JPH02172242A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置Info
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- JPH02172242A JPH02172242A JP63326769A JP32676988A JPH02172242A JP H02172242 A JPH02172242 A JP H02172242A JP 63326769 A JP63326769 A JP 63326769A JP 32676988 A JP32676988 A JP 32676988A JP H02172242 A JPH02172242 A JP H02172242A
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- metal wire
- semiconductor device
- inner lead
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- H10W72/50—Bond wires
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- H10W72/015—Manufacture or treatment of bond wires
- H10W72/01515—Forming coatings
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- H10W72/552—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
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Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、樹脂封止型半導体装置に関する。
従来、この種の樹脂封止型半導体装置は、第2図に示す
ように、半導体チップ5がアイランド4の上に搭載され
固着された後、金属線2によって半導体チップ5の電極
と内部リード1との電気的接続を行ない、その後樹脂体
6により封止され、リード成形等を経て、製造されてい
た。
ように、半導体チップ5がアイランド4の上に搭載され
固着された後、金属線2によって半導体チップ5の電極
と内部リード1との電気的接続を行ない、その後樹脂体
6により封止され、リード成形等を経て、製造されてい
た。
上述した従来の樹脂封止型半導体装置は、金属線により
半導体チップの電極と内部リードとを電気的接続をして
いるが、近年半導体装置の配線基板への実装方法として
V P S (Vapor PhaseSolderi
ng )や赤外線リフローが取り入れられているが、こ
の熱ストレスにより金属線と内部リードとの接合部にク
ラックが発生して半導体装置の信頼性を低下させるとい
う問題がある。
半導体チップの電極と内部リードとを電気的接続をして
いるが、近年半導体装置の配線基板への実装方法として
V P S (Vapor PhaseSolderi
ng )や赤外線リフローが取り入れられているが、こ
の熱ストレスにより金属線と内部リードとの接合部にク
ラックが発生して半導体装置の信頼性を低下させるとい
う問題がある。
この、クラックの発生メカニズムとしては、配線基板へ
の実装時の加熱により半導体装置全体が急激に高温(2
10℃〜260℃程度)にさらされ、樹脂のガラス転位
点(160″C前後)を超えてしまい樹脂体が熱により
急激に膨張し、樹脂体が変形してしまう。そのため、樹
脂体の膨張方向へ金属線も一緒に移動してしまい変形す
る。しかし、金属線は、内部リードと接合している為金
属線に樹脂体の応力が集中し、金属線の最も弱い接合部
分付近にクラックが発生してしまう。
の実装時の加熱により半導体装置全体が急激に高温(2
10℃〜260℃程度)にさらされ、樹脂のガラス転位
点(160″C前後)を超えてしまい樹脂体が熱により
急激に膨張し、樹脂体が変形してしまう。そのため、樹
脂体の膨張方向へ金属線も一緒に移動してしまい変形す
る。しかし、金属線は、内部リードと接合している為金
属線に樹脂体の応力が集中し、金属線の最も弱い接合部
分付近にクラックが発生してしまう。
本発明の樹脂封止型半導体装置は、半導体チップの電極
と内部リードとの間を接続する金属線の内部リードとの
接続部とその近傍を含んで内部リードと密着性の良い液
状エポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂で被覆した後に樹
脂封止を行う。
と内部リードとの間を接続する金属線の内部リードとの
接続部とその近傍を含んで内部リードと密着性の良い液
状エポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂で被覆した後に樹
脂封止を行う。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図(a)、(b)は本発明の一実施例を説明するた
めの内部リードの平面図及びA−A’線断面図である。
めの内部リードの平面図及びA−A’線断面図である。
第1図(a)、(b)に示すように、内部り−ド1に金
属線2をボンディングして接合した後、前記接合部及び
その周囲を含めて内部リード1と密着性の良い低応力の
液状エポキシ樹脂3で被覆して熱硬化する。しかる後、
従来例と同様にアイランド及び内部リード1を含めて樹
脂封止し、樹脂型半導体装置を構成する。
属線2をボンディングして接合した後、前記接合部及び
その周囲を含めて内部リード1と密着性の良い低応力の
液状エポキシ樹脂3で被覆して熱硬化する。しかる後、
従来例と同様にアイランド及び内部リード1を含めて樹
脂封止し、樹脂型半導体装置を構成する。
以上説明したように本発明は、内部リードと金属線との
接合部とその近傍を含めて内部リードと密着性のいい熱
硬化性樹脂で覆うことにより金属線の最も弱い部分を内
部リードに固着し、半導体装置の配線基板への実装時の
熱応力による金属線のクラックを防止できる効果がある
。
接合部とその近傍を含めて内部リードと密着性のいい熱
硬化性樹脂で覆うことにより金属線の最も弱い部分を内
部リードに固着し、半導体装置の配線基板への実装時の
熱応力による金属線のクラックを防止できる効果がある
。
第1図(a)、(b)は本発明の一実施例を説明するた
めの内部リードの平面図及びA−A’線断面図、第2図
は従来の樹脂封止型半導体装置の一例を示す断面図であ
る。 1・・・内部リード、2・・・金属線、3・・・液状エ
ポキシ樹脂、4・・・アイランド、ら・・・半導体チッ
プ、6・・・樹脂体、7・・・外部リード。
めの内部リードの平面図及びA−A’線断面図、第2図
は従来の樹脂封止型半導体装置の一例を示す断面図であ
る。 1・・・内部リード、2・・・金属線、3・・・液状エ
ポキシ樹脂、4・・・アイランド、ら・・・半導体チッ
プ、6・・・樹脂体、7・・・外部リード。
Claims (1)
- アイランド上に搭載した半導体チップと、前記アイラン
ドの周囲に配列して設けた内部リードと、前記半導体チ
ップの電極と前記内部リードとの間を接続する金属線と
、前記アイランド及び前記内部リードを含んで封止する
樹脂体とを有する樹脂封止型半導体装置において、前記
内部リードと前記金属線との接合部分を樹脂封止に先立
ち被覆する熱硬化性樹脂を有することを特徴とする樹脂
封止型半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63326769A JPH02172242A (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | 樹脂封止型半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63326769A JPH02172242A (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | 樹脂封止型半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02172242A true JPH02172242A (ja) | 1990-07-03 |
Family
ID=18191489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63326769A Pending JPH02172242A (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | 樹脂封止型半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02172242A (ja) |
-
1988
- 1988-12-23 JP JP63326769A patent/JPH02172242A/ja active Pending
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