JPH02162715A - 荷電ビーム描画方法 - Google Patents
荷電ビーム描画方法Info
- Publication number
- JPH02162715A JPH02162715A JP63317976A JP31797688A JPH02162715A JP H02162715 A JPH02162715 A JP H02162715A JP 63317976 A JP63317976 A JP 63317976A JP 31797688 A JP31797688 A JP 31797688A JP H02162715 A JPH02162715 A JP H02162715A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- area
- pattern
- patterning
- dosage
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造工程において用いられる荷電
ビーム描画方法に関する。
ビーム描画方法に関する。
従来、ステップアンドリピート方式の荷電ビーム露光装
置を用いる描画方法においては、第４図に示すように、
ステージの移動を伴なわずに描画できるエリア１０Ａ内
を所望のドーズ量で描画した上で、ステージをエリアサ
イズ分だけ移動させ、次のエリアＩＯＢの描画を行なう
という処理を繰り返す事により、所望パターン３の描画
を実現していた。
置を用いる描画方法においては、第４図に示すように、
ステージの移動を伴なわずに描画できるエリア１０Ａ内
を所望のドーズ量で描画した上で、ステージをエリアサ
イズ分だけ移動させ、次のエリアＩＯＢの描画を行なう
という処理を繰り返す事により、所望パターン３の描画
を実現していた。
しかし、上述した従来の描画方法では、ビーム偏向器が
持つ歪、ステージ位置誤差、荷電ビームに特有な空間電
荷効果等の影響により、第５図に示すように、エリアの
境界においてパターンに局所的なずれが生じるという問
題が生じる。すなわち、エリア１０Ａ内で形成されたパ
ターン３Ａとエリア１０Ｂで形成されたパターン３Ｂ間
にずれ７が形成される。このずれ７を減少させる為、偏
向歪を補正する手段を設け、補正を行ないながら描画を
する方法がとられる場合があるが、ずれを完全に無くす
事は不可能である。
持つ歪、ステージ位置誤差、荷電ビームに特有な空間電
荷効果等の影響により、第５図に示すように、エリアの
境界においてパターンに局所的なずれが生じるという問
題が生じる。すなわち、エリア１０Ａ内で形成されたパ
ターン３Ａとエリア１０Ｂで形成されたパターン３Ｂ間
にずれ７が形成される。このずれ７を減少させる為、偏
向歪を補正する手段を設け、補正を行ないながら描画を
する方法がとられる場合があるが、ずれを完全に無くす
事は不可能である。
このエリア境界でのパターンのずれは、微細加工の精度
を低下させる大きな要因となる。
を低下させる大きな要因となる。
本発明の荷電ビーム描画方法は、試料上へのパターンの
描画を荷電ビームの偏向と試料を載置するステージの移
動により行うベクタスキャン方式を用いる荷電ビーム描
画方法において、ステージの移動を伴なわずに描画でき
るエリアを中心部のメインエリアとその周囲のマージン
エリアとに分け、該マージンエリア内のパターンの描画
を隣接するメインエリアのパターンの描画時に補完的な
ドーズ量を与えて行うものである。
描画を荷電ビームの偏向と試料を載置するステージの移
動により行うベクタスキャン方式を用いる荷電ビーム描
画方法において、ステージの移動を伴なわずに描画でき
るエリアを中心部のメインエリアとその周囲のマージン
エリアとに分け、該マージンエリア内のパターンの描画
を隣接するメインエリアのパターンの描画時に補完的な
ドーズ量を与えて行うものである。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の第１の実施例を説明するための描画概
念図である。
念図である。
第１図において、ステージの移動を伴なわずに描画でき
るエリア１０を中心部のメインエリアとその周囲に一定
の幅を有するマージンエリア２とに分ける。そして、一
つのエリア内はステージを停止した状態で荷電ビームの
偏向により描画を行なう。この時、例えば第２図（ａ）
に示すように、メインエリアＩＡ内のパターン４Ａには
１００％のドーズ量を、そしてマージンエリア２内のパ
ターン４Ｂには５０％のドーズ量を与えて描画する。１
エリア内の描画が終了したらステージを１工リア分だけ
移動させ、次で例えばメインエリアＩＢ内のパターン５
Ａに１００％のドーズ量を、そしてマージンエリア内の
パターン５Ｂには５０％のドーズ量を与えて描画する０
以上の処理を繰り返すことにより所望のパターン３の描
画を行なう。
るエリア１０を中心部のメインエリアとその周囲に一定
の幅を有するマージンエリア２とに分ける。そして、一
つのエリア内はステージを停止した状態で荷電ビームの
偏向により描画を行なう。この時、例えば第２図（ａ）
に示すように、メインエリアＩＡ内のパターン４Ａには
１００％のドーズ量を、そしてマージンエリア２内のパ
ターン４Ｂには５０％のドーズ量を与えて描画する。１
エリア内の描画が終了したらステージを１工リア分だけ
移動させ、次で例えばメインエリアＩＢ内のパターン５
Ａに１００％のドーズ量を、そしてマージンエリア内の
パターン５Ｂには５０％のドーズ量を与えて描画する０
以上の処理を繰り返すことにより所望のパターン３の描
画を行なう。
第２図（ｂ）は第２図（ａ）に示した描画により形成さ
れたマージンエリア２近傍におけるパターンの上面図で
ある。プロセスラチチュードが存在するため、マージン
エリア２内でのパターン６のずれ７は、第５図に示した
従来方法によるエリア境界でのずれより小さくなる。
れたマージンエリア２近傍におけるパターンの上面図で
ある。プロセスラチチュードが存在するため、マージン
エリア２内でのパターン６のずれ７は、第５図に示した
従来方法によるエリア境界でのずれより小さくなる。
尚、マージンエリアの設定は、パターンデータフォーマ
ット上で実現しても、描画装置データ処置部で実現−し
てもよい。
ット上で実現しても、描画装置データ処置部で実現−し
てもよい。
また、メインエリアのコーナ一部におけるマージンエリ
アでは、隣接する４つのメインエリアでの描画時に２５
％づつのドーズ量を与えてパターンの描画を行ってもよ
く、また４つのメインエリアのうち２つのメインエリア
の描画時に５０％づつのドーズ量を与え他の２つのメイ
ンエリアの描画時にはドーズ量を与えないという方法を
用いてもよい。
アでは、隣接する４つのメインエリアでの描画時に２５
％づつのドーズ量を与えてパターンの描画を行ってもよ
く、また４つのメインエリアのうち２つのメインエリア
の描画時に５０％づつのドーズ量を与え他の２つのメイ
ンエリアの描画時にはドーズ量を与えないという方法を
用いてもよい。
第３図は本発明の第２の実施例を説明するためのマージ
ンエリア近傍のパターンの上面図である。
ンエリア近傍のパターンの上面図である。
本第２の実施例では、メインエリアの周囲に第１〜第３
のマージンエリア２Ａ〜２Ｃを設けたもであり、例えば
メインエリアＩＣにおけるパターンの描画時に第１マー
ジンエリア２Ａでは７５％、第２マージンエリア２Ｂで
は５０％、第３７−ジンエリア２Ｃでは２５％のドーズ
量を与えて描画する０次で１エリ、ア分だけステージを
移動させ、次のエリアでの描画を行ない、以下同一の処
理を繰り返す事により、所望パターンの描画を行なう。
のマージンエリア２Ａ〜２Ｃを設けたもであり、例えば
メインエリアＩＣにおけるパターンの描画時に第１マー
ジンエリア２Ａでは７５％、第２マージンエリア２Ｂで
は５０％、第３７−ジンエリア２Ｃでは２５％のドーズ
量を与えて描画する０次で１エリ、ア分だけステージを
移動させ、次のエリアでの描画を行ない、以下同一の処
理を繰り返す事により、所望パターンの描画を行なう。
以上の方法により、第３図に示した様に、マージンエリ
ア２内でのパターンのずれは第１の実施例に比べさらに
小さくなる。
ア２内でのパターンのずれは第１の実施例に比べさらに
小さくなる。
以上説明したように本発明は、ステージの移動を伴なわ
ずに描画できるエリアを中心部のメインエリアとその周
囲のマージンエリアとに分け、このマージンエリア内の
パターンの描画を隣接するメインエリアのパターンの描
画時に互いに補完的なドーズ量を与え、合計が所望のド
ーズ量に等しくなる様に描画する事により、描画された
パターンの局所的なずれを小さくできる為、微細加工の
精度を向上させる事ができるという効果がある。
ずに描画できるエリアを中心部のメインエリアとその周
囲のマージンエリアとに分け、このマージンエリア内の
パターンの描画を隣接するメインエリアのパターンの描
画時に互いに補完的なドーズ量を与え、合計が所望のド
ーズ量に等しくなる様に描画する事により、描画された
パターンの局所的なずれを小さくできる為、微細加工の
精度を向上させる事ができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の第１の実施例を説明するための描画概
念図、第２図（ａ）、（ｂ）は第１の実施例におけるマ
ージンエリア近傍の描画概念図および描画後のパターン
の上面図、第３図は本発明の第２の実施例を説明するた
めのマージンエリア近傍の描画後のパターンの上面図、
第４図は従来例を説明するための描画概念図、第５図は
従来例によるエリア境界近傍の描画後のパターンの上面
図である。 ＩＡ、ＩＢ、ＩＣ，ＩＤ・・・メインエリア、２゜２Ａ
、２Ｂ、２Ｃ・・・マージンエリア、・３．３Ａ。 ４Ａ、４Ｂ、５Ａ、５Ｂ、６・・・パターン、７・・・
ずれ、１０．ＩＯＡ、ＩＯＢ・・・エリア。 代理人 弁理士 内 原 晋 カつ因
念図、第２図（ａ）、（ｂ）は第１の実施例におけるマ
ージンエリア近傍の描画概念図および描画後のパターン
の上面図、第３図は本発明の第２の実施例を説明するた
めのマージンエリア近傍の描画後のパターンの上面図、
第４図は従来例を説明するための描画概念図、第５図は
従来例によるエリア境界近傍の描画後のパターンの上面
図である。 ＩＡ、ＩＢ、ＩＣ，ＩＤ・・・メインエリア、２゜２Ａ
、２Ｂ、２Ｃ・・・マージンエリア、・３．３Ａ。 ４Ａ、４Ｂ、５Ａ、５Ｂ、６・・・パターン、７・・・
ずれ、１０．ＩＯＡ、ＩＯＢ・・・エリア。 代理人 弁理士 内 原 晋 カつ因
Claims (1)
- 試料上へのパターンの描画を荷電ビームの偏向と試料を
載置するステージの移動により行うベクタスキャン方式
を用いる荷電ビーム描画方法において、ステージの移動
を伴なわずに描画できるエリアを中心部のメインエリア
とその周囲のマージンエリアとに分け、該マージンエリ
ア内のパターンの描画を隣接するメインエリアのパター
ンの描画時に補完的なドーズ量を与えて行うことを特徴
とする荷電ビーム描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63317976A JPH02162715A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | 荷電ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63317976A JPH02162715A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | 荷電ビーム描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02162715A true JPH02162715A (ja) | 1990-06-22 |
Family
ID=18094093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63317976A Pending JPH02162715A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | 荷電ビーム描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02162715A (ja) |
-
1988
- 1988-12-15 JP JP63317976A patent/JPH02162715A/ja active Pending
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