JPH0216932B2 - - Google Patents
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- JPH0216932B2 JPH0216932B2 JP59182896A JP18289684A JPH0216932B2 JP H0216932 B2 JPH0216932 B2 JP H0216932B2 JP 59182896 A JP59182896 A JP 59182896A JP 18289684 A JP18289684 A JP 18289684A JP H0216932 B2 JPH0216932 B2 JP H0216932B2
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- JP
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- polycarbonate
- substituted
- devolatilization
- injection molding
- unsubstituted
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- Expired - Lifetime
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/50—Phosphorus bound to carbon only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/25—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C48/36—Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it through the nozzle or die
- B29C48/50—Details of extruders
- B29C48/76—Venting, drying means; Degassing means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/03—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor characterised by the shape of the extruded material at extrusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2069/00—Use of PC, i.e. polycarbonates or derivatives thereof, as moulding material
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Medicinal Chemistry (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
ホスフインまたはホスフアンを用いるポリカー
ボネートの安定化は三菱ガス化学(株)による昭和47
年特許出願公告第22088号(1968年5月28日出願、
1972年6月21日公告)から公知である。この公知
文献によれば、当時のポリカーボネートホスフア
イト安定剤は十分に満足できるものではなかつ
た。しかしながら、この公知方法によりホスフイ
ン(ホスフアン)安定剤を配合する場合、安定化
されるプラスチツクを完全に乾燥することが明ら
かに推奨される。 またホスフインを用いるポリカーボネートの安
定化はドイツ国特許出願公開第2206720号から公
知であり、その際に適当ならばエポキシ化合物も
追加して用いる。 米国特許第4367303号の第6欄及びドイツ国特
許出願公開第3026503号の17頁から、トリフエニ
ルホスフインを用いる安定化(比較試験IB)は
熱老化に関してオキシエタン基を含むホスフアイ
トを有するもの(比較試験IA)より劣つている
ことが公知である。 V.Hooren及びKaminski,
PlastikverarbeiterNo.8/1980,441〜446頁
「Entgasungsspritzgieβen,ein Laborkonzept
wird in die Praxis umgesetzt」(脱蔵射出成
形、実験室の概念を実用に)によれば、オキシエ
タン基を含むホスフアイトで安定化されるポリカ
ーボネートは他のプラスチツクに加えて脱蔵
(devolatilising)射出成形工程に従つても処理す
ることができる(記引用文中の446頁の左欄の上
端)。このポリカーボネートを処理する場合、脱
蔵装置を用いて処理されるプラスチツク材料を除
湿することは脱蔵射出成形工程及び脱蔵押出工程
の両方に対して重要である。 脱蔵装置はいわゆる脱蔵オリフイス及びスクリ
ユー形状により通常の射出成形装置と異なつてい
る。通常の射出成形スクリユーは圧縮ゾーン及び
放出(expulsion)ゾーンに続いて取り込み
(intake)ゾーンを有しているが、脱蔵装置は取
り込みゾーン、圧縮ゾーン、脱圧縮ゾーン、第二
の圧縮ゾーン及び放出ゾーンからなる。スクリユ
ーバレル(barrel)における脱圧縮ゾーンの始ま
りは脱蔵オリフイスであり、これを介して脱蔵操
作が進行し、融溶の結果下降する。脱蔵オリフイ
スを真空にする必要はなく、その理由は未乾燥の
ポリカーボネート中の水の蒸気圧が脱圧縮ゾーン
中で16〜130バールの圧力に達するからである。
最初の圧縮ゾーンにおいて、ポリカーボネートは
苛酷な熱に曝され、そして第二の圧縮ゾーンにお
いて、新たな熱に対する曝露が起こる。かくて通
常の射出成形方法と比較して、この材料は2回熱
に曝される。この脱蔵法の詳述は上記の参考文献
に見い出し得る。 上記によれば、脱蔵射出成形及び脱蔵押出工程
において、一方では大きな熱的応力が使用され、
そして他方では湿潤材料を用いるため、ホスフイ
ン(ホスフアン)で安定化されたポリカーボネー
トがオキシエタン基を含むホスフアイトで安定化
したポリカーボネートと少なくとも同等に処理し
得ることは驚くべきことである。上記特許出願公
開及び米国特許によれば、このことは予期されな
かつた。 かくて本発明は一般式 (R)2PR1 () 式中、Rは未置換であるか、もしくは置換され
たC6〜C14−アリール基であり、そしてR1は未置
換であるか、もしくは置換されたC6〜C14−アリ
ール基または未置換であるか、もしくは置換され
たC1〜C18−アルキル基、 のホスフアンを含む熱可塑性ポリカーボネートを
用いることを特徴とする、脱蔵射出成形または脱
蔵押出工程によるポリカーボネート成形製品及び
ポリカーボネートを含む配合物の成形製品の製造
方法に関するものである。 式()の化合物の基Rは同一であるか、また
は相異なるかのいずれかであることができる。 本発明により使用されるホスフアンは少なくと
も200℃の沸点を有するべきである。 本発明によれば、ポリカーボネート成形製品は
熱及び/または酸素に対して安定化されている。 式()の化合物において、アリール基Rは例
えばアルキル置換基、ハロゲンまたはOHで置換
することもできる。式()の化合物のアルキル
基R1は直鎖状か、または分枝鎖状であることが
できる。これらのものは例えばOH、アルキルカ
ルボキシル、シアノまたはフエニルで置換するこ
とができる。 本発明の適する式()のホスフアンの例には
次のものがある:トリフエニルホスフアン、ジフ
エニルブチルホスフアン、ジフエニルオクタデシ
ルホスフアン、トリス−p−トリルホスフアン、
トリス−(p−ノニルフエニル)−ホスフアン、ト
リス−ナフチルホスフアン、ジフエニル−(ヒド
ロキシメチル)−ホスフアン、ジフエニルアセト
キシメチルホスフアン、ジフエニル−(β−エチ
ルカルボキシエチル)−ホスフアン、トリス−(p
−クロロフエニル)−ホスフアン、トリス−(p−
フルオロフエニル)−ホスフアン、ジフエニルベ
ンジルホスフアン、ジフエニル−β−シアノエチ
ルホスフアン、ジフエニル−(p−ヒドロキシフ
エニル)−ホスフアン、ジフエニル−1,4−ジ
ヒドロキシフエニル−2−ホスフアン及びフエニ
ルナフチルベンジルホスフアン。 上記のホスフアンの個々の化合物または混合物
のいずれかを用いることができる。 式()のホスフアンは文献から公知である
か、または文献から公知である方法により製造す
ることができる。 本発明による成形製品に処理される熱可塑性ポ
リカーボネートはジフエノールをホスゲンまたは
炭酸、ジヒドロキシジアリールアルカンのジエス
テルと反応させることにより得られ、その際に未
置換のジヒドロキシジアリールアルカンに加えて
ヒドロキシル基に対してo−及び/またはm−位
置にメチル基またはハロゲン原子を持つアリール
基も適する重縮合体である。 成形製品に処理されるポリカーボネートは
CH2Cl2中にて25℃及び0.5重量%の濃度での相対
粘度を測定することにより求められる10000乃至
100000間、好ましくは20000乃至40000間の平均分
子量wを有している。適当なジフエノールの例
にはハイドロキノン、レゾルシノール、4,4′−
ジヒドロキシジフエニル、ビス−(ヒドロキシ−
フエニル)−アルカン例えばC1〜C8−アルキレン
−もしくはC2〜C8−アルキリデン−ビス−フエ
ノール、ビス−(ヒドロキシフエニル)−シクロア
ルカン例えばC5〜C15−シクロアルキレン−もし
くはC5〜C15−シクロアルキリデン−ビスフエノ
ール、ビス−(ヒドロキシ−フエニル)スルフア
イド、エーテル、ケトン、スルホキシドまたはス
ルホン、並びに更にα,α′−ビス−(ヒドロキシ
−フエニル)−ジイソプロピルベンゼン及び対応
する核アルキル化されるか、または核ハロゲン化
された化合物がある。2,2−ビス−(4−ヒド
ロキシフエニル)−プロパン(ビスフエノール
A)、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−
ジクロロ−フエニル)−プロパン(テトラクロロ
ビスフエノールA)、2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジブロモフエニル)−プロパン
(テトラブロモビスフエノールA)、2,2−ビス
−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フエニ
ル)−プロパン(テトラメチルビスフエノールA)
及び1,1−ビス−(4−ヒドロキシフエニル)−
シクロヘキサン(ビスフエノールZ)をベースと
するポリカーボネート、並びに三核のビスフエノ
ール例えばα,α′−ビス−(4−ヒドロキシフエ
ニル)−p−ジイソプロピルベンゼンをベースと
するものが好ましい。 ポリカーボネートの製造に適する他のビスフエ
ノールは米国特許第3028365号、同第2999835号、
同第3148172号、同第2970131号、同第2991273号、
同第3271367号及び同第2999846号に記載されてい
る。 ホスフアンの添加はいずれかの所望の方法で行
い得るが、例えばポリカーボネートの製造中、特
に安定剤が比較的低温で液体であるため、連続的
に行うことが有利である。この場合、ホスフアン
は製造の終了期中に適当な運搬ポンプを介して連
続的に導入することができ、その際に溶融したポ
リカーボネートは真空下の運搬用スクリユー中に
て連続的に溶媒から除去する。また勿論更にポリ
カーボネートをその製造後に例えばいわゆるタン
ブリング(tumbling)により安定化することが
でき;この方法は本明細書の実施例に述べられて
おり、そして文献から公知である。 用いるホスフアンの量は熱可塑性ポリカーボネ
ート及びホスフアンの全量を基準として0.01乃至
0.1重量%である。 また本発明により処理されるポリカーボネート
は例えば充てん剤、染料、顔料及び/または他の
安定剤の如き公知の添加剤を含むことができる。 また本発明により処理される熱可塑性ポリカー
ボネートは公知の方法で他の熱プラスチツク、例
えばABS重合体、ポリスチレン、ポリアリーレ
ン−スルホンまたはポリアルキレンテレフタレー
トと混合することができる。 本発明により処理されるポリカーボネートは製
造された成形製品が比較的長時間高温に曝される
すべての場合、そして加えて高い透明性が要求さ
れるすべての製品に使用される。このものは光の
分野、例えばランプのカバーまたはポリカーボネ
ートシートを用いるつや出し加工(glazing)に
用いることが好ましい。 以下の参考例及び実施例に示される部は重量部
である。 参考例 (ポリカーボネート製造) 2,2−ビス−(p−ヒドロキシフエニル)−プ
ロパン454部及びp−tert−ブチルフエノール2.5
部を撹拌機及びガス導入管を備えた三ツ口フラス
コ中で水1.5に懸濁させ、次に窒素を撹拌しな
がら15分間反応混合物に通すことにより酸素を反
応混合物から除去した。次に45%水酸化ナトリウ
ム溶液355部及び塩化メチレン1000部を加えた。
この混合物を25℃に冷却した。冷却してこの温度
を保持しながらホスゲン237部を120分間にわたつ
て導入した。追加の量の45%水酸化ナトリウム溶
液75部を10〜30分後か、またはホスゲンの取り込
みが開始した後に加えた。生じた溶液にトリエチ
ルアミン1.6部を加え、そしてこの混合物を更に
15分間撹拌した。高度に粘稠な溶液が得られ、塩
化メチレンを加えてその粘度を調節した。水相を
除去した。塩及びアルカリが除去されるまで有機
相を水で洗浄した。ポリカーボネートを洗浄液か
ら単離し、そして乾燥した。このポリカーボネー
トは0.5%塩化メチレン溶液中にて20℃で測定し
た際に1.29〜1.30の相対粘度を有していた。これ
はほぼ分子量32000に相当する。かくて得られた
ポリカーボネートを押出、そして造粒した。 実施例4 (安定化されたポリカーボネート) 上記参考例で製造した粒状ポリカーボネートを
安定剤とZSK32押出機上にて270℃で混合した
(ただし比較例1では安定剤を使用しなかつた)。
生成物を(a)300℃の設定温度にて通常の射出成形
装置上で、そして(b)約305℃の材料温度に対応す
る、295℃(ノズル)、290℃、275℃及び295℃の
設定温度にて脱蔵装置上で、それぞれ幅の広い棒
に射出成形した。 比較例 1 組成:非安定化ポリカーボネート
ボネートの安定化は三菱ガス化学(株)による昭和47
年特許出願公告第22088号(1968年5月28日出願、
1972年6月21日公告)から公知である。この公知
文献によれば、当時のポリカーボネートホスフア
イト安定剤は十分に満足できるものではなかつ
た。しかしながら、この公知方法によりホスフイ
ン(ホスフアン)安定剤を配合する場合、安定化
されるプラスチツクを完全に乾燥することが明ら
かに推奨される。 またホスフインを用いるポリカーボネートの安
定化はドイツ国特許出願公開第2206720号から公
知であり、その際に適当ならばエポキシ化合物も
追加して用いる。 米国特許第4367303号の第6欄及びドイツ国特
許出願公開第3026503号の17頁から、トリフエニ
ルホスフインを用いる安定化(比較試験IB)は
熱老化に関してオキシエタン基を含むホスフアイ
トを有するもの(比較試験IA)より劣つている
ことが公知である。 V.Hooren及びKaminski,
PlastikverarbeiterNo.8/1980,441〜446頁
「Entgasungsspritzgieβen,ein Laborkonzept
wird in die Praxis umgesetzt」(脱蔵射出成
形、実験室の概念を実用に)によれば、オキシエ
タン基を含むホスフアイトで安定化されるポリカ
ーボネートは他のプラスチツクに加えて脱蔵
(devolatilising)射出成形工程に従つても処理す
ることができる(記引用文中の446頁の左欄の上
端)。このポリカーボネートを処理する場合、脱
蔵装置を用いて処理されるプラスチツク材料を除
湿することは脱蔵射出成形工程及び脱蔵押出工程
の両方に対して重要である。 脱蔵装置はいわゆる脱蔵オリフイス及びスクリ
ユー形状により通常の射出成形装置と異なつてい
る。通常の射出成形スクリユーは圧縮ゾーン及び
放出(expulsion)ゾーンに続いて取り込み
(intake)ゾーンを有しているが、脱蔵装置は取
り込みゾーン、圧縮ゾーン、脱圧縮ゾーン、第二
の圧縮ゾーン及び放出ゾーンからなる。スクリユ
ーバレル(barrel)における脱圧縮ゾーンの始ま
りは脱蔵オリフイスであり、これを介して脱蔵操
作が進行し、融溶の結果下降する。脱蔵オリフイ
スを真空にする必要はなく、その理由は未乾燥の
ポリカーボネート中の水の蒸気圧が脱圧縮ゾーン
中で16〜130バールの圧力に達するからである。
最初の圧縮ゾーンにおいて、ポリカーボネートは
苛酷な熱に曝され、そして第二の圧縮ゾーンにお
いて、新たな熱に対する曝露が起こる。かくて通
常の射出成形方法と比較して、この材料は2回熱
に曝される。この脱蔵法の詳述は上記の参考文献
に見い出し得る。 上記によれば、脱蔵射出成形及び脱蔵押出工程
において、一方では大きな熱的応力が使用され、
そして他方では湿潤材料を用いるため、ホスフイ
ン(ホスフアン)で安定化されたポリカーボネー
トがオキシエタン基を含むホスフアイトで安定化
したポリカーボネートと少なくとも同等に処理し
得ることは驚くべきことである。上記特許出願公
開及び米国特許によれば、このことは予期されな
かつた。 かくて本発明は一般式 (R)2PR1 () 式中、Rは未置換であるか、もしくは置換され
たC6〜C14−アリール基であり、そしてR1は未置
換であるか、もしくは置換されたC6〜C14−アリ
ール基または未置換であるか、もしくは置換され
たC1〜C18−アルキル基、 のホスフアンを含む熱可塑性ポリカーボネートを
用いることを特徴とする、脱蔵射出成形または脱
蔵押出工程によるポリカーボネート成形製品及び
ポリカーボネートを含む配合物の成形製品の製造
方法に関するものである。 式()の化合物の基Rは同一であるか、また
は相異なるかのいずれかであることができる。 本発明により使用されるホスフアンは少なくと
も200℃の沸点を有するべきである。 本発明によれば、ポリカーボネート成形製品は
熱及び/または酸素に対して安定化されている。 式()の化合物において、アリール基Rは例
えばアルキル置換基、ハロゲンまたはOHで置換
することもできる。式()の化合物のアルキル
基R1は直鎖状か、または分枝鎖状であることが
できる。これらのものは例えばOH、アルキルカ
ルボキシル、シアノまたはフエニルで置換するこ
とができる。 本発明の適する式()のホスフアンの例には
次のものがある:トリフエニルホスフアン、ジフ
エニルブチルホスフアン、ジフエニルオクタデシ
ルホスフアン、トリス−p−トリルホスフアン、
トリス−(p−ノニルフエニル)−ホスフアン、ト
リス−ナフチルホスフアン、ジフエニル−(ヒド
ロキシメチル)−ホスフアン、ジフエニルアセト
キシメチルホスフアン、ジフエニル−(β−エチ
ルカルボキシエチル)−ホスフアン、トリス−(p
−クロロフエニル)−ホスフアン、トリス−(p−
フルオロフエニル)−ホスフアン、ジフエニルベ
ンジルホスフアン、ジフエニル−β−シアノエチ
ルホスフアン、ジフエニル−(p−ヒドロキシフ
エニル)−ホスフアン、ジフエニル−1,4−ジ
ヒドロキシフエニル−2−ホスフアン及びフエニ
ルナフチルベンジルホスフアン。 上記のホスフアンの個々の化合物または混合物
のいずれかを用いることができる。 式()のホスフアンは文献から公知である
か、または文献から公知である方法により製造す
ることができる。 本発明による成形製品に処理される熱可塑性ポ
リカーボネートはジフエノールをホスゲンまたは
炭酸、ジヒドロキシジアリールアルカンのジエス
テルと反応させることにより得られ、その際に未
置換のジヒドロキシジアリールアルカンに加えて
ヒドロキシル基に対してo−及び/またはm−位
置にメチル基またはハロゲン原子を持つアリール
基も適する重縮合体である。 成形製品に処理されるポリカーボネートは
CH2Cl2中にて25℃及び0.5重量%の濃度での相対
粘度を測定することにより求められる10000乃至
100000間、好ましくは20000乃至40000間の平均分
子量wを有している。適当なジフエノールの例
にはハイドロキノン、レゾルシノール、4,4′−
ジヒドロキシジフエニル、ビス−(ヒドロキシ−
フエニル)−アルカン例えばC1〜C8−アルキレン
−もしくはC2〜C8−アルキリデン−ビス−フエ
ノール、ビス−(ヒドロキシフエニル)−シクロア
ルカン例えばC5〜C15−シクロアルキレン−もし
くはC5〜C15−シクロアルキリデン−ビスフエノ
ール、ビス−(ヒドロキシ−フエニル)スルフア
イド、エーテル、ケトン、スルホキシドまたはス
ルホン、並びに更にα,α′−ビス−(ヒドロキシ
−フエニル)−ジイソプロピルベンゼン及び対応
する核アルキル化されるか、または核ハロゲン化
された化合物がある。2,2−ビス−(4−ヒド
ロキシフエニル)−プロパン(ビスフエノール
A)、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−
ジクロロ−フエニル)−プロパン(テトラクロロ
ビスフエノールA)、2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシ−3,5−ジブロモフエニル)−プロパン
(テトラブロモビスフエノールA)、2,2−ビス
−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−フエニ
ル)−プロパン(テトラメチルビスフエノールA)
及び1,1−ビス−(4−ヒドロキシフエニル)−
シクロヘキサン(ビスフエノールZ)をベースと
するポリカーボネート、並びに三核のビスフエノ
ール例えばα,α′−ビス−(4−ヒドロキシフエ
ニル)−p−ジイソプロピルベンゼンをベースと
するものが好ましい。 ポリカーボネートの製造に適する他のビスフエ
ノールは米国特許第3028365号、同第2999835号、
同第3148172号、同第2970131号、同第2991273号、
同第3271367号及び同第2999846号に記載されてい
る。 ホスフアンの添加はいずれかの所望の方法で行
い得るが、例えばポリカーボネートの製造中、特
に安定剤が比較的低温で液体であるため、連続的
に行うことが有利である。この場合、ホスフアン
は製造の終了期中に適当な運搬ポンプを介して連
続的に導入することができ、その際に溶融したポ
リカーボネートは真空下の運搬用スクリユー中に
て連続的に溶媒から除去する。また勿論更にポリ
カーボネートをその製造後に例えばいわゆるタン
ブリング(tumbling)により安定化することが
でき;この方法は本明細書の実施例に述べられて
おり、そして文献から公知である。 用いるホスフアンの量は熱可塑性ポリカーボネ
ート及びホスフアンの全量を基準として0.01乃至
0.1重量%である。 また本発明により処理されるポリカーボネート
は例えば充てん剤、染料、顔料及び/または他の
安定剤の如き公知の添加剤を含むことができる。 また本発明により処理される熱可塑性ポリカー
ボネートは公知の方法で他の熱プラスチツク、例
えばABS重合体、ポリスチレン、ポリアリーレ
ン−スルホンまたはポリアルキレンテレフタレー
トと混合することができる。 本発明により処理されるポリカーボネートは製
造された成形製品が比較的長時間高温に曝される
すべての場合、そして加えて高い透明性が要求さ
れるすべての製品に使用される。このものは光の
分野、例えばランプのカバーまたはポリカーボネ
ートシートを用いるつや出し加工(glazing)に
用いることが好ましい。 以下の参考例及び実施例に示される部は重量部
である。 参考例 (ポリカーボネート製造) 2,2−ビス−(p−ヒドロキシフエニル)−プ
ロパン454部及びp−tert−ブチルフエノール2.5
部を撹拌機及びガス導入管を備えた三ツ口フラス
コ中で水1.5に懸濁させ、次に窒素を撹拌しな
がら15分間反応混合物に通すことにより酸素を反
応混合物から除去した。次に45%水酸化ナトリウ
ム溶液355部及び塩化メチレン1000部を加えた。
この混合物を25℃に冷却した。冷却してこの温度
を保持しながらホスゲン237部を120分間にわたつ
て導入した。追加の量の45%水酸化ナトリウム溶
液75部を10〜30分後か、またはホスゲンの取り込
みが開始した後に加えた。生じた溶液にトリエチ
ルアミン1.6部を加え、そしてこの混合物を更に
15分間撹拌した。高度に粘稠な溶液が得られ、塩
化メチレンを加えてその粘度を調節した。水相を
除去した。塩及びアルカリが除去されるまで有機
相を水で洗浄した。ポリカーボネートを洗浄液か
ら単離し、そして乾燥した。このポリカーボネー
トは0.5%塩化メチレン溶液中にて20℃で測定し
た際に1.29〜1.30の相対粘度を有していた。これ
はほぼ分子量32000に相当する。かくて得られた
ポリカーボネートを押出、そして造粒した。 実施例4 (安定化されたポリカーボネート) 上記参考例で製造した粒状ポリカーボネートを
安定剤とZSK32押出機上にて270℃で混合した
(ただし比較例1では安定剤を使用しなかつた)。
生成物を(a)300℃の設定温度にて通常の射出成形
装置上で、そして(b)約305℃の材料温度に対応す
る、295℃(ノズル)、290℃、275℃及び295℃の
設定温度にて脱蔵装置上で、それぞれ幅の広い棒
に射出成形した。 比較例 1 組成:非安定化ポリカーボネート
【表】
比較例 2
組成:ポリカーボネート+0.1%
【表】
比較例 3
組成:ポリカーボネート+0.2%P(C6H5)3
【表】
本発明例
組成:ポリカーボネート+0.1%P(C6H5)3
【表】
[記号の説明]
ΔCYB:+黄色変位、−青色変位
(FMC−により、中性に対して測定)
ΔΔCYB:ΔCYB(脱蔵射出成形)
マイナスΔCYB(通常の射出成形)
Y(h):補正した透明度
N:通常の射出成形
DV:脱蔵射出成形
FMC−:フリエル(Friele)、マツクアダムス
(MacAdams)及びチツカリング
(Chickering)による色調分離式
(MacAdams)及びチツカリング
(Chickering)による色調分離式
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 熱可塑性ポリカーボネート組成物が一般式
() (R)2PR1 () 式中、Rは未置換であるか、もしくは置換され
たC6〜C14−アリール基であり、そしてR1は未置
換であるか、もしくは置換されたC6〜14−アリー
ル基または未置換であるか、もしくは置換された
C1〜C18−アルキル基である、 のホスフアンをポリカーボネート及びホスフアン
の全重量を基準として0.01乃至0.1重量%間の量
で含んでなる、脱蔵射出成形または脱蔵押出工程
によるポリカーボネート成形製品の製造方法。 2 基Rがアルキル、ハロゲンまたはヒドロキシ
で置換される、特許請求の範囲第1項記載の方
法。 3 基R1がヒドロキシ、アルキルカルボキシル、
シアノまたはフエニルで置換される、特許請求の
範囲第1〜2項のいずれかに記載の方法。 4 ポリカーボネートが10000乃至100000間の平
均分子量を有する、特許請求の範囲第1〜3項の
いずれかに記載の方法。
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