JPH0214787B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0214787B2
JPH0214787B2 JP57068208A JP6820882A JPH0214787B2 JP H0214787 B2 JPH0214787 B2 JP H0214787B2 JP 57068208 A JP57068208 A JP 57068208A JP 6820882 A JP6820882 A JP 6820882A JP H0214787 B2 JPH0214787 B2 JP H0214787B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
brazing
ceramic substrate
lead pins
lead
lead pin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP57068208A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58184748A (ja
Inventor
Hitoshi Tsuji
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Original Assignee
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tanaka Kikinzoku Kogyo KK filed Critical Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Priority to JP57068208A priority Critical patent/JPS58184748A/ja
Publication of JPS58184748A publication Critical patent/JPS58184748A/ja
Publication of JPH0214787B2 publication Critical patent/JPH0214787B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/01Manufacture or treatment
    • H10W70/05Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers
    • H10W70/093Connecting or disconnecting other interconnections thereto or therefrom, e.g. connecting bond wires or bumps

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 近時、半導体IC或いはLSIは、高信頼性、高集
積化の要請から従来使用されてきたデユアルイ
ン・パツケージ型のものからプラグイン・パツケ
ージ型のものに変りつつある。
このプラグイン・パツケージIC用のリードピ
ンのセラミツク基板へのろう付けは、従来第1図
aに示す如くセラミツク1にメタライズし、その
メタライズ2の上にニツケルめつき3を施したセ
ラミツク基板4のニツケルめつき3上に、第1図
bに示す如くカーボン冶具5を用いてろう材6を
セツトし、その上にリードピン7をセツトし、然
る後電気炉中で加熱してリードピン7をセラミツ
ク基板4のニツケルめつき3上にろう付するのが
一般的であつた。
ところでかかるリードピン7のセラミツク基板
4へのろう付方法では、ろう材6が粒状の小さい
ものである為、セラミツク基板4のニツケルめつ
き3上にセツトされないものが出たり、またセツ
トされてもろう材6の位置が偏つてろう付強度が
不足したりして、セラミツク基板4にリードピン
7がろう付されなかつたり、リードピン7がろう
付不良となつたりするものが多発した。しかも一
度ろう付不良を起したセラミツク基板4は処分す
るか、又は再ろう付しなければならないが、前者
の方法はセラミツク基板4の歩留りが非常に悪く
なり、一方後者の方法は甚だ手間がかかるもので
ある。
この為、第2図aに示す如く第一工程でリード
ピン7にろう材6′をろう付けし、良品のみを選
別して第2図bに示す如くこのリードピン7をセ
ラミツク基板4のニツケルめつき3上にろう付け
する方法が行われている。
然し乍ら、この方法ではリードピン7へのろう
材6′のろう付不良が多くて、良品の選別に甚だ
手間がかかる。しかも第3図a,bに示されるよ
うに外周にろう材6′が流れたリードピン7は容
易に選別できないので、これをセラミツク基板4
のニツケルめつき3上にろう付すると、第3図c
に示す如くろう付後もリードピン7の外周にろう
材6′が残るので、ICソケツト又は基板のスルホ
ールに挿入する際、障害となるものである。
本発明はかかる諸事情に鑑みなされたものであ
り、プラグイン・パツケージ型の半導体用リード
ピンを確実にセラミツク基板にろう付することが
できて歩留りが良く且つろう付強度が高く、その
上ろう材がリードピンの外周にはい上ることのな
い半導体用リードピンのろう付方法を提供せんと
するものである。
本発明の半導体用リードピンのろう付方法は、
セラミツク基板上の所要の位置に、銀ろうとなる
成分組成の材料を所定量順次めつきし、然る後こ
のめつきろう材上にリードピンをセツトして炉中
ろう付することを特徴とするものである。
本発明の半導体用リードピンのろう付方法に於
いて、セラミツク基板上の所要の位置に、銀ろう
となる成分組成材料を所定量順次めつきする理由
は、セラミツク基板上の所要位置に均一な厚さの
ろう材を取付ける為である。また銀ろうとなる成
分組成の材料をめつきする理由は、ろう材の融点
を下げたり、リードピンとの濡れ性を改善する為
に、材質の異なるろう材を2層以上に層状めつき
して合金めつきの困難なろう材を得ることもある
からである。
尚、ろう材は、セラミツク基板のメタライズの
上に直接ろう付することもあるが、通常リードピ
ンの接着を良くする為に、メタライズの上に電解
又は無電解ニツケルめつきを施してその上にろう
材をろう付することもある。
以上のようにセラミツク基板のメタライズ或い
はその上のニツケルめつき上に均一な厚さにめつ
きしたろう材は、メタライズ又はニツケルめつき
との濡れ性が良く、銀とニツケルとの固溶体を形
成せず、しかもリードピンとメタライズ又はニツ
ケルめつきとの間の毛細現象によりろう材がろう
付部で良好なフイレツトが形成され、このフイレ
ツトはリードピンの外周上部にはい上ることがな
いので、ICソケツト又は基板に挿入する際障害
となることがない。
次に本発明による半導用リードピンのろう付方
法の効果を明瞭ならしめる為に具体的な実施例と
従来例について説明する。
実施例 1 第4図aに示す如くセラミツク1上の所定位置
にメタライズし、このメタライズ2の上に無電解
ニツケルめつき3を施したセラミツク基板4のニ
ツケルめつき3上に、銀8aを8μ、銅8bを2μ
湿式めつきしてろう材8を得た。このめつきろう
材8の一つの大きさは2mm×2mm×0.01mmtであ
つた。次にめつきろう材8上に第4図bに示す如
くカーボン冶具9を用いて鉄−ニツケル42重量
%より成るリードピン7をセツトし、850℃水素
気流中のコンベア炉で第4図cに示す如くろう付
した。
実施例 2 第5図aに示す如くセラミツク1上の所定位置
にメタライズし、このメタライズ2の上に無電解
ニツケルめつき3を施したセラミツク基板4のニ
ツケルめつき3上に、銀8aを8μ、銅8bを2μ、
亜鉛8cを2μ無電解めつきしてろう材8′を得
た。このめつきろう材8′の一つの大きさは1.5mm
×1.5mm×0.012mmtであつた。次にめつきろう材
8′上に第5図bに示す如くカーボン冶具9を用
いて鉄−ニツケル29重量%−コバルト17重量%よ
り成るリベツト型のリードピン7を透孔4aに挿
通セツトし、800℃、水素気流中のコンベア炉で
第5図cに示す如くろう付した。
従来例 鉄−ニツケル42重量%より成る直径0.4mmの線
材を切断して直径0.4mm、長さ4mmのリードピン
を作り、また銀−銅28重量%より成る直径0.35mm
の線材を切断して直径0.35mm、長さ0.35mmのろう
材を作つた。次にこれらを冶具を用いてろう材リ
ードピンの順にセツトし、850℃水素中でろう付
を行ない第2図a及び第3図a,bに示すような
ろう材6′付リードピン7を得た。次いでこのろ
う材6′付リードピン7を第2図bに示すように
セラミツク基板4のニツケルめつき3上にセツト
し、850℃、水素気流中のコンベア炉でろう付し
た。
然して実施例1、2及び従来例のリードピンの
ろう付具合をリードピン100本について検査した
処、従来例はろう付強度不足、ろう材のリードピ
ン外周へのはい上りなどが生じた不良品が45本も
あつたのに対し、実施例1、2にはそのような不
良品が皆無であつた。
以上詳記した通り本発明の半導体用リードピン
のろう付方法によれば、リードピンを確実にセラ
ミツク基板にろう付することができて歩留りが良
くしかもろう付強度が高く、その上ろう付部に良
好なフイレツトを形成できてろう材がリードピン
の外周にはい上ることがないので、ICソケツト
に挿入する際、障害となることが無い等の優れた
効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図a,bは従来のセラミツク基板へのリー
ドピンのろう付方法の一例を示す図、第2図a,
bは同じく従来のセラミツク基板へのリードピン
のろう付方法の他の例を示す図、第3図a,bは
ろう材付リードピンの不良品を示す図、仝図cは
その不良品のセラミツク基板へのろう付状態を示
す図、第4図a,b,cは本発明によるセラミツ
ク基板へのリードピンのろう付方法の一例を示す
図、第5図a,b,cは同じく本発明によるセラ
ミツク基板へのリードピンのろう付方法の他の例
を示す図である。 1……セラミツク、2……メタライズ、3……
ニツケルめつき、4……セラミツク基板、7……
リードピン、8,8′……めつきろう材、9……
カーボン冶具。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 半導体用リードピンをセラミツク基板にろう
    付するに於いて、セラミツク基板上の所要の位置
    に銀ろうとなる成分組成の材料を所定量、順次め
    つきし、然る後このめつきろう材上にリードピン
    をセツトして炉中ろう付することを特徴とする半
    導体用リードピンのろう付方法。
JP57068208A 1982-04-23 1982-04-23 半導体用リ−ドピンのろう付方法 Granted JPS58184748A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57068208A JPS58184748A (ja) 1982-04-23 1982-04-23 半導体用リ−ドピンのろう付方法

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57068208A JPS58184748A (ja) 1982-04-23 1982-04-23 半導体用リ−ドピンのろう付方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58184748A JPS58184748A (ja) 1983-10-28
JPH0214787B2 true JPH0214787B2 (ja) 1990-04-10

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ID=13367142

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57068208A Granted JPS58184748A (ja) 1982-04-23 1982-04-23 半導体用リ−ドピンのろう付方法

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4864568B2 (ja) * 2006-06-30 2012-02-01 株式会社ダイヘン 路上設置形変圧器装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4824009A (en) * 1981-12-31 1989-04-25 International Business Machines Corporation Process for braze attachment of electronic package members

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JPS58184748A (ja) 1983-10-28

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