JPS58224439A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS58224439A JPS58224439A JP10796882A JP10796882A JPS58224439A JP S58224439 A JPS58224439 A JP S58224439A JP 10796882 A JP10796882 A JP 10796882A JP 10796882 A JP10796882 A JP 10796882A JP S58224439 A JPS58224439 A JP S58224439A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- magnetic
- lubricant
- disk
- rough
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ）発明の技術分野
本発明は、電子計算機システムの外部記憶装置として使
用される磁気ディスクの製造方法に関し、特に磁気ディ
スクの表面の仕上げ方法に関する。
用される磁気ディスクの製造方法に関し、特に磁気ディ
スクの表面の仕上げ方法に関する。
（ｂｌ技術の背景
周知のように、高速読書き用の磁気ディスク装置では、
磁気ヘットが磁気ディスクの面かられずかに浮上した状
態で情報の読書きを行なえるように、磁気ヘッドのスラ
イダに発生ずる浮力で磁気ヘッドをディスク面から浮き
上がらせるようにしている。この浮上ギャップは、１ミ
クロン以下のため、磁気ディスクの表面の仕上げが粗い
と、ヘソ「クラッシュが発生したり、情報の読書きを正
確に行なえないなどの恐れがある。そのため通常は、ア
ルミ基板に磁気塗料を塗布して熱処理した後、ポリッシ
ュおよび洗浄工程を経て、最終的にバーニッシュ処理を
行なっている。
磁気ヘットが磁気ディスクの面かられずかに浮上した状
態で情報の読書きを行なえるように、磁気ヘッドのスラ
イダに発生ずる浮力で磁気ヘッドをディスク面から浮き
上がらせるようにしている。この浮上ギャップは、１ミ
クロン以下のため、磁気ディスクの表面の仕上げが粗い
と、ヘソ「クラッシュが発生したり、情報の読書きを正
確に行なえないなどの恐れがある。そのため通常は、ア
ルミ基板に磁気塗料を塗布して熱処理した後、ポリッシ
ュおよび洗浄工程を経て、最終的にバーニッシュ処理を
行なっている。
（Ｃ１従来技術とその問題点
このバーニッシュ処理を高精度に行なうために、本発明
の発明者らは先に、第１図のように、スライダ１のスラ
イダ面に砥粒層から成る粗面部２を設けることによって
バーニッシュヘッド３を構成し、このバーニッシュヘッ
ドの粗面部２を、回転している磁気ディスク４の表面の
磁性膜５に接触させた状態で、磁気ディスク４の径方向
へ往復動させる方法を提案している。６はジンバルと呼
ばれる板ハネで、これによってバーニッシュへソド３は
、スライダ面の全面が均一にディスク面に弾圧される。
の発明者らは先に、第１図のように、スライダ１のスラ
イダ面に砥粒層から成る粗面部２を設けることによって
バーニッシュヘッド３を構成し、このバーニッシュヘッ
ドの粗面部２を、回転している磁気ディスク４の表面の
磁性膜５に接触させた状態で、磁気ディスク４の径方向
へ往復動させる方法を提案している。６はジンバルと呼
ばれる板ハネで、これによってバーニッシュへソド３は
、スライダ面の全面が均一にディスク面に弾圧される。
ところが高速で回転している磁気ディスク４の表面にバ
ーニッシュヘッド３を接触させるため、パーニソシュヘ
ソ］・の粗面部２とディスク表面５との摩擦熱で焼き付
きが発生する。そのため、磁気ディスクの表面５に潤滑
剤を塗布して摩擦係数を小さくした状態で、バーニッシ
ュ処理を行なっている。この方法は、潤滑剤が必要なＣ
５５（Ｃ。
ーニッシュヘッド３を接触させるため、パーニソシュヘ
ソ］・の粗面部２とディスク表面５との摩擦熱で焼き付
きが発生する。そのため、磁気ディスクの表面５に潤滑
剤を塗布して摩擦係数を小さくした状態で、バーニッシ
ュ処理を行なっている。この方法は、潤滑剤が必要なＣ
５５（Ｃ。
ｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ ）方式のディス
クではむしろ好都合であるが、スタート時やスｌ〜ツブ
時の接触摺動のないランプロード方式のディスクでは、
ディスク面に潤滑剤は塗布されず、そのためにバーニッ
シュヘッドの粗面部とディスク面間で焼ぎ付きが発生し
たり、その結果粗面部が剥離したりする。
クではむしろ好都合であるが、スタート時やスｌ〜ツブ
時の接触摺動のないランプロード方式のディスクでは、
ディスク面に潤滑剤は塗布されず、そのためにバーニッ
シュヘッドの粗面部とディスク面間で焼ぎ付きが発生し
たり、その結果粗面部が剥離したりする。
（ｄｉ発明の目的
本発明は、このようにディスク面に潤滑剤を塗布しない
ランプロ＝Ｆ式のディスク表面においても、バーニッシ
ュ処理時に焼き付きが発生しないようにすることを目的
とする。
ランプロ＝Ｆ式のディスク表面においても、バーニッシ
ュ処理時に焼き付きが発生しないようにすることを目的
とする。
［ｅ１発明の構成
この目的を達成するために本発明は、スライダ面に、硬
質微粒子を含む砥粒層より成る粗面部を設りてバーニッ
シュヘッドを構成すると共に、この粗面部に潤滑剤を含
ませ、円盤の表面に磁性膜を備えた磁気ディスクを回転
させながら、前記ハーニソシュヘソ）・の粗面部を磁気
ディスクの表面に接触させた状態で、ハーニノシュヘソ
］を移動させることによりバーニッシュを行なう方法を
採っている。
質微粒子を含む砥粒層より成る粗面部を設りてバーニッ
シュヘッドを構成すると共に、この粗面部に潤滑剤を含
ませ、円盤の表面に磁性膜を備えた磁気ディスクを回転
させながら、前記ハーニソシュヘソ）・の粗面部を磁気
ディスクの表面に接触させた状態で、ハーニノシュヘソ
］を移動させることによりバーニッシュを行なう方法を
採っている。
（ｆ）発明の実施例
次に本発明による磁気ディスクの製造方法の実施例を説
明する。第２図はバーニッシュヘッドを拡大して示した
側面図で、バーニッシュヘッド３のディスク面５と対向
するスライダ面１１に、粗面部２が設けられている。粗
面部２は、両面接着テープ７や接着剤で市販のラッピン
グテープをスライダ面１１に貼り付けすることによって
形成するのが簡便である。あるいは第３図のように、ロ
ール状に巻かれたラッピングテープ２１をスライダ面と
ディスク面５間に挾み、使用済みのテープを巻取ること
によって、新しい粗面部を次々供給できるようにしても
よい。なおラッピングテープは通常、マイラーフィルム
等に、アルミナ等の硬質砥粒を有機物のバインダで接着
した構成になっている。
明する。第２図はバーニッシュヘッドを拡大して示した
側面図で、バーニッシュヘッド３のディスク面５と対向
するスライダ面１１に、粗面部２が設けられている。粗
面部２は、両面接着テープ７や接着剤で市販のラッピン
グテープをスライダ面１１に貼り付けすることによって
形成するのが簡便である。あるいは第３図のように、ロ
ール状に巻かれたラッピングテープ２１をスライダ面と
ディスク面５間に挾み、使用済みのテープを巻取ること
によって、新しい粗面部を次々供給できるようにしても
よい。なおラッピングテープは通常、マイラーフィルム
等に、アルミナ等の硬質砥粒を有機物のバインダで接着
した構成になっている。
粗面部は、ラッピングテープの粗面部と同じ材質の砥粒
をバインダでスライダ面に直接固着させることもできる
が、粗面部の着は替えができない問題がある。
をバインダでスライダ面に直接固着させることもできる
が、粗面部の着は替えができない問題がある。
そして粗面部２には、／ｌ１ｌＩ滑剤を適量塗布して含
浸される。潤滑剤としては、パーフロロアルキルポリエ
ーテル等の液体潤滑剤が良（、例えばよく知られている
Ｋｒｙｔ、ｏｘ （登録商標、Ｄｕ Ｆｏｎｔ ｉ！Ｊ
）やＦｏｍｂｌｉｎ （登録商標、Ｍｏｎｔｅｄｉｓ
ｏｎＭ）などが好ましい。これをフロロカーボン溶剤（
Ｆｅ１２．３Ｍ製など）に溶解させ、この溶液に粗面部
２を浸漬させた後取り出して乾燥させる。溶液の濃度は
、薄すぎると摩擦低減効果が不足し、濃すぎると過剰の
／Ｉｉｌ！／ｉ！刑がべたついたりしてディスク面５に
付着し、−５＝ シミなどを発生させる。実験結果では、２〜２０重量％
が適当である。なお潤滑剤の含浸法は、／ｌＩＪ滑剤の
溶液中に粗面部を浸漬するほか、へケ塗りやスプレーな
どによってもよい。
浸される。潤滑剤としては、パーフロロアルキルポリエ
ーテル等の液体潤滑剤が良（、例えばよく知られている
Ｋｒｙｔ、ｏｘ （登録商標、Ｄｕ Ｆｏｎｔ ｉ！Ｊ
）やＦｏｍｂｌｉｎ （登録商標、Ｍｏｎｔｅｄｉｓ
ｏｎＭ）などが好ましい。これをフロロカーボン溶剤（
Ｆｅ１２．３Ｍ製など）に溶解させ、この溶液に粗面部
２を浸漬させた後取り出して乾燥させる。溶液の濃度は
、薄すぎると摩擦低減効果が不足し、濃すぎると過剰の
／Ｉｉｌ！／ｉ！刑がべたついたりしてディスク面５に
付着し、−５＝ シミなどを発生させる。実験結果では、２〜２０重量％
が適当である。なお潤滑剤の含浸法は、／ｌＩＪ滑剤の
溶液中に粗面部を浸漬するほか、へケ塗りやスプレーな
どによってもよい。
次に潤滑剤の実施例を説明する。
実施例］、 ： Ｋｒｙｔｏに５重量％のフロロカーボ
ン溶剤（Ｆｅ１２）に、粗面部形成用のラッピングテー
プ（粒度３μｍ、３Ｍ製）を浸漬した後取り出して、フ
ロロカーボン溶剤（Ｆｅ２．７）溶液が蒸発してから、
ランプロード式磁気ヘッドのスライダに貼り付けること
によって、バーニッシュヘッドとした。
ン溶剤（Ｆｅ１２）に、粗面部形成用のラッピングテー
プ（粒度３μｍ、３Ｍ製）を浸漬した後取り出して、フ
ロロカーボン溶剤（Ｆｅ２．７）溶液が蒸発してから、
ランプロード式磁気ヘッドのスライダに貼り付けること
によって、バーニッシュヘッドとした。
ポリッシュおよび洗浄の各工程を終了し、且つ／ｌｉ！
Ｉ滑剤を塗布してない磁気ディスクを回転させながら、
前記の潤滑剤が含浸されたバーニッシュヘッドをジンバ
ル６のバネ圧で押圧して、粗面部２でバーニッシュ処理
を行なった。その結果、ラッピングテープの焼きつきや
シミの発生もなく、且つ効果的なバーニッシュができた
。
Ｉ滑剤を塗布してない磁気ディスクを回転させながら、
前記の潤滑剤が含浸されたバーニッシュヘッドをジンバ
ル６のバネ圧で押圧して、粗面部２でバーニッシュ処理
を行なった。その結果、ラッピングテープの焼きつきや
シミの発生もなく、且つ効果的なバーニッシュができた
。
比較例１：実施例１に用いた磁気ディスクを、潤滑剤を
含浸してないラッピングテープを貼り付６− けたバーニッシュヘットでバーニッシュ処理したところ
、ラッピングチーブの砥粒層が、焼きつきのために１分
くらいの短時間で消失した。
含浸してないラッピングテープを貼り付６− けたバーニッシュヘットでバーニッシュ処理したところ
、ラッピングチーブの砥粒層が、焼きつきのために１分
くらいの短時間で消失した。
実施例２ ： ＫｒｙｔｏｘｌＯ重量％のフロロカーボ
ン溶剤（Ｆｅ１２）に、粗面部形成用のラッピングテー
プ（粒度９μｍ、３Ｍ製）を浸漬した後取り出して、フ
ロロカーボン溶剤（Ｆｅ１２）溶液を蒸発乾燥させてか
ら、ランプロード式磁気ヘソＦのスライダ面に貼り付け
ることによって、バーニッシュヘッドとした。
ン溶剤（Ｆｅ１２）に、粗面部形成用のラッピングテー
プ（粒度９μｍ、３Ｍ製）を浸漬した後取り出して、フ
ロロカーボン溶剤（Ｆｅ１２）溶液を蒸発乾燥させてか
ら、ランプロード式磁気ヘソＦのスライダ面に貼り付け
ることによって、バーニッシュヘッドとした。
アルミ基板に磁気塗料をスピンヨー１−ｂを施した塗膜
を、ポリッシュおよび洗浄を行なわないでそのまま、」
１記のバーニッシュヘットでバーニッシュを行なったと
ころ、ラッピングテープの焼きつきやシミの発生もなく
、効果的に表面の突起を除去することができた。
を、ポリッシュおよび洗浄を行なわないでそのまま、」
１記のバーニッシュヘットでバーニッシュを行なったと
ころ、ラッピングテープの焼きつきやシミの発生もなく
、効果的に表面の突起を除去することができた。
比較例２：実施例２に用いた磁気ディスクを、潤湯剤を
含浸してないラッピングチーブを貼り付けたバーニッシ
ュヘッドでバーニッシュ処理したところ、ラッピングテ
ープの砥粒層が、焼きつきのためにディスク面にこびり
イ」き、１分くらいの短時間で消失した。
含浸してないラッピングチーブを貼り付けたバーニッシ
ュヘッドでバーニッシュ処理したところ、ラッピングテ
ープの砥粒層が、焼きつきのためにディスク面にこびり
イ」き、１分くらいの短時間で消失した。
＋ｇ１発明の効果
以」二のように本発明によれば、バーニッシュヘット′
のスライダ面に設けられた粗面部に／ｌｌ’ｆｋ剤を含
ませ、磁気ディスクを回転させながら、前記のバーニッ
シュヘットの粗面部を磁気ディスクの表面に接触させた
状態で、バーニッシュヘットを移動させることによりバ
ーニッシュを行なう方法を採っている。そのため、ディ
スク面に／１８！滑剤が塗布されないランプローｌ：式
の磁気ディスクにおいても、焼きつきを起したりするこ
となしに、円滑にバーニッシュ処理を行なうことができ
る。また第４図に示すように、従来のポリッシュ加工で
は、磁性膜５の鎖線Ｌ２で示ずレヘルまで平滑化し、そ
の後バーニッシュを施して磁気ヘットの浮上性を保証し
ていた。ところが本発明によれば、このようなポリッシ
ュ加工を行なう前の状態の粗い磁性膜面でも、潤肩剤の
作用により、焼きつきなどを起すことなしにＬｌ で示
ずレヘルまで平滑化してバーニッシュ仕上げすることが
でき、そのまま磁気ヘッドを浮上さ・ｌるごとかできる
。従って本発明によれば、１つの工程で磁気ディスクの
表面仕上げを行なうことも可能である。
のスライダ面に設けられた粗面部に／ｌｌ’ｆｋ剤を含
ませ、磁気ディスクを回転させながら、前記のバーニッ
シュヘットの粗面部を磁気ディスクの表面に接触させた
状態で、バーニッシュヘットを移動させることによりバ
ーニッシュを行なう方法を採っている。そのため、ディ
スク面に／１８！滑剤が塗布されないランプローｌ：式
の磁気ディスクにおいても、焼きつきを起したりするこ
となしに、円滑にバーニッシュ処理を行なうことができ
る。また第４図に示すように、従来のポリッシュ加工で
は、磁性膜５の鎖線Ｌ２で示ずレヘルまで平滑化し、そ
の後バーニッシュを施して磁気ヘットの浮上性を保証し
ていた。ところが本発明によれば、このようなポリッシ
ュ加工を行なう前の状態の粗い磁性膜面でも、潤肩剤の
作用により、焼きつきなどを起すことなしにＬｌ で示
ずレヘルまで平滑化してバーニッシュ仕上げすることが
でき、そのまま磁気ヘッドを浮上さ・ｌるごとかできる
。従って本発明によれば、１つの工程で磁気ディスクの
表面仕上げを行なうことも可能である。
【図面の簡単な説明】
第１図はバーニッシュヘッドによる磁気ディスクのバー
ニッシュ処理を示す側面図、第２図はバーニッシュヘッ
トの拡大側面図、第３図はバーニッシュへ・７ドの他の
例を示す側面図、第４図は磁気ディスクの断面を拡大し
て示した図である。 図において、１はスライダ、２は粗面部、３はバーニッ
シュヘット、４は磁気ディスク、５は磁気ディスクの表
面（磁性膜）、６はジンバルをそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社代理人 弁理士
青 柳 稔９− 一２４二
ニッシュ処理を示す側面図、第２図はバーニッシュヘッ
トの拡大側面図、第３図はバーニッシュへ・７ドの他の
例を示す側面図、第４図は磁気ディスクの断面を拡大し
て示した図である。 図において、１はスライダ、２は粗面部、３はバーニッ
シュヘット、４は磁気ディスク、５は磁気ディスクの表
面（磁性膜）、６はジンバルをそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社代理人 弁理士
青 柳 稔９− 一２４二
Claims (1)
- スライダ面に、硬質微粒子を含む砥粒層より成る粗面部
を設けてバーニッシュヘッドを構成すると共に、この粗
面部に潤滑剤を含ませ、円盤の表面に磁性膜を備えた磁
気ディスクを回転させながら、前記バーニッシュヘッド
の粗面部を磁気ディスクの表面に接触させた状態で、バ
ーニッシュヘッドを移動させることによりバーニッシュ
を行なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10796882A JPS58224439A (ja) | 1982-06-23 | 1982-06-23 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10796882A JPS58224439A (ja) | 1982-06-23 | 1982-06-23 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58224439A true JPS58224439A (ja) | 1983-12-26 |
Family
ID=14472628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10796882A Pending JPS58224439A (ja) | 1982-06-23 | 1982-06-23 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58224439A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6252782A (ja) * | 1985-08-31 | 1987-03-07 | Fujitsu Ltd | 密閉型固定磁気デイスク装置の製造方法 |
| US6521286B2 (en) | 2001-01-24 | 2003-02-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing a magnetic recording medium |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5156602A (ja) * | 1974-11-13 | 1976-05-18 | Fujitsu Ltd | Banitsushusochi |
| JPS56130836A (en) * | 1980-03-14 | 1981-10-14 | Fujitsu Ltd | Manufacture for magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-06-23 JP JP10796882A patent/JPS58224439A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5156602A (ja) * | 1974-11-13 | 1976-05-18 | Fujitsu Ltd | Banitsushusochi |
| JPS56130836A (en) * | 1980-03-14 | 1981-10-14 | Fujitsu Ltd | Manufacture for magnetic recording medium |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6252782A (ja) * | 1985-08-31 | 1987-03-07 | Fujitsu Ltd | 密閉型固定磁気デイスク装置の製造方法 |
| US6521286B2 (en) | 2001-01-24 | 2003-02-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing a magnetic recording medium |
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