JPH02176655A - 自動現像装置 - Google Patents

自動現像装置

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JPH02176655A
JPH02176655A JP63328984A JP32898488A JPH02176655A JP H02176655 A JPH02176655 A JP H02176655A JP 63328984 A JP63328984 A JP 63328984A JP 32898488 A JP32898488 A JP 32898488A JP H02176655 A JPH02176655 A JP H02176655A
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roller
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Shinichi Shidara
真一 設楽
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、撮影済みフィルムを連続的、に現像、定着、
水洗の各工程に送り現像処理を行う自動現像装置に関す
るものである。
(発明の技術的背景) フィルムの連続現像処理を行うものとして従来よりロー
ラー搬送方式、ループ搬送方式、水平搬送方式が知られ
ている。ローラ搬送方式は多数のローラによって上下に
深い処理液槽内を搬送するものであるが、処理液槽が深
(装置が大型化するという問題を有する。ループ搬送方
式は処理液槽の上下に配置したローラ間にフィルムを掛
は渡して搬送するものであるが、ローラ搬送方式と同様
な問題点を有するものである。また水平搬送方式は水平
に搬送されるフィルムに処理液を噴射して現像を行うも
のであるが、高速処理を行うためには処理液とフィルム
とが接触する距離すなわち水平方向のパスが長くなり、
装置が大型化するという問題があった。
一方現像液はその使用によって疲労や劣化を起こす。ま
た現像液の温度も使用条件によって変動することがあり
うる。このため処理時間等の処理降件を一定にしても、
現像液の疲労・劣化や温度変化等により出来上がりの現
像濃度が変化し、処理の品質が不均一になるという問題
が生じる。
(発明の目的) 本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、高
速処理および小型化に適し、現像液の疲労・劣化が生じ
てもまた温度変化があっても現像処理濃度を一定に保ち
処理の品質を安定させることが可能な自動現像装置を提
供することを目的とする。
(発明の構成) 本発明によればこの目的は、撮影済みフィルムを、現像
、定着、水洗の各工程に順次送って連続的に現像処理す
る自動現像装置において、少くとも現像工程は、現像液
中を移送されるフィルムに向って下方から超音波を照射
する超音波発生手段と、フィルムの現像濃度を検出する
濃度検出手段と、前記現像液に入るフィルムを現像処理
に先行して加熱する予備加熱手段とを備え、前記現像濃
度に対応してフィルムの予備加熱温度を変化させること
を特徴とする自動現像装置により達成される。
すなわち本発明は超音波により処理速度を速くすること
を前提とし、現像液の疲労・劣化に対しては、処理後の
現像濃度を監視し、この現像濃度に対応して予備加熱温
度を変化させるようにするものである。ここに予備加熱
手段は、フィルムの送りローラをヒートローラで構成し
、このローラによってフィルムを加熱するように構成す
ることができる。
(実施例) 第1図は本発明を現像工程に適用した一実施例を示す図
、第2図は処理液パックを示す図であり、第2A図はそ
の外観斜視図、第2B、20図はその使用前と使用後の
内部状態を示す図、また第3図は第1図におけるIII
 −III線断面図である。
第1図において20は現像処理槽であり、この処理槽2
0は側面視円弧状の底を有するフィルムガイド部22と
、フィルム走行方向(右方向)に向って斜めにフィルム
ガイド部22に交わるように開口する加振部24とを備
える。フィルムガイド部22の左端にはフィルム12を
処理槽2oに一定速度で搬入する一対の送りローラ26
が、右端にはフィルム12を同一の速度で搬出する一対
の送りローラ28がそれぞれ設けられている。搬入側の
送りローラ26は電気ヒータ26Aを内蔵するヒートロ
ーラで構成され、ローラ26自身が所定の温度に加熱可
能である。
30は液面規制蓋であり、例えばネオプレンゴムやポリ
ウレタンゴムなどにより断面円弧状に形成され、断熱材
32を介して蓋板34に取付けられている。この液面規
制蓋3oとフィルムガイド20底面との間には3〜4m
m程度の間隙が形成され、フィルム12はこの間隙を通
って走行するようにガイド溝31(第3図)により案内
される。すなわち、処理槽2oには第3図に示すように
、フィルム12の左右の縁が入る溝31が形成され、フ
ィルム12はこの溝31によって案内されて移送される
。ここにフィルム12は、その乳剤面12Aが上器こな
るように管理される。
加振部24の底には直径25mrriの振動子10が取
付けられ、この振動子10の垂線すなわち指向性最大方
向である中心軸Xはフィルム12に対しフィルム走行方
向に傾いて斜めに交わる。フィルム12はこの中心軸X
上においてこの振動子10の近距離音場内に入るように
設定され、例えば10〜50mmの範囲とするのが望ま
しい。ここに近距離音場とは、処理液中を伝わる音圧が
周期的に最大となる位置のうち振動子1oから最も遠い
位置よりも振動子10に近い範囲をいう。この範囲内で
フィルム12を中心軸Xに対し斜めに搬送することによ
り、フィルム12が音圧のむらによる影響を受けず均一
な処理を行なうことが可能となる。
処理槽20には常に一定液面となるように処理液が供給
される。すなわち処理液は処理液タンク36からポンプ
38によって定液面タンク40に送られ、このタンク4
0内で一担一定液面高さに保たれ、ここから定量ポンプ
42が加振部24より上流側のフィルムガイド部22内
に処理液を送る。処理液はフィルムガイド部22の下流
端側すなわち下側の送りローラ28の装填室44の仕切
壁を乗り越えて装填室44に流入し、ここから処理液パ
ック46に入る。
この処理液パック46は防水紙で箱型に作られ、使用前
の新しい処理液パック46の中の一側には可撓性プラス
チック容器で作られた前記の処理液タンク36が収容さ
れ、他側には吸水ポリマー48が収容されている(第2
B図)。処理液パック46の上面には処理液タンク36
と吸水ポリマー48にそれぞれ連絡する処理液出口46
aと廃液人口46bとが開口し、これらは薄いフィルム
材でシールされた後、さらにその上面が粘着性シール蓋
46c、46dで開閉可能となっている。この処理液パ
ック46はこれらシール蓋46C146dを開いた状態
で上下動可能なトレイ49に載せられ(第1図)、この
トレイ49によって上方に押し上げられて装填される。
この時前記ポンプ38の処理液流入パイプ38aと装填
室44に通じる処理液排出バイブ44aとは、処理液出
口48aと廃液人口48bとを塞ぐ薄いフィルムを破り
、それぞれ処理液タンク36と吸水ポリマー48とに連
通ずる。
従ってタンク36の処理液が減少するとタンク容積36
が減少するのに代って、吸水ポリマー46がゲル化して
第2C図に48Aで示すように膨張してゆく。そしてタ
ンク36内の処理液がなくなりパック46を交換する時
には、トレイ49を下げてバック46からバイブ38a
、44aを退出させればよい。廃液はゲル化しているの
で液がこぼれるおそれがないが、シール蓋46c、46
dで処理液出口46aと廃液人口46bを塞いでおけば
一層確実である。この結果処理液の取扱いが非常に簡単
になる。
前記送りローラ28を収容する装填室44の仕切壁の高
さは、処理槽20内の処理液面の高さを決定するもので
あり、例えばフィルムガイド部22の円弧状の底を基準
にして7mm程度にするのが望ましい。なお、50は加
振部24内の処理液をタンク46に排出するためのバル
ブである。
従って定量ポンプ42により一定量の処理液が処理槽2
0に常時送られ、液面が装填室44の仕切壁によって一
定に保たれる。フィルム12はローラ26.28により
一定速度で送られ、処理槽20のフィルムガイド部22
内では下方へ凸な円弧を描きながら移動している。処理
槽20の入口側の送りローラ26はヒートローラである
から、このローラ26に挟まれて送られる時にフィルム
12は適切な温度に加熱される。振動子10は一定の周
波数(例えば1.7MH,)でかつ−定エネルギーで超
音波を発生し、この超音波はフィルム10に斜めに当た
る。このためフィルム10は、超音波の強弱の周期間隔
より大きい距離を、中心軸Xを含む超音波照射領域内で
移動することができ、超音波の周期的強弱の影響を受け
なくなる。
超音波は処理液全体を加熱することはなく、フィルム1
0などの高分子物質を吸音材として選択的に加熱する作
用を持つ。第3図に示すようにフィルム12の上面に乗
った処理液の量はフィルム12の下方の液量に比べて著
しく少ないから、フィルム12の上面の処理液は速やか
に加熱される。この加熱された処理液の側にフィルム1
2の乳剤面12Aが位置するので、フィルム12の処理
は非常に速やかに行われる。またフィルム12は送りロ
ーラ26によって予備加熱されているから、処理液中で
の処理速度が増加し、超音波の照射による処理が促進さ
れる。
第1図において、60は予熱温度管理装置、62は濃度
検出手段である。濃度検出手段62は現像処理が済んだ
フィルム12の濃度を検出するものであり、現像処理槽
の出口すなわち送りローラ28の後方においてフィルム
12を挟むように配置した発光素子62Aと受光素子6
2Bとで構成される。この濃度検出手段62が検出した
濃度を示す信号は管理装置60に入力され、この濃度を
最適な濃度にするのに適する予熱温度が求められる。管
理装置60はヒータ回路64によってヒタ26Aの温度
を所定温度に制御させる。すなわち処理後の現像濃度が
薄い場合には予熱温度を高くして処理を促進し、反対に
現像濃度が濃い場合には予熱温度を下げて処理を抑制す
る。このようにして処理後の現像濃度が一定に管理され
る。
なおこの実施例では、フィルム12の上面に近接して液
面規制蓋30が位置するから、液面規制蓋30はこのフ
ィルム10とその上面の処理液を保温してその均一な処
理を可能にし処理を一層促進する。ここに液面規制蓋3
0を前記のポリウレタンゴムやネオブレンゴムなどの高
分子物質で作っておけば、ここでの吸音作用によってこ
の蓋30自身も加熱され得る。このためフィルム10の
加熱は一層促進され、処理が促進される。なおネオプレ
ンゴムは耐熱性にすぐれ、特に好ましい。この時本実施
例のように液面規制蓋30の上面を断熱材32を介して
蓋板34に保持すれば、液面規制蓋30による保温効果
は一層良好となり処理はさらに促進される。従って処理
むらのない良好な処理を短時間で行うことが可能になる
この実施例では振動子10の中心軸Xがフィルム12の
走行方向に向って交差しているので、超音波がフィルム
走行方向への処理液の移動を促進させ、処理槽内では常
にほぼ新しい処理液を用いて処理を続けることができる
この実施例では1個の振動子10を用いているが、本発
明は振動子10を複数個使用してもよい。第4A、4B
図は2個の円形の振動子10を用いた実施例の斜視図と
、この実施例をフィルム移送方向から見た断面図である
。この実施例では振動子10.10の中心軸X、xがフ
ィルム12付近で集まるように各振動子10.10を配
置した。
第5A、5B図は3個の長方形の振動子210を用いた
実施例の斜視図と、この実施例をフィルム移送方向から
見た断面図である。ここに各振動子210の超音波射出
方向(中心軸X)は、フィルム12付近に向って集まる
。これら第4A、4B、5A、5B図の実施例では処理
液の表面が超音波振動により隆起している。液面処理蓋
130.230はこの隆起を押えて処理液の不安定な流
動を防ぎ流動を駒−にする。なお132.232は断熱
材である。
これらの実施例ではフィルム12の上方に液面規制蓋3
0を設けているが、本発明はこれを持た無いものも包含
するのは勿論である。
処理槽20の液面はこの実施例では装填室44の仕切壁
の高さで一定に保っているが、他の液面センサと排液パ
ルプとを用いて液面を制御するようにしてもよい。 な
お処理液は長期間経過すると酸化して劣化するので、処
理液の劣化が発生した時にはポンプ38.42を作動さ
せつつバルブ50を開き、処理液タンク36内の処理液
を吸水ポリマー48に送ってゲル化させて廃棄処理しで
もよい。
第6図はこの第1図の現像処理装置を用いた自動現像装
置の一実施例の全体図である。この図でA、、B、Cは
それぞれ現像、定着、水洗装置を示し、現像工程Aは第
1図のものを用い、他の工程B、Cは第1図とほぼ同様
な処理装置であって、それぞれは処理液として定着液、
洗浄液を用いることとヒータ26Aや濃度検出手段62
などを持たない点が異なる。なお濃度検出手段62は現
像装置Aの出口に設けるのが良いが、他の装置B、Cの
出口に設けてもよい。
この図で100は現象処理が済んでいない撮影済みフィ
ルムの供給リール、102は現像処理済みフィルムを巻
取る巻取リールである。未現像のフィルム12は駆動ロ
ーラ104とコンタクトローラ106とに挟まれて現像
装置Aに導かれる。この時フィルム12の先端と終端と
は入口センサ108により検出される。なおコンタクト
ローラ104の回転はエンコーグ(図示せず)で監視さ
れている。フィルム12は処理装置Aの送りローラ26
により予備加熱されて現像処理され、さらに装置B、C
で定着および水洗処理された後巻取リール102に巻取
られる。なお装置B、Cの送りローラ26においてもフ
ィルム12を予備加熱するようにしてもよい。この時水
洗装置Cから出るフィルム12には出口ローラ110が
転接し、この出口ローラ110の回転がエンコーダ(図
示せず)により監視される。この出口ローラ110の近
傍では出口センサ112がフィルム12の先端と終端と
を監視するように構成されている。
この装置は次のように動作する。まず撮影済みフィルム
12をリール100にセットして、電源スィッチ(図示
せず)をオンにすることにより、ポンプ38.42が作
動して処理液が規定液面に保たれ、またローラ26.2
8が回転を始める。
フィルム12がリール100からローラ104.106
に挟まれて送られてゆくと、このフィルム12の先端が
入口センサ108で検出され、このセンサ108の出力
に基づき各処理装置A、B、Cの振動子10がオンし振
動開始する。フィルム12は各処理装置A、B、Cで処
理された後巻取リール102に巻取られ、この時フィル
ム12の終端を出口センサ112が検出すると振動子1
0がオフとなり振動が停止する。
この装置では装置A、B、C内のフィルムつまり(ジャ
ム)を次のようにして検出する。すなわち入口センサ1
08がフィルム12先端が入ったことを検出してから一
定時間以内に出口センサ112がフィルム先端を検出し
なければフィルムのジャムと判断する。また、コンタク
トローラ106と出口ローラ110の回転を検出するエ
ンコーダでフィルム12の送り量を判断できるので、セ
ンサ108.112がオン(フィルム通過中)の間にロ
ーラ110が停止すればジャムと判断する。なおセンサ
108がフィルム終端を検出してから一定時間内にセン
サ112が終端を検出すれば正常であるとして、現像が
正常に行われたことを確認するようにしてもよい。
以上の実施例ではフィルム12の先頭が濃度検出手段に
達した時には、これに続く画像の一部では既に現像処理
が始まってしまうから、先頭から一定の距離までの画像
に対しては予熱温度の管理を行うことができない問題が
ある。この問題に対しては第7図に示すフィルムを用い
ることにより解決可能である。すなわち、フィルム12
Aの画像部分12Bに先行して、一定の距離以上能れた
位置に一定光量の露光部12Gを形成してお(のである
。このフィルム12Aを用いれば一定露光部12Cの濃
度を検出して最適な現像処理を行うための予熱温度を決
定することができる。なおこの一定露光部12Cはフィ
ルム12Aに予め露光しておいてもよいが、現像処理す
る際に例えば現像装置Aの入口側に露光手段を設けて露
光するようにしてもよい。
(発明の効果) 本発明は以上のように、少くとも現像処理工程では、超
音波、を用いて処理を促進させるにあたり、予備加熱手
段を設けて処理液に入るフィルムを処理に先行して加熱
し、この予熱温度をフィルムの現像濃度に応じて変化さ
せるものである。このように、超音波により処理を促進
する牟ら、フィルムの処理工程を短縮でき、このため処
理槽の小型化が可能になる。また現像濃度に応じて予熱
温度を変えるから、現像液の疲労や劣化があっても、あ
るいは現像液の温度変化があっても、常に適切な処理を
行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である現像処理槽を示す図、
第2図は処理液バックを示す図であり、第2A図はその
外観斜視図、第2B、20図はその使用前と使用後の内
部状態を示す図、第3図は第1図におけるIII −I
II線断面図である。第4A、4B図と第5A、5B図
は振動子等の他の配置例を示す図である6第6図はこの
第1図の処理装置を適用した自動現像装置の全体図、ま
た第7図はフィルムの他の実施例を示す図である。 10.110.210・・・振動子、 12.12A・・・フィルム、 20・・・処理槽、 26・・・予備加熱手段としての送りローラ、26A・
・・ヒータ、 60・・・予熱温度管理装置、 62・・・濃度検出手段、 A・・・現像装置、 B・・・定着装置、 C・・・水洗装置。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)撮影済みフィルムを、現像、定着、水洗の各工程
    に順次送って連続的に現像処理する自動現像装置におい
    て、 少くとも現像工程は、現像液中を移送されるフィルムに
    向って下方から超音波を照射する超音波発生手段と、フ
    ィルムの現像濃度を検出する濃度検出手段と、前記現像
    液に入るフィルムを現像処理に先行して加熱する予備加
    熱手段とを備え、前記現像濃度に対応してフィルムの予
    備加熱温度を変化させることを特徴とする自動現像装置
  2. (2)前記予備加熱手段は、前記処理液へフィルムを送
    り込む一対のヒートローラからなる送りローラを備え、
    この送りローラにより前記フィルムを予備加熱すること
    を特徴とする請求項(1)記載の自動現像装置。
JP63328984A 1988-12-28 1988-12-28 自動現像装置 Expired - Fee Related JPH087430B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010179987A (ja) * 2009-02-04 2010-08-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 表面処理システムおよび表面処理方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010179987A (ja) * 2009-02-04 2010-08-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 表面処理システムおよび表面処理方法

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