクに付着し、
磁気ヘッドがこの脱落粒子に衝突してディスク表面の磁
性層を破壊するいわゆるヘッドクラッシュを起こす原因
となる。
いては、表層部のフェライト粒子が脱落しやすく、この
脱落粒子が磁気記憶媒体である磁気ディスクに付着し、
磁気ヘッドがこの脱落粒子に衝突してディスク表面の磁
性層を破壊するいわゆるヘッドクラッシュを起こす原因
となる。
[課題を解決するための手段]
上記のような課題を解決するために、発明者らはフェラ
イトの脱粒の原因を突き止めるための種々のテストを行
った。
イトの脱粒の原因を突き止めるための種々のテストを行
った。
脱粒を加速する試験方法として、耐高温高湿試験を温度
80℃−湿度93%−保持時間96Hrの条件に設定し
て行い、車面の処理を変えたサンプルについて脱落した
粒数を測定したところ、このような条件下での試験にお
いては、フェライト脱粒は長時間継続的に発生すること
が判明した。
80℃−湿度93%−保持時間96Hrの条件に設定し
て行い、車面の処理を変えたサンプルについて脱落した
粒数を測定したところ、このような条件下での試験にお
いては、フェライト脱粒は長時間継続的に発生すること
が判明した。
また、脱落した微小なチップはその大きさにかかわらず
コアスライダ本体から離れた位置に飛散しており、脱落
したチップの走査型電子顕微鏡観察においては、加工に
よる塑性流動面が多く発見されている。これらの現象は
いずれも、時間の経過とともに応力が解放されてマイク
ロクラックが進展することによって脱粒することを示し
ており、この現象が時間遅れ破壊または静的疲労破壊の
典型的な例であることが推定される。静的疲労破壊とは
、荷重かゆっくりと加えられたり、瞬間的破壊に必要な
水準以下の荷重が長時間加えられた場合に、材料中に最
初から存在した欠陥が大きく成長し、本来の破壊強度よ
りはるかに低い荷重(応力)で破壊が起きるものである
。
コアスライダ本体から離れた位置に飛散しており、脱落
したチップの走査型電子顕微鏡観察においては、加工に
よる塑性流動面が多く発見されている。これらの現象は
いずれも、時間の経過とともに応力が解放されてマイク
ロクラックが進展することによって脱粒することを示し
ており、この現象が時間遅れ破壊または静的疲労破壊の
典型的な例であることが推定される。静的疲労破壊とは
、荷重かゆっくりと加えられたり、瞬間的破壊に必要な
水準以下の荷重が長時間加えられた場合に、材料中に最
初から存在した欠陥が大きく成長し、本来の破壊強度よ
りはるかに低い荷重(応力)で破壊が起きるものである
。
このような静的疲労破壊において、欠陥の進展は、化学
的作用による場合、機械的作用による場合、熱的作用に
よる場合等がある。このメカニズムをコアスライダの場
合に当てはめると、切削等の加工によりフェライト表面
にマイクロクラックが発生し、これが残留応力によって
成長すると考えられる。耐高温高湿試験では、マイクロ
クラックの先端部の化学的に反応性の高い面にに水分が
作用し、フェライト中のFe−0−Fe結合を切るよう
な加水分解反応を惹起し、マイクロクラックをさらに進
展させると考えられる。
的作用による場合、機械的作用による場合、熱的作用に
よる場合等がある。このメカニズムをコアスライダの場
合に当てはめると、切削等の加工によりフェライト表面
にマイクロクラックが発生し、これが残留応力によって
成長すると考えられる。耐高温高湿試験では、マイクロ
クラックの先端部の化学的に反応性の高い面にに水分が
作用し、フェライト中のFe−0−Fe結合を切るよう
な加水分解反応を惹起し、マイクロクラックをさらに進
展させると考えられる。
そこで、発明者らは、加工後のコアスライダに種々の熱
処理を行って耐高温高湿試験を行った結果、表層を酸化
してヘマタイト薄膜を形成したことにより脱粒を抑えら
れることを突き止めた。また、そのための具体的処理方
法として、コアスライダを250〜350℃の温度範囲
において5〜50時間酸化雰囲気中で熱処理を行うこと
が最適であることを突き止めた。250℃以下の温度で
は、残留応力の緩和及び酸化(ヘマタイト)薄膜の形成
がいずれも不充分で脱粒防止の効果がなく、また、35
0℃以上にすると、ヘマタイト層の析出が多くなって磁
性が低下する。300℃の温度において熱処理時間は5
時間以下では効果がなく、50時間でほぼ効果が飽和す
る。
処理を行って耐高温高湿試験を行った結果、表層を酸化
してヘマタイト薄膜を形成したことにより脱粒を抑えら
れることを突き止めた。また、そのための具体的処理方
法として、コアスライダを250〜350℃の温度範囲
において5〜50時間酸化雰囲気中で熱処理を行うこと
が最適であることを突き止めた。250℃以下の温度で
は、残留応力の緩和及び酸化(ヘマタイト)薄膜の形成
がいずれも不充分で脱粒防止の効果がなく、また、35
0℃以上にすると、ヘマタイト層の析出が多くなって磁
性が低下する。300℃の温度において熱処理時間は5
時間以下では効果がなく、50時間でほぼ効果が飽和す
る。
[作用]
このような浮動式磁気ヘッド用コアスライダにおいては
、表層にヘマタイト薄膜が形成されているので、表層を
緻密にして内部に水分の浸透を防ぎ、マイクロクラック
の先端での加水分解反応を抑制する。
、表層にヘマタイト薄膜が形成されているので、表層を
緻密にして内部に水分の浸透を防ぎ、マイクロクラック
の先端での加水分解反応を抑制する。
また、上記のように機械加工後に熱処理を行うことによ
り、 4 F’es04+Ot→6 FetO3の反応が起き
、このときに生成するヘマタイト(Pet’s)薄膜が
表層を緻密に覆い、また、熱処理によって機械加工で生
成した残留応力歪みが除去されるので、いずれの場合も
マイクロクラックの進展が阻止され、脱粒量が大幅に低
減される。
り、 4 F’es04+Ot→6 FetO3の反応が起き
、このときに生成するヘマタイト(Pet’s)薄膜が
表層を緻密に覆い、また、熱処理によって機械加工で生
成した残留応力歪みが除去されるので、いずれの場合も
マイクロクラックの進展が阻止され、脱粒量が大幅に低
減される。
[実施例コ
以下、図面を参照してこの発明の詳細な説明する。
磁気ヘッド用コアスライダの素材の製造方法を述べると
、原料である金属の酸化物や炭酸塩など(例えば、α−
F ego s、M n304.M nCO3,Z n
O)をフェライトの分子成分比に秤量し、これを機械的
に混合し、900〜1200℃で加熱すると、次に示す
ような反応によりフェライトが生成される。
、原料である金属の酸化物や炭酸塩など(例えば、α−
F ego s、M n304.M nCO3,Z n
O)をフェライトの分子成分比に秤量し、これを機械的
に混合し、900〜1200℃で加熱すると、次に示す
ような反応によりフェライトが生成される。
Mno + F eto 3→M nF eto 4Z
no + F eto 3−Th Z nP ego
aこのようにして作った粉末を適当な可撓性容器に入
れ、静圧を与えて成形した後、焼結させると同相反応に
より焼結フェライトが得られ、さらに熱間静水圧プレス
で、より高密度のフェライトが得られる。
no + F eto 3−Th Z nP ego
aこのようにして作った粉末を適当な可撓性容器に入
れ、静圧を与えて成形した後、焼結させると同相反応に
より焼結フェライトが得られ、さらに熱間静水圧プレス
で、より高密度のフェライトが得られる。
なお、粉末の製造方法としては、液相反応による方法を
用いてもよく、また、ホットプレス法により成形と焼結
を同時に行ってもよい。
用いてもよく、また、ホットプレス法により成形と焼結
を同時に行ってもよい。
このような焼結フェライトを、第1図に示すスライダ2
とほぼ同じ大きさの長方形平板状とするように機械加工
を施して試験片を複数形成した。
とほぼ同じ大きさの長方形平板状とするように機械加工
を施して試験片を複数形成した。
この試験片を、空気中にて種々の温度で20時間保持し
て熱処理した後、耐高温高湿試験を行ったところ、フェ
ライトの脱落数は第4図に示すようになった。すなわち
、フェライトの脱落数は250℃を境に大幅に低下し、
300℃を越えるとほぼOとなった。これは、熱処理に
よる応力歪みの緩和と、酸化反応による緻密なヘマタイ
ト薄膜の形成によるものと考えられる。
て熱処理した後、耐高温高湿試験を行ったところ、フェ
ライトの脱落数は第4図に示すようになった。すなわち
、フェライトの脱落数は250℃を境に大幅に低下し、
300℃を越えるとほぼOとなった。これは、熱処理に
よる応力歪みの緩和と、酸化反応による緻密なヘマタイ
ト薄膜の形成によるものと考えられる。
これらの試験片について各温度の熱処理後の表面抵抗値
及び透磁率を調べたところ、第5図に示すように、表面
抵抗値は300℃を越えたところで上昇する傾向を示し
、また、透磁率ら熱処理温度が300℃を越えるところ
で上昇し、400°Cでピークを持つことか判明した。
及び透磁率を調べたところ、第5図に示すように、表面
抵抗値は300℃を越えたところで上昇する傾向を示し
、また、透磁率ら熱処理温度が300℃を越えるところ
で上昇し、400°Cでピークを持つことか判明した。
これは、300℃を越えると表面に酸化被膜が形成され
ること、及びフェライト自体がアニールされて、加工時
に形成された表面変質層が緩和され、歪みが解消されて
特性が回復するためと考えられる。
ること、及びフェライト自体がアニールされて、加工時
に形成された表面変質層が緩和され、歪みが解消されて
特性が回復するためと考えられる。
次に、熱処理時間の影響を知るために、温度を300℃
とし、保持時間を変化させた試験片について耐高温高湿
試験を行った。この結果、第6図に示すように、保持時
間が25時間になるまでは脱落数が漸減し、25時間保
持すれば脱落防止効果が飽和することが判った。
とし、保持時間を変化させた試験片について耐高温高湿
試験を行った。この結果、第6図に示すように、保持時
間が25時間になるまでは脱落数が漸減し、25時間保
持すれば脱落防止効果が飽和することが判った。
[発明の効果]
以上詳述したように、本願の第1の発明は、フェライト
からなるコアブロックを接合してなるコアスライダの表
層にヘマタイト薄膜を形成したことにより、フェライト
の内層への水分の浸透を阻止してマイクロクラックの進
展を防ぎ、表層に緻密な連結層を形成してフェライト粒
子の脱落を防止する。
からなるコアブロックを接合してなるコアスライダの表
層にヘマタイト薄膜を形成したことにより、フェライト
の内層への水分の浸透を阻止してマイクロクラックの進
展を防ぎ、表層に緻密な連結層を形成してフェライト粒
子の脱落を防止する。
また、本願の第2の発明は、機械加工したコアスライダ
を、250〜350℃の温度範囲において5〜50時間
空気中で熱処理を行うことにより、フェライト表面の残
留応力を除くとともにフェライト表面に緻密な酸化被膜
を形成するので、高温高湿の悪条件のもとにおいても、
静的疲労破壊のメカニズムによるフェライト表面からの
脱粒を防止する。
を、250〜350℃の温度範囲において5〜50時間
空気中で熱処理を行うことにより、フェライト表面の残
留応力を除くとともにフェライト表面に緻密な酸化被膜
を形成するので、高温高湿の悪条件のもとにおいても、
静的疲労破壊のメカニズムによるフェライト表面からの
脱粒を防止する。
従って、本願発明は、復雑な構造のモノリシック磁気ヘ
ッド用コアスライダにおいても、比較的簡単な手段によ
りフェライトの脱粒を防ぎ、脱落粒子がヘッドと衝突し
て磁気媒体の磁性層を破壊することを防止するという優
れた効果を奏するものである。
ッド用コアスライダにおいても、比較的簡単な手段によ
りフェライトの脱粒を防ぎ、脱落粒子がヘッドと衝突し
て磁気媒体の磁性層を破壊することを防止するという優
れた効果を奏するものである。
第1図はこの発明の磁気ヘッド用コアスライダの一例を
示す図、第2図及び第3図はその製造工程を示す図、第
4図は熱処理温度と脱粒数の関係を示すグラフ、第5図
は熱処理温度と表面抵抗値及び透磁率の関係を示すグラ
フ、第6図は保持時間と脱粒数の関係を示すグラフであ
る。
示す図、第2図及び第3図はその製造工程を示す図、第
4図は熱処理温度と脱粒数の関係を示すグラフ、第5図
は熱処理温度と表面抵抗値及び透磁率の関係を示すグラ
フ、第6図は保持時間と脱粒数の関係を示すグラフであ
る。
Claims (2)
- (1)フェライトを素材とするコアブロックを接合して
なるコアスライダの表層にヘマタイト薄膜が形成されて
いることを特徴とする磁気ヘッド用コアスライダ。 - (2)フェライトを素材とするコアブロックを接合し、
所要の機械加工を行った後、250〜350℃において
5〜50時間酸化雰囲気中で熱処理することを特徴とす
る磁気ヘッド用コアスライダの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16186888A JPH0212607A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 磁気ヘッド用コアスライダ及びその製造方法 |
| US07/355,217 US5037593A (en) | 1988-06-29 | 1989-05-22 | Method for fabricating core slider for a magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16186888A JPH0212607A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 磁気ヘッド用コアスライダ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0212607A true JPH0212607A (ja) | 1990-01-17 |
Family
ID=15743491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16186888A Pending JPH0212607A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 磁気ヘッド用コアスライダ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0212607A (ja) |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP16186888A patent/JPH0212607A/ja active Pending
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