JPH02138422U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02138422U JPH02138422U JP4787789U JP4787789U JPH02138422U JP H02138422 U JPH02138422 U JP H02138422U JP 4787789 U JP4787789 U JP 4787789U JP 4787789 U JP4787789 U JP 4787789U JP H02138422 U JPH02138422 U JP H02138422U
- Authority
- JP
- Japan
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- susceptor
- reactor
- gas
- partition wall
- area
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案装置の模式図、第２図は一般的
な気相成長装置の模式図である。 １……反応炉、２……回転テーブル、３……サ
セプタ、４……加熱ランプ、５……軸、６……区
画壁、７，８……軸、１０……リングギヤ、１１
，１２……ラビリンス、１３，１４，１５……給
気口、１６，１７……排気口。
な気相成長装置の模式図である。 １……反応炉、２……回転テーブル、３……サ
セプタ、４……加熱ランプ、５……軸、６……区
画壁、７，８……軸、１０……リングギヤ、１１
，１２……ラビリンス、１３，１４，１５……給
気口、１６，１７……排気口。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 試料を載置すべきサセプタを反応炉内で公転さ
せつつ自転するよう配設した気相反応装置におい
て、 前記サセプタを公転させる軸に、反応炉内をサ
セプタの設置域と公転、自転のための駆動伝動機
構の設置域とを仕切る区画壁を設け、該区画壁と
炉壁との間にラビリンスを設けたことを特徴とす
る気相反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4787789U JPH02138422U (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4787789U JPH02138422U (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02138422U true JPH02138422U (ja) | 1990-11-19 |
Family
ID=31564196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4787789U Pending JPH02138422U (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02138422U (ja) |
-
1989
- 1989-04-24 JP JP4787789U patent/JPH02138422U/ja active Pending
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