JPH02157121A - 超伝導酸化物薄膜形成用スクリーン印刷インキおよびこのインキを使用した超伝導酸化物薄膜の形成方法 - Google Patents
超伝導酸化物薄膜形成用スクリーン印刷インキおよびこのインキを使用した超伝導酸化物薄膜の形成方法Info
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- JPH02157121A JPH02157121A JP63311076A JP31107688A JPH02157121A JP H02157121 A JPH02157121 A JP H02157121A JP 63311076 A JP63311076 A JP 63311076A JP 31107688 A JP31107688 A JP 31107688A JP H02157121 A JPH02157121 A JP H02157121A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、エレクトロニクス産業において使用される超
伝導酸化物薄膜をスクリーン印刷工法によって製造する
だめのインキおよびこのインキを使用した薄膜抵抗体形
成方法に関するものである。
伝導酸化物薄膜をスクリーン印刷工法によって製造する
だめのインキおよびこのインキを使用した薄膜抵抗体形
成方法に関するものである。
従来の技術
一般式ｙＢａ２ ＣｕＫ ０７−Ｘで示される酸化物超
伝導体は、その超伝導転移温度が液体窒素温度以上であ
るという点で工業的にも非常に有用な材料である。この
超電導体は、電力用としてはその焼結体を線状に加工し
たものが使われ、能動的な電子デバイスとしては薄膜状
で利用されることの多いものである。この物質の薄１摸
形成は、現在主としてスパッタリングを用いて行なわれ
ている。この也に薄膜形成法として金属有機物の熱分解
による方法が提案され、スピンコードやデイ、プといっ
た方法で基板上に形成した膜についての研究が現在性な
われている。
伝導体は、その超伝導転移温度が液体窒素温度以上であ
るという点で工業的にも非常に有用な材料である。この
超電導体は、電力用としてはその焼結体を線状に加工し
たものが使われ、能動的な電子デバイスとしては薄膜状
で利用されることの多いものである。この物質の薄１摸
形成は、現在主としてスパッタリングを用いて行なわれ
ている。この也に薄膜形成法として金属有機物の熱分解
による方法が提案され、スピンコードやデイ、プといっ
た方法で基板上に形成した膜についての研究が現在性な
われている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、スパッタリングでは高コストで製造設備
も高価となり、スピンコートエ法やディノプ工法では、
−度基板全面に形成した膜をそのちとなんらかの方法で
パターン精度グするという、繁雑でコストアップの原因
となる工程を取らざるを得ないものであった。丑たスク
リーン印刷法を導入するには平滑性、パターン精度に問
題を有するものとならざるを得なかった。
も高価となり、スピンコートエ法やディノプ工法では、
−度基板全面に形成した膜をそのちとなんらかの方法で
パターン精度グするという、繁雑でコストアップの原因
となる工程を取らざるを得ないものであった。丑たスク
リーン印刷法を導入するには平滑性、パターン精度に問
題を有するものとならざるを得なかった。
課題を解決するだめの手段
本発明は超伝導酸化物薄膜形成用インキ（以下、インキ
と言う）に添加する。増粘剤としてテルペノイドのカル
ボン酸あるいはそれらのエステルと、これにテルペノイ
ドのカルボン酸のアンモニウム塩かアミン類との塩を添
加したものを用いたものである。
と言う）に添加する。増粘剤としてテルペノイドのカル
ボン酸あるいはそれらのエステルと、これにテルペノイ
ドのカルボン酸のアンモニウム塩かアミン類との塩を添
加したものを用いたものである。
作用
本発明は以上のように増粘剤としてテルペノイドのカル
ボン酸あるいはそれらのエステルと、テルペノイドのカ
ルボン酸のアンモニウム塩するいはアミン類との塩を添
加したものを使用したので、インキは印刷時のメツシュ
通過によっても泡が発生することなく被印刷物上に移さ
れるようになり、非常に平滑でムラのない印刷膜面が得
られ、しかもテルペノイドのカルボン酸のアンモニウム
塩又はアミン類との塩は、高温で分解して灰分を残さな
いため、焼成により品質良好な超伝導酸化物薄膜が得ら
れるものである。
ボン酸あるいはそれらのエステルと、テルペノイドのカ
ルボン酸のアンモニウム塩するいはアミン類との塩を添
加したものを使用したので、インキは印刷時のメツシュ
通過によっても泡が発生することなく被印刷物上に移さ
れるようになり、非常に平滑でムラのない印刷膜面が得
られ、しかもテルペノイドのカルボン酸のアンモニウム
塩又はアミン類との塩は、高温で分解して灰分を残さな
いため、焼成により品質良好な超伝導酸化物薄膜が得ら
れるものである。
実施例
まず、本発明の概要について説明する。
本発明で用いることのできるイツトリウム化合物、バリ
ウム化合物、銅化合物には特に制限はなく、適当な溶媒
によって増粘剤と相溶するようなものであればよい。
ウム化合物、銅化合物には特に制限はなく、適当な溶媒
によって増粘剤と相溶するようなものであればよい。
次に本発明で増粘剤を構成するテルペノイドのカ
ルボン
ビエチン酸とその誘導体であるピマル酸，ネオアビエチ
ン酸，レボピマル酸など、また、グアヤコン酸とその誘
導体、グアヤク酸，／１／ベニン酸などである。さらに
は、ダンマルゴムに含有されるダンマロール酸とその誘
導体、ウルンル酸，オレアノール酸，ベツリン酸なども
用いることができる。
ン酸，レボピマル酸など、また、グアヤコン酸とその誘
導体、グアヤク酸，／１／ベニン酸などである。さらに
は、ダンマルゴムに含有されるダンマロール酸とその誘
導体、ウルンル酸，オレアノール酸，ベツリン酸なども
用いることができる。
モノテルペノイドのカルボン酸は、常温で液体のものが
多いため、単独では使用できないが、前述のようなジテ
ルペノイドやトリテルペノイドのカルボン酸と混合すれ
ば使用してもよい。これらは、精製分離されたものが一
般には入手しがたく高価でもあるので、それらを含む天
然樹脂である日ジンやグアヤク脂，ダンマル，コーパル
などを利用することができる。これらのような天然樹脂
は、産地やメーカーによ゛って成分が大幅に異なり、カ
ルボン酸以外の成分も含まれていることがあるが、本発
明の目的にはいっこうに差支えなく使用できる。これ等
のエステルとしては、主にアビエチン酸のエステル類が
使用でき、一般に市販されてい７・＼−７ るロジンエステルであれば、その種類は何でもよい。
多いため、単独では使用できないが、前述のようなジテ
ルペノイドやトリテルペノイドのカルボン酸と混合すれ
ば使用してもよい。これらは、精製分離されたものが一
般には入手しがたく高価でもあるので、それらを含む天
然樹脂である日ジンやグアヤク脂，ダンマル，コーパル
などを利用することができる。これらのような天然樹脂
は、産地やメーカーによ゛って成分が大幅に異なり、カ
ルボン酸以外の成分も含まれていることがあるが、本発
明の目的にはいっこうに差支えなく使用できる。これ等
のエステルとしては、主にアビエチン酸のエステル類が
使用でき、一般に市販されてい７・＼−７ るロジンエステルであれば、その種類は何でもよい。
テルペノイドのカルボン酸のアンモニウム塩、あるいは
アミン類との塩は、前述のような酸とアンモニアやアミ
ン類との中和反応によって合成されたものが使用できる
。アミン類については、第級、第二級、第三級のすべて
の種類及び脂肪族芳香族、複素環化合物の種類を問わず
使えるが、そのアルキル基に含まれる炭素数は、あ−１
シ多くないほうが好ましい。これは、炭素数が増加する
につれ、塩の無機塩的な性質が消失していくため本明細
書の作用で述べたような効果が期待できなくなるためで
ある。実際には、一つのアルキル基の炭素数は６以下、
全体でも１５以下程度のものが望ましいと思われる。な
お、増粘剤の好適な組成範囲は用いた酸やアミン類の種
類によって異なるが、これについては後述する。
アミン類との塩は、前述のような酸とアンモニアやアミ
ン類との中和反応によって合成されたものが使用できる
。アミン類については、第級、第二級、第三級のすべて
の種類及び脂肪族芳香族、複素環化合物の種類を問わず
使えるが、そのアルキル基に含まれる炭素数は、あ−１
シ多くないほうが好ましい。これは、炭素数が増加する
につれ、塩の無機塩的な性質が消失していくため本明細
書の作用で述べたような効果が期待できなくなるためで
ある。実際には、一つのアルキル基の炭素数は６以下、
全体でも１５以下程度のものが望ましいと思われる。な
お、増粘剤の好適な組成範囲は用いた酸やアミン類の種
類によって異なるが、これについては後述する。
基体としては、超伝導酸化物薄膜が結晶化する温度に耐
えるような耐熱性の物質を用いることができ、例えば、
アルミナ、ジルコニアをはじメトするセラミックスや、
ステンレスやチタンなどの金属２石英ガラスやホウケイ
酸ガラスなど、サラに表面にグレーズをかけたセラミッ
クスなどが使用できる。しかしながら、超伝導特性のよ
しあしという観点から、焼成を酸素雰囲気中で行うこと
が必要であるため、金属の基体は耐酸化性の良いものを
使うのが好捷しい。
えるような耐熱性の物質を用いることができ、例えば、
アルミナ、ジルコニアをはじメトするセラミックスや、
ステンレスやチタンなどの金属２石英ガラスやホウケイ
酸ガラスなど、サラに表面にグレーズをかけたセラミッ
クスなどが使用できる。しかしながら、超伝導特性のよ
しあしという観点から、焼成を酸素雰囲気中で行うこと
が必要であるため、金属の基体は耐酸化性の良いものを
使うのが好捷しい。
次に具体的な実施例について述べる。
（実施例１）
第１表に示した組成で増粘剤を１００ｇ調製し、これら
に２−エチルヘキサン酸イツトリウム、２−工ｆ ｚｌ
ｚヘキサン酸バリウム、２−エチルヘキサン酸銀をモル
比で１ ：２：３に混合したものを２０Ｉ添加し、溶剤
としてアセトフェノンヲ３０ｇ加えて混練し、各組成の
スクリーン印刷インキを製造した。これらのインキを乳
剤厚み１６７ｚｍ、２００メツシユのスクリーン版を用
いてガラス基板上に１ｏｍｍＸ３０ｍｍの矩形状パター
ンに印刷を行った。この被印刷物を１５０℃で３０分間
乾燥し、印刷膜面の評価を行った。評価は、膜面のムラ
の有無とパターンエツジのダレの二点と、印刷時の泡立
ちの有無で行った。
に２−エチルヘキサン酸イツトリウム、２−工ｆ ｚｌ
ｚヘキサン酸バリウム、２−エチルヘキサン酸銀をモル
比で１ ：２：３に混合したものを２０Ｉ添加し、溶剤
としてアセトフェノンヲ３０ｇ加えて混練し、各組成の
スクリーン印刷インキを製造した。これらのインキを乳
剤厚み１６７ｚｍ、２００メツシユのスクリーン版を用
いてガラス基板上に１ｏｍｍＸ３０ｍｍの矩形状パター
ンに印刷を行った。この被印刷物を１５０℃で３０分間
乾燥し、印刷膜面の評価を行った。評価は、膜面のムラ
の有無とパターンエツジのダレの二点と、印刷時の泡立
ちの有無で行った。
（以下余 白）
第１表
１１へ一／
表中、評価欄の記号は、Ｏ−＋々し、ム→若干あり、×
→あり、をそれぞれ示す。また、−は、インキを製造で
きないことを意味する。以下の表についても同様。
→あり、をそれぞれ示す。また、−は、インキを製造で
きないことを意味する。以下の表についても同様。
これら評価結果も、第１表中に示した。これから分るよ
うに、テルペノイドのカルボン酸のアンモニウム塩かア
ミン類との塩を含有させたインキについては、印刷時の
泡立ちがなくなって印刷膜面が良好となる。その効果が
現れる組成については、用いたテルペノイドのカルボン
酸の種類と組成によって異なるが、第１表の結果から、
良好なインキを得るために必要なこれら塩類の添加すべ
き最小量は、アンモニア、第一級アミン、第二級アミン
、第三級アミンの順に増加していき、アミンの炭素数増
加と共に増加する傾向にあることが分る。寸だ、アミン
によっては全く酸類を含有させなくても、良好なインキ
（印刷時の泡立ち、膜面のムラ、パターンのダレについ
て全て△評価以上のもの、以下同じ）を製造できる塩の
あることが分る。
うに、テルペノイドのカルボン酸のアンモニウム塩かア
ミン類との塩を含有させたインキについては、印刷時の
泡立ちがなくなって印刷膜面が良好となる。その効果が
現れる組成については、用いたテルペノイドのカルボン
酸の種類と組成によって異なるが、第１表の結果から、
良好なインキを得るために必要なこれら塩類の添加すべ
き最小量は、アンモニア、第一級アミン、第二級アミン
、第三級アミンの順に増加していき、アミンの炭素数増
加と共に増加する傾向にあることが分る。寸だ、アミン
によっては全く酸類を含有させなくても、良好なインキ
（印刷時の泡立ち、膜面のムラ、パターンのダレについ
て全て△評価以上のもの、以下同じ）を製造できる塩の
あることが分る。
これらの印刷物で、膜面の良好なものを酸素雰囲気中、
７００℃で１時間加熱すると、膜厚２０００Ａ程度の黒
色の酸化物薄膜が得られた。
７００℃で１時間加熱すると、膜厚２０００Ａ程度の黒
色の酸化物薄膜が得られた。
これらの結晶形をＸ線回折で調べたところ、超広１３１
、−７ 導酸化物焼結体の結晶形と同様であることが分った。
、−７ 導酸化物焼結体の結晶形と同様であることが分った。
（実施例２）
第２表に示した組成でビヒクｌし１００ｇを調製し、こ
れに実施例１と同様の金属化合物を同量添加し、溶剤と
してα−ターピネオールを３０９加えて混練し、インキ
を製造した。これらのインキを実施例１と同様な方法で
評価した結果も第２表中に示した。
れに実施例１と同様の金属化合物を同量添加し、溶剤と
してα−ターピネオールを３０９加えて混練し、インキ
を製造した。これらのインキを実施例１と同様な方法で
評価した結果も第２表中に示した。
第２表
（以下余白）
これから、実施例１と同様に、テルペノイドのカルボン
酸のアンモニウム塩かアミン類との塩全含有するビヒク
ルのインキが良好な膜面を与えることが分る。捷だ、第
２表から、良好な印刷インキを得るために増粘剤中に含
有させるべきこれら塩類の最小量は、アミンの炭素数が
増加するに伴って増大するということが分る。
酸のアンモニウム塩かアミン類との塩全含有するビヒク
ルのインキが良好な膜面を与えることが分る。捷だ、第
２表から、良好な印刷インキを得るために増粘剤中に含
有させるべきこれら塩類の最小量は、アミンの炭素数が
増加するに伴って増大するということが分る。
なお、この実施例からも明らかなように、テルペノイド
のカルボン酸が何種かの混合物であっても差支えないの
と同様に、そのアンモニウム塩かアミン類との塩も何種
類かの混合物であってもかまわない。
のカルボン酸が何種かの混合物であっても差支えないの
と同様に、そのアンモニウム塩かアミン類との塩も何種
類かの混合物であってもかまわない。
これら印刷物で、膜面の良好なものを実施例１と同様に
焼成して得られた薄膜は、実施例１と同様な性質を示し
た。
焼成して得られた薄膜は、実施例１と同様な性質を示し
た。
（実施例３）
第３表に示した組成で増粘剤１０ｏｇを調製し、これに
実施例１と同様な金属化合物を同量添加し、溶剤として
酢酸ベンジルを３Ｑｇ加えて混練し、インキを製造した
。これらのインキを実施例１と同じ方法で評価した結果
も第３表中に示した。
実施例１と同様な金属化合物を同量添加し、溶剤として
酢酸ベンジルを３Ｑｇ加えて混練し、インキを製造した
。これらのインキを実施例１と同じ方法で評価した結果
も第３表中に示した。
第６表
１９Ａ−７
これからも、前述の実施例と同様、テルペノイドのカル
ボン酸のアンモニウム塩かアミン類との塩を含有させた
増粘剤のインキが良好な印刷膜面を与えることが分る。
ボン酸のアンモニウム塩かアミン類との塩を含有させた
増粘剤のインキが良好な印刷膜面を与えることが分る。
（実施例４）
第４表に示した組成で増粘剤を１００ｇ調製し、これら
に２−エチルヘキサン酸イツトリウム、２エチルヘキサ
ン酸バリウム、２−エチルヘキサン酸銀をモル比で１
二２：３に混合したものを２０ｇ添加し、溶剤としてア
セトフェノンを３゜ｇ加えて混練し、各組成のスクリー
ン印刷インキを製造した。これらのインキを乳剤厚み１
ｓ７ｚｍ、２５０メツシユのスクリーン版を用いて石英
ガラス基板上に１０１０ｍｍＸ３０の矩形状パターンに
印刷を行った。この被印刷物を１５０’Ｃで３０分間乾
燥し、印刷膜面の評価を行った。評価は、膜面のムラの
有無とパターンエツジのダレの二点と、印刷時の泡立ち
の有無で行った。
に２−エチルヘキサン酸イツトリウム、２エチルヘキサ
ン酸バリウム、２−エチルヘキサン酸銀をモル比で１
二２：３に混合したものを２０ｇ添加し、溶剤としてア
セトフェノンを３゜ｇ加えて混練し、各組成のスクリー
ン印刷インキを製造した。これらのインキを乳剤厚み１
ｓ７ｚｍ、２５０メツシユのスクリーン版を用いて石英
ガラス基板上に１０１０ｍｍＸ３０の矩形状パターンに
印刷を行った。この被印刷物を１５０’Ｃで３０分間乾
燥し、印刷膜面の評価を行った。評価は、膜面のムラの
有無とパターンエツジのダレの二点と、印刷時の泡立ち
の有無で行った。
表中、評価欄の記号は、○→なし、△→若干あり、×→
あり、をそれぞれ示す。また、−は、インキを製造でき
ないことを意味する。以下の表についても同様。
あり、をそれぞれ示す。また、−は、インキを製造でき
ないことを意味する。以下の表についても同様。
１／６ ）
（２／ｌ ）
第
表
（３／ｌ ’Ｉ
これら評価結果も、表中に示した。これから分るように
、テルペノイドのカルボン酸のアンモニウム塩かアミン
類との塩を含有させたインキについては、印刷時の泡立
ちがなくなって印刷膜面が良好となる。その効果が現れ
る組成については、用いたテルペノイドのカルボン酸の
種類と組成によって異なるが、Ｄ１〜Ｄ６０の結果から
、良好なインキを得るために必要なこれら塩類の添加す
ベキ最小量は、アンモニア、第一級アミン、第二級アミ
ン、第三級アミンの順に増加していき、アミンの炭素数
増加と共に増加する傾向にあることが分る。寸だ、アミ
ンによっては全く酸類を含有させなくても、良好なイン
キを製造できる塩のあることが分る。
、テルペノイドのカルボン酸のアンモニウム塩かアミン
類との塩を含有させたインキについては、印刷時の泡立
ちがなくなって印刷膜面が良好となる。その効果が現れ
る組成については、用いたテルペノイドのカルボン酸の
種類と組成によって異なるが、Ｄ１〜Ｄ６０の結果から
、良好なインキを得るために必要なこれら塩類の添加す
ベキ最小量は、アンモニア、第一級アミン、第二級アミ
ン、第三級アミンの順に増加していき、アミンの炭素数
増加と共に増加する傾向にあることが分る。寸だ、アミ
ンによっては全く酸類を含有させなくても、良好なイン
キを製造できる塩のあることが分る。
なお、この実施例からも明らかなように、テルペノイド
のカルボン酸が何種かの混合物であっても差支えないの
と同様に、そのアンモニウム塩かアミン類との塩も何種
類かの混合物であってもか寸わない。
のカルボン酸が何種かの混合物であっても差支えないの
と同様に、そのアンモニウム塩かアミン類との塩も何種
類かの混合物であってもか寸わない。
これらの印刷物で、膜面の良好なものを酸素雰２了７、
−７ 囲気中、了００′Ｃで１時間加熱すると、膜厚２００Ｏ
Ａ程度の黒色の酸化物薄膜が得られた。
−７ 囲気中、了００′Ｃで１時間加熱すると、膜厚２００Ｏ
Ａ程度の黒色の酸化物薄膜が得られた。
これらの結晶形をＸ線回折で調べたところ、超伝導酸化
物焼結体の結晶形と同様であることが分った。四探針法
で測定したこれら薄膜の超伝導転移温度（転移の終了す
る温度）は、４０〜８０にの範囲でばらつき、組成によ
る系統的な依存性は特に昆られなかった。
物焼結体の結晶形と同様であることが分った。四探針法
で測定したこれら薄膜の超伝導転移温度（転移の終了す
る温度）は、４０〜８０にの範囲でばらつき、組成によ
る系統的な依存性は特に昆られなかった。
（実施例５）
実施例４で調製したインキのうち、良好な膜を製造でき
るものを用いて、アルミナ基板、ジルコニア基板及びス
テンレス基板上に、実施例４と同じ条件でスクリーン印
刷を行った。これらの基板上でも外観品質の良好な膜が
形成された。これらを実施例４と同様に乾燥し、酸素雰
囲気中で８００℃、１時間の加熱焼成を行って、酸化物
薄膜を得た。これらの結晶形は実施例４と同様であシ、
その超伝導転移温度は、アルミナ基板では４０〜８０Ｋ
、ジルコニア基板では６６〜８０Ｋ、ステンレス基板で
は５Ｑ〜７５にであった。
るものを用いて、アルミナ基板、ジルコニア基板及びス
テンレス基板上に、実施例４と同じ条件でスクリーン印
刷を行った。これらの基板上でも外観品質の良好な膜が
形成された。これらを実施例４と同様に乾燥し、酸素雰
囲気中で８００℃、１時間の加熱焼成を行って、酸化物
薄膜を得た。これらの結晶形は実施例４と同様であシ、
その超伝導転移温度は、アルミナ基板では４０〜８０Ｋ
、ジルコニア基板では６６〜８０Ｋ、ステンレス基板で
は５Ｑ〜７５にであった。
（実施例６）
実施例４で調製したインキ組成のうち、良好な膜を与え
る増粘剤組成のものについて、金属化合物含有量を２倍
にしてインキを調製した。これらのインキをアルミナ基
板及びジルコニア基板上に実施例４と同じ条件でスクリ
ーン印刷し、実施例６と同じ条件で乾燥、焼成して酸化
物薄膜を製造した。これらにおいては、電気的な導通の
とれないものはなく、超伝導特性は実施例６とほぼ同じ
であった。
る増粘剤組成のものについて、金属化合物含有量を２倍
にしてインキを調製した。これらのインキをアルミナ基
板及びジルコニア基板上に実施例４と同じ条件でスクリ
ーン印刷し、実施例６と同じ条件で乾燥、焼成して酸化
物薄膜を製造した。これらにおいては、電気的な導通の
とれないものはなく、超伝導特性は実施例６とほぼ同じ
であった。
発明の効果
以上の実施例から明らかなように、本発明の超伝導酸化
物薄膜形成用スクリーン印刷インキおよびこのインキを
使用した超伝導酸化物薄膜の形成方法によれば、非常に
品質の良い超伝導酸化物薄膜をスクリーン印刷という簡
便な工法でパターン状に製造できるのでその工業上の効
果は大きいものである。
物薄膜形成用スクリーン印刷インキおよびこのインキを
使用した超伝導酸化物薄膜の形成方法によれば、非常に
品質の良い超伝導酸化物薄膜をスクリーン印刷という簡
便な工法でパターン状に製造できるのでその工業上の効
果は大きいものである。
Claims (4)
- （１）イットリウム化合物とバリウム化合物と銅化合物
をそれぞれに含まれる金属の原子比で１：２：３の割合
で混合し、増粘剤としてテルペノイドのカルボン酸又は
それらのエステルと、これにテルペノイドのカルボン酸
のアンモニウム塩又はアミン類との塩を添加するととも
に、溶剤を添加混練したことを特徴とする超伝導酸化物
薄膜形成用スクリーン印刷インキ。 - （２）イットリウム化合物とバリウム化合物と銅化合物
をそれぞれに含まれる金属の原子比で１：２：３の割合
で混合し、増粘剤としてアビエチン酸のジエチルアミン
塩、アビエチン酸のトリエチルアミン塩、アビエチン酸
のイソプロピルアミン塩、ロジンのイソプロピルアミン
塩、ロジンのｎ−ヘキシルアミン塩、ｎ−オクチルアミ
ン塩の少なくともいずれかを添加するとともに、溶剤を
添加混練したことを特徴とする超伝導酸化物薄膜形成用
スクリーン印刷インキ。 - （３）イットリウム化合物とバリウム化合物と銅化合物
をそれぞれに含まれる金属の原子比で１：２：３の割合
で混合し、増粘剤としてテルペノイドのカルボン酸又は
それらのエステルと、これにテルペノイドのカルボン酸
のアンモニウム塩又はアミン類との塩を添加するととも
に、溶剤を添加混練したインキを基体上にスクリーン印
刷する工程と、この被印刷物を乾燥し、酸素雰囲気中で
加熱焼成する工程とからなることを特徴とする超伝導酸
化物薄膜の形成方法。 - （４）イットリウム化合物とバリウム化合物と銅化合物
をそれぞれに含まれる金属の原子比で１：２：３の割合
で混合し、増粘剤としてアビエチン酸のジエチルアミン
塩、アビエチン酸のトリエチルアミン塩、アビエチン酸
のイソプロピルアミン塩、ロジンのイソプロピルアミン
塩、ロジンのｎ−ヘキシルアミン塩、ｎ−オクチルアミ
ン塩の少なくともいずれかを添加するとともに、溶剤を
添加混練したインキを基体上にスクリーン印刷する工程
と、この被印刷物を乾燥し、酸素雰囲気中で加熱焼成す
る工程とからなることを特徴とする超伝導酸化物薄膜の
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63311076A JPH02157121A (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 超伝導酸化物薄膜形成用スクリーン印刷インキおよびこのインキを使用した超伝導酸化物薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63311076A JPH02157121A (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 超伝導酸化物薄膜形成用スクリーン印刷インキおよびこのインキを使用した超伝導酸化物薄膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02157121A true JPH02157121A (ja) | 1990-06-15 |
Family
ID=18012828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63311076A Pending JPH02157121A (ja) | 1988-12-08 | 1988-12-08 | 超伝導酸化物薄膜形成用スクリーン印刷インキおよびこのインキを使用した超伝導酸化物薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02157121A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0743284A1 (en) * | 1995-05-15 | 1996-11-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Paste for manufacturing ferrite and ferrite |
-
1988
- 1988-12-08 JP JP63311076A patent/JPH02157121A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0743284A1 (en) * | 1995-05-15 | 1996-11-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Paste for manufacturing ferrite and ferrite |
| US5698131A (en) * | 1995-05-15 | 1997-12-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Paste for manufacturing ferrite and ferrite |
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