JPS62110636A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光記録媒体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS62110636A JPS62110636A JP60250318A JP25031885A JPS62110636A JP S62110636 A JPS62110636 A JP S62110636A JP 60250318 A JP60250318 A JP 60250318A JP 25031885 A JP25031885 A JP 25031885A JP S62110636 A JPS62110636 A JP S62110636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- reading light
- resist
- forming
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）発明の目的
［産業上の利用分野］
この発明は光記録媒体及び光記録媒体の製造方法に関す
るものである。
るものである。
近年、ＩＤカードやキャッシュカードやバンクカードと
して各種の情報を記録したカードが言及して来ている。
して各種の情報を記録したカードが言及して来ている。
［従来の技術］
この種のカードには個人データや発行会社のデータ等の
各種の情報を記録する必要があり、初期の段階において
は、そのような情報を可視的な文字や記号で記録してお
り、また、後期の段階に４５いては磁気を使用した電気
信号で記録しているが、改ざんの防止や情報覆の増加に
対応する必要がある。
各種の情報を記録する必要があり、初期の段階において
は、そのような情報を可視的な文字や記号で記録してお
り、また、後期の段階に４５いては磁気を使用した電気
信号で記録しているが、改ざんの防止や情報覆の増加に
対応する必要がある。
そのために、最近、レーザ技術を応用したレーザカード
が開発されて来ている。このレーザカードは光学反射面
を持つ情報記録媒体（光記録媒体）を備えるもので、光
学反射面にはデータビットや案内トラックとして機能す
る凹凸を形成し、その凹部及び凸部の光学反射の差によ
ってレーザによりデータビットを検出し、情報を読み取
るように構成したものである。
が開発されて来ている。このレーザカードは光学反射面
を持つ情報記録媒体（光記録媒体）を備えるもので、光
学反射面にはデータビットや案内トラックとして機能す
る凹凸を形成し、その凹部及び凸部の光学反射の差によ
ってレーザによりデータビットを検出し、情報を読み取
るように構成したものである。
このような光記録媒体を！ｌ ′？Ｌする場合には、光
ディスク、コンパクトディスク及びレーザディスク等に
用いられる技術が応用され、データビットの形成にはス
タンピング法が利用されている。
ディスク、コンパクトディスク及びレーザディスク等に
用いられる技術が応用され、データビットの形成にはス
タンピング法が利用されている。
すなわち、第７図に示すように、光記録媒体の光学反）
１面の凹凸を形成するには、ガラス等の透明の球根２１
上にレジスト２２を施したものにレーザー光を照射して
データビット２３のパターンを形成し、これにニッケル
膜２４をメッキ等によって形成してマスクを得、このマ
スタからマザー、スタンパを経て型２５を製作し、ポリ
カーボネートやアクリル等の透明プラスチック材料２６
を用いて射出成形などで複製し、記録面にアルミニウム
反射膜２７を施して光記録媒体２０を作成していた。
１面の凹凸を形成するには、ガラス等の透明の球根２１
上にレジスト２２を施したものにレーザー光を照射して
データビット２３のパターンを形成し、これにニッケル
膜２４をメッキ等によって形成してマスクを得、このマ
スタからマザー、スタンパを経て型２５を製作し、ポリ
カーボネートやアクリル等の透明プラスチック材料２６
を用いて射出成形などで複製し、記録面にアルミニウム
反射膜２７を施して光記録媒体２０を作成していた。
［発明が解決しようとする問題点］
しかるに、この工程は極めて煩雑で、型製作まで時間が
かかり、加えて高頷な費用を必要とげるため、緊急の生
産や多品極少ロットの注文に応じるには不適当な方法で
あった。
かかり、加えて高頷な費用を必要とげるため、緊急の生
産や多品極少ロットの注文に応じるには不適当な方法で
あった。
また、特に、データビットを構成する凹凸は光学反射を
利用することから極めて高い精度を要求されるものであ
り、従って、レジストの膜厚コントロールにかなりの労
力を要するため、小ロット或は安価な光記録媒体を得る
ことが極めて困難である。
利用することから極めて高い精度を要求されるものであ
り、従って、レジストの膜厚コントロールにかなりの労
力を要するため、小ロット或は安価な光記録媒体を得る
ことが極めて困難である。
この発明は上記の如き事情に鑑みてなされたものであっ
て、そのようなデータビットとして機能する光学反射面
の凹凸の形成を迅速に行なうことができ、従って、但産
が可能で、安価な光記録媒体及びその製造方法を提供す
ることを目的とするものである。
て、そのようなデータビットとして機能する光学反射面
の凹凸の形成を迅速に行なうことができ、従って、但産
が可能で、安価な光記録媒体及びその製造方法を提供す
ることを目的とするものである。
（ロ）発明の構成
［問題を解決するための手段］
この目的に対応して、この発明の光記録媒体は、透明の
基板と少なくとも前記基板に接する側の面が読み取り光
を吸収可能な着色層に構成されておりかつデータパター
ンが蝕刻穿孔されている読み取り光吸収層と、及び前記
読み取り光吸収層の上から施されている読み取り光に対
して高反射性を有する読み取り光反射層とを備えること
を特徴としている。
基板と少なくとも前記基板に接する側の面が読み取り光
を吸収可能な着色層に構成されておりかつデータパター
ンが蝕刻穿孔されている読み取り光吸収層と、及び前記
読み取り光吸収層の上から施されている読み取り光に対
して高反射性を有する読み取り光反射層とを備えること
を特徴としている。
また、この発明の光記録媒体の製造方法は、透明な基板
の片面上に、少なくとも前記基板に接する側の面が読み
取り光を吸収可能な着色層をなしかつデータパターンが
蝕刻穿孔されている読み取り光吸収層を形成する読み取
り光吸収層形成工程と、次に前記読み取り光吸収層の上
から読み取り光に対して高反射性を有する反射被膜を形
成する反射被膜形成工程とを含むことを特徴としている
。
の片面上に、少なくとも前記基板に接する側の面が読み
取り光を吸収可能な着色層をなしかつデータパターンが
蝕刻穿孔されている読み取り光吸収層を形成する読み取
り光吸収層形成工程と、次に前記読み取り光吸収層の上
から読み取り光に対して高反射性を有する反射被膜を形
成する反射被膜形成工程とを含むことを特徴としている
。
以下、この発明の詳細を一実施例を示す図面について説
明する。
明する。
第１図において１は光記録媒体であり、光記録媒体１は
基板２の上に読み取り光吸収層３を形成し、更にその上
に読み取り光度＋１７４を形成したものである。
基板２の上に読み取り光吸収層３を形成し、更にその上
に読み取り光度＋１７４を形成したものである。
基板２としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、
ガラス等の光透過性の良い材料で構成されている。読み
取り光吸収層３はＪｊ板２上に形成され、かつ穴状のデ
ータビット５が形成されたものである。従って、データ
ビット５の部分では基板２の表面が露出しているが、そ
の露出している部分は読み取り光反射層４で覆われてい
る。読み取り光吸収層３は、その全体または少なくとも
基板２に接している側の表面が読み取り光を吸収可能に
着色されている。読み取り光反射層４は先高反射性を有
する材料からなる薄膜で構成され、そのような材料とし
てはＡＩ 、ｃｕ、Ａａ、Ｎ； 。
ガラス等の光透過性の良い材料で構成されている。読み
取り光吸収層３はＪｊ板２上に形成され、かつ穴状のデ
ータビット５が形成されたものである。従って、データ
ビット５の部分では基板２の表面が露出しているが、そ
の露出している部分は読み取り光反射層４で覆われてい
る。読み取り光吸収層３は、その全体または少なくとも
基板２に接している側の表面が読み取り光を吸収可能に
着色されている。読み取り光反射層４は先高反射性を有
する材料からなる薄膜で構成され、そのような材料とし
てはＡＩ 、ｃｕ、Ａａ、Ｎ； 。
Ｃｒ 、 Ｚｎ 、３ｎ等を用いることができる。この
読み取り光反射層４は読み取り光吸収層３の上からメッ
キ若しくは蒸着して形成されて基板２の表面を被覆して
いる。また読み取り光吸収層３に形成されるデータビッ
ト５はそのようなパターンを持つマスクや、写真フィル
ムから転写されて穿孔されたものである。このような転
写は蝕刻法によってなされたものである。また、読み取
り光としては、半導体レーザー光等の近赤外光や白色光
、タングステン光等の可視光が好適であるが、赤外光や
紫外光も使用可能である。
読み取り光反射層４は読み取り光吸収層３の上からメッ
キ若しくは蒸着して形成されて基板２の表面を被覆して
いる。また読み取り光吸収層３に形成されるデータビッ
ト５はそのようなパターンを持つマスクや、写真フィル
ムから転写されて穿孔されたものである。このような転
写は蝕刻法によってなされたものである。また、読み取
り光としては、半導体レーザー光等の近赤外光や白色光
、タングステン光等の可視光が好適であるが、赤外光や
紫外光も使用可能である。
光記録媒体１においては、データビット５は第２図に示
すように明部として構成してもよいし、また、第３図に
示すようにデータビット５を暗部として構成してもよい
。
すように明部として構成してもよいし、また、第３図に
示すようにデータビット５を暗部として構成してもよい
。
次に以上のような光記録媒体の製造方法を第４図以下に
ついて説明する。
ついて説明する。
第４図に示すように、この発明の光記録媒体の製造方法
は、読み取り光吸収層形成工程Ａと、読み取り光吸収層
形成工程のへの次に行われる反射被膜形成工程Ｂとを含
ｌυでいる。
は、読み取り光吸収層形成工程Ａと、読み取り光吸収層
形成工程のへの次に行われる反射被膜形成工程Ｂとを含
ｌυでいる。
読み取り光吸収層形成工程Ａは少なくとも基板に接する
側の面が読み取り光を吸収可能な着色層をなしかつデー
タパターンが蝕刻穿孔されている読み取り光吸収層を透
明な基板の片面上に形成する工程であり、反射被膜形成
工程Ｂは、読み取り光に対して高反射性を有する反射被
膜を読み取り光吸収層の上から形成する工程である。読
み取り光吸収層形成工程Ａとしては、まず、基板２上に
レジスト１１をスピンコードする（第４図（ａ））。こ
のレジスト１１はポジ型のものでもよく、またネガ型の
ものでもよい。
側の面が読み取り光を吸収可能な着色層をなしかつデー
タパターンが蝕刻穿孔されている読み取り光吸収層を透
明な基板の片面上に形成する工程であり、反射被膜形成
工程Ｂは、読み取り光に対して高反射性を有する反射被
膜を読み取り光吸収層の上から形成する工程である。読
み取り光吸収層形成工程Ａとしては、まず、基板２上に
レジスト１１をスピンコードする（第４図（ａ））。こ
のレジスト１１はポジ型のものでもよく、またネガ型の
ものでもよい。
次にデータビットのパターンを持つマスク１２をレジス
ト１１上に密着さ往露光する（第４図（ｂ））。
ト１１上に密着さ往露光する（第４図（ｂ））。
次に露光したレジスト１１を現像する（第４図（Ｃ））
。これによってデータパターンのレジスト１１への転写
が完了し、レジスト１１にはデータビット５に対応した
孔が形成され、孔にはレジストが除去されて存在せず、
基板２の表面が露出し、残余の部分ではレジスト１１が
基板２の表面を覆っている。次にデータビット５が形成
されているレジスト１１を読み取り光吸収色素で着色す
るく第４図（ｄ））。読み取り光吸収色素としては、例
えば以下のものが挙げられる。半導体レーザー用として
、金ＴＡ ｇｆｆ体系、シアニン系、スクアリリウム系
、ナフトキノン系が、また、Ｈｅ −Ｎ ｅレーザー用
としては、フタロシアニン系、１−リフェニルメタン系
、アントラギノン系、可視光用としては、アゾ系等。
。これによってデータパターンのレジスト１１への転写
が完了し、レジスト１１にはデータビット５に対応した
孔が形成され、孔にはレジストが除去されて存在せず、
基板２の表面が露出し、残余の部分ではレジスト１１が
基板２の表面を覆っている。次にデータビット５が形成
されているレジスト１１を読み取り光吸収色素で着色す
るく第４図（ｄ））。読み取り光吸収色素としては、例
えば以下のものが挙げられる。半導体レーザー用として
、金ＴＡ ｇｆｆ体系、シアニン系、スクアリリウム系
、ナフトキノン系が、また、Ｈｅ −Ｎ ｅレーザー用
としては、フタロシアニン系、１−リフェニルメタン系
、アントラギノン系、可視光用としては、アゾ系等。
これによって、読み取り光吸収層３が形成され、読み取
り光吸収層形成工程Ａが終了する。
り光吸収層形成工程Ａが終了する。
次に反射被膜形成工程Ｂとして読み取り光吸収層３の上
からメッキ若しくは蒸着によって金属性被膜からなる読
み取り光層！ｌ）Ｊ層４を構成する反射′ｆ＆膜を形成
ザる。こうして、読み取り光反射層形成工程Ｂが終了し
た段階では、！３根２の上面はデータビット５に対応す
る部分で反射被膜１４と接触し、その他の部分でレジス
ト１１と接触していることになる。
からメッキ若しくは蒸着によって金属性被膜からなる読
み取り光層！ｌ）Ｊ層４を構成する反射′ｆ＆膜を形成
ザる。こうして、読み取り光反射層形成工程Ｂが終了し
た段階では、！３根２の上面はデータビット５に対応す
る部分で反射被膜１４と接触し、その他の部分でレジス
ト１１と接触していることになる。
なお、以上説明した方法では、着色した読み取り光吸収
層３を形成するのに、レジスト１１にデータパターンを
転写した後に第４図（ｄ）工程において、レジスト１１
を着色しているが、これは、第５図に示ずようにしても
よい。
層３を形成するのに、レジスト１１にデータパターンを
転写した後に第４図（ｄ）工程において、レジスト１１
を着色しているが、これは、第５図に示ずようにしても
よい。
すなわら、第５図に示す方法では、基板２上に予め着色
されているレジスト１１をスピンコー１〜する（第５図
（ａ））。このレジス］へ１１はポジ型のものでもよく
、またネガ型のものでもよい。
されているレジスト１１をスピンコー１〜する（第５図
（ａ））。このレジス］へ１１はポジ型のものでもよく
、またネガ型のものでもよい。
次にデータビットのパターンを持つマスク１２をレジス
ト１１上に密着させ露光する（第５図（ｂ）〉。
ト１１上に密着させ露光する（第５図（ｂ）〉。
次に露光したレジスト１１を現像する（第５図（Ｃ））
。これによってデータパターンのレジスト１１への転写
が完了し、レジスト１１にはデータビット５に対応した
孔が形成され、着色された読み取り光吸収層３が得られ
る。読み取り光反射）！ｉｊ４の形成は第４図に示す実
施例の場合と同じである。
。これによってデータパターンのレジスト１１への転写
が完了し、レジスト１１にはデータビット５に対応した
孔が形成され、着色された読み取り光吸収層３が得られ
る。読み取り光反射）！ｉｊ４の形成は第４図に示す実
施例の場合と同じである。
第６図は更に伯の実施例に係わる製造方法を示すもので
、基板２の片面上に、読み取り光吸収着色剤で着色した
樹脂からなる読み取り光吸収層３を形成しく第６図（ａ
））、次に読み取り光吸収層３上にレジスト１１をスピ
ンコードする（第６図（ｂ））。このレジスト１１はポ
ジ型のものでもよく、またネガ型のものでもよい。
、基板２の片面上に、読み取り光吸収着色剤で着色した
樹脂からなる読み取り光吸収層３を形成しく第６図（ａ
））、次に読み取り光吸収層３上にレジスト１１をスピ
ンコードする（第６図（ｂ））。このレジスト１１はポ
ジ型のものでもよく、またネガ型のものでもよい。
次にデータビットのパターンを持つマスク１２をレジス
ト１１上に密着さぜ露光する（第６図（Ｃ））。
ト１１上に密着さぜ露光する（第６図（Ｃ））。
次に露光したレジスト１１を現像する（第６図（ｄ））
。これによってデータパターンのレジス１へ１１への転
写が完了し、レジスト１１にはデータビット５に対応し
た孔が形成され、孔にはレジストが除去されて存在せず
、読み取り光吸収層３の表面が露出し、残余の部分では
レジスト１１が読み取り光吸収層３の表面を覆っている
（第６図（ｄ））。
。これによってデータパターンのレジス１へ１１への転
写が完了し、レジスト１１にはデータビット５に対応し
た孔が形成され、孔にはレジストが除去されて存在せず
、読み取り光吸収層３の表面が露出し、残余の部分では
レジスト１１が読み取り光吸収層３の表面を覆っている
（第６図（ｄ））。
次にレジスト１１の上から読み取り光吸収層３をエツチ
ングする。これによって読み取り光吸収層３のうちレジ
スト１１に覆われていない部分は除去されて基板２の表
面が露出し、読み取り光吸収層３のレジス１−１１に覆
われている部分は基板２の表面上に何着された状態でレ
ジストとともに残留する（第６図（ｅ））。
ングする。これによって読み取り光吸収層３のうちレジ
スト１１に覆われていない部分は除去されて基板２の表
面が露出し、読み取り光吸収層３のレジス１−１１に覆
われている部分は基板２の表面上に何着された状態でレ
ジストとともに残留する（第６図（ｅ））。
この読み取り光反射層形成工程Ｂとしては、レジスト１
１の上から反射被膜１４を形成しく第６図（ｆ）、若し
くは、レジスト１１を除去した後（第６図（０））、読
み取り光吸収層３の上から反射被膜１４を形成する（第
６図（ｈ））。
１の上から反射被膜１４を形成しく第６図（ｆ）、若し
くは、レジスト１１を除去した後（第６図（０））、読
み取り光吸収層３の上から反射被膜１４を形成する（第
６図（ｈ））。
［作用及び効果］
このように構成された光記録媒体においては、第１図に
示すように、基板２の下面から読み取り光で照射し、読
み取り光反射層４で反射させて、反射光を読み取る場合
に、読み取り光吸収層３と読み取り光反射層４との反射
の差によってデータビット５を読み取ることができる。
示すように、基板２の下面から読み取り光で照射し、読
み取り光反射層４で反射させて、反射光を読み取る場合
に、読み取り光吸収層３と読み取り光反射層４との反射
の差によってデータビット５を読み取ることができる。
このような光記録媒体は写真蝕刻技術によって作成する
ことができるので、カードのｖＪｌ及び発行を安価かつ
迅速にすることができ、大苗生産時の最産性にすぐれる
と共に、多品極少ロットの注文にも迅速かつ安価に対応
することが可能である。
ことができるので、カードのｖＪｌ及び発行を安価かつ
迅速にすることができ、大苗生産時の最産性にすぐれる
と共に、多品極少ロットの注文にも迅速かつ安価に対応
することが可能である。
しかも、このように構成された光記録媒体は、スタンバ
−として使用するのではなく、直接光信号を記録する媒
体として目脂するので、データビットを溝底する読み取
り光吸収層の厚みの制御も容易である。
−として使用するのではなく、直接光信号を記録する媒
体として目脂するので、データビットを溝底する読み取
り光吸収層の厚みの制御も容易である。
第１図は光記録媒体の断面拡大説明図、第２図は光記録
媒体の斜視拡大説明図、第３図は他の光記録媒体の斜視
拡大説明図、第４図は光記録媒体の製造過程を示す工程
説明図、第５図は他の光記録媒体の製造過程を示す工程
説明図、第６図は更に他の光記録媒体の製造過程を示す
工程説明図、及び第７図に従来の光記録媒体の製造方法
を示す工程説明図である。 １・・・光記録媒体 ２・・・基板 ３・・・読み
取り光吸収層 ４・・・読み取り光反射層 ５・・
・データビット １１・・・レジスト １２・・・
マスク１４・・・反射被膜 第１図 第３図 第２図 ＋４ （４）
媒体の斜視拡大説明図、第３図は他の光記録媒体の斜視
拡大説明図、第４図は光記録媒体の製造過程を示す工程
説明図、第５図は他の光記録媒体の製造過程を示す工程
説明図、第６図は更に他の光記録媒体の製造過程を示す
工程説明図、及び第７図に従来の光記録媒体の製造方法
を示す工程説明図である。 １・・・光記録媒体 ２・・・基板 ３・・・読み
取り光吸収層 ４・・・読み取り光反射層 ５・・
・データビット １１・・・レジスト １２・・・
マスク１４・・・反射被膜 第１図 第３図 第２図 ＋４ （４）
Claims (6)
- （１）透明の基板と少なくとも前記基板に接する側の面
が読み取り光を吸収可能な着色層に構成されておりかつ
データパターンが蝕刻穿孔されている読み取り光吸収層
と、及び前記読み取り光吸収層の上から施されている読
み取り光に対して高反射性を有する読み取り光反射層と
を備えることを特徴とする光記録媒体。 - （２）透明な基板の片面上に、少なくとも前記基板に接
する側の面が読み取り光を吸収可能な着色層をなしかつ
データパターンが蝕刻穿孔されている読み取り光吸収層
を形成する読み取り光吸収層形成工程と、次に前記読み
取り光吸収層の上から読み取り光に対して高反射性を有
する反射被膜を形成する反射被膜形成工程とを含むこと
を特徴とする光記録媒体の製造方法 - （３）前記読み取り光吸収層形成工程は、前記基板の前
記片面上にレジストの層を形成するレジスト層形成工程
と、次に前記レジストの層を前記データパターンを持つ
マスクを通して露光する露光工程と、次に前記レジスト
の層を現像して前記データパターンを前記蝕刻穿孔する
現像工程と、次に前記レジストの層を読み取り光吸収能
をもつ着色剤によつて前記着色層を形成する着色工程と
からなることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の
光記録媒体の製造方法 - （４）前記読み取り光吸収層形成工程は、前記基板の前
記片面上に読み取り光吸収能をもつ着色剤で着色したレ
ジストの層を形成するレジスト層形成工程と、次に前記
レジストの層を前記データパターンを持つマスクを通し
て露光する露光工程と次に前記レジストの層を現像して
前記データパターンを前記蝕刻穿孔する現像工程と、か
らなることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の光
記録媒体の製造方法 - （５）前記読み取り光吸収層形成工程は、前記基板の前
記片面上に読み取り光吸収能をもつ着色剤で着色された
樹脂層を形成する着色樹脂層形成工程と次に前記着色樹
脂層の上にレジストの層を形成するレジスト層形成工程
と、次に前記レジストの層を前記データパターンを持つ
マスクを通して露光する露光工程と、次に前記レジスト
の層を現像して前記データパターンを前記蝕刻穿孔する
現像工程と次に前記着色樹脂層を蝕刻穿孔する蝕刻工程
と、次に前記蝕刻穿孔されたレジスト層を剥離するレジ
スト剥離工程と、からなることを特徴とする特許請求の
範囲第２項記載の光記録媒体の製造方法 - （６）前記読み取り光吸収層形成工程は、前記基板の前
記片面上に読み取り光吸収能をもつ着色剤で着色された
樹脂層を形成する着色樹脂層形成工程と、次に前記着色
樹脂層の上にレジストの層を形成するレジスト層形成工
程と、次に前記レジストの層を前記データパターンを持
つマスクを通して露光する露光工程と、次に前記レジス
トの層を現像して前記データパターンを前記蝕刻穿孔す
る現像工程と、次に前記着色樹脂層を蝕刻穿孔する蝕刻
工程と、からなることを特徴とする特許請求の範囲第２
項記載の光記録媒体の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60250318A JPS62110636A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60250318A JPS62110636A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62110636A true JPS62110636A (ja) | 1987-05-21 |
Family
ID=17206122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60250318A Pending JPS62110636A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62110636A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6358638A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | レーザービデオ インコーポレーテッド | 情報記録媒体およびその製造方法 |
| US5155723A (en) * | 1988-07-30 | 1992-10-13 | Yuden Co., Ltd. Taiyo | Optical information recording method and medium |
| US7622245B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-11-24 | Home Box Office, Inc. | Manufacturing data-storage media using light-curable material |
| US8281909B2 (en) | 2009-11-13 | 2012-10-09 | Nissin Kogyo Co., Ltd. | Vehicle drum brake |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53124404A (en) * | 1977-04-06 | 1978-10-30 | Toshiba Corp | Production of information carrier |
| JPS57172548A (en) * | 1981-04-17 | 1982-10-23 | Toshiba Corp | Original disk for medium for reproducing stored information |
| JPS5979442A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-08 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体 |
| JPS6055534A (ja) * | 1983-09-05 | 1985-03-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 光学記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-11-08 JP JP60250318A patent/JPS62110636A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53124404A (en) * | 1977-04-06 | 1978-10-30 | Toshiba Corp | Production of information carrier |
| JPS57172548A (en) * | 1981-04-17 | 1982-10-23 | Toshiba Corp | Original disk for medium for reproducing stored information |
| JPS5979442A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-08 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体 |
| JPS6055534A (ja) * | 1983-09-05 | 1985-03-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 光学記録媒体の製造方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6358638A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | レーザービデオ インコーポレーテッド | 情報記録媒体およびその製造方法 |
| US5155723A (en) * | 1988-07-30 | 1992-10-13 | Yuden Co., Ltd. Taiyo | Optical information recording method and medium |
| US7622245B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-11-24 | Home Box Office, Inc. | Manufacturing data-storage media using light-curable material |
| US8114579B2 (en) | 2005-10-11 | 2012-02-14 | Home Box Office, Inc. | Manufacturing data-storage media using light-curable material |
| US8281909B2 (en) | 2009-11-13 | 2012-10-09 | Nissin Kogyo Co., Ltd. | Vehicle drum brake |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5843626A (en) | Method for manufacturing a master disc for optical discs | |
| US4954380A (en) | Optical recording medium and process for production thereof | |
| JP2553860B2 (ja) | 光記録部材及びその製造方法並びに光記録カ−ドの製造方法 | |
| US5846627A (en) | Method for writing and reading data on a multi-layer recordable interferometric optical disc and method for fabricating such | |
| US4837134A (en) | Optical memory card with versatile storage medium | |
| TW591652B (en) | Method for producing recording medium, method for producing master disk of recording medium, apparatus for producing recording medium, and apparatus for producing master disk of recording medium | |
| CA1287918C (en) | Preformatted optical recording card and method of producing the same | |
| JPS62298039A (ja) | 転写型光記録媒体 | |
| US5248990A (en) | Process for producing optical recording medium for optical data recording and reproduction | |
| JPH08287526A (ja) | 光ディスク原盤製造方法 | |
| JPH02179941A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS57212634A (en) | Optical information recording medium | |
| JPH0770091B2 (ja) | 光読み取りカ−ド及びその製造法 | |
| JPH08287525A (ja) | 光ディスク原盤製造方法 | |
| JPH0770092B2 (ja) | 光読み取りカ−ド及びその製造方法 | |
| JP2733579B2 (ja) | Ｒｏｍ型光記録カード用のマスクの作製方法及びｒｏｍ型光記録カード用スタンパの作製方法 | |
| JP2556351B2 (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH01162249A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法並びに光記録媒体を備えたカード | |
| JP2519970B2 (ja) | Ｒｏｍ型光記録カ―ド用のマスクの作製方法、ｒｏｍ型光記録カ―ドの作製方法、それらの検査方法及びマスクの検査装置並びにｒｏｍ型光記録カ―ドの検査装置 | |
| JPS63138541A (ja) | 光学的記録媒体の製造方法 | |
| JPH02189741A (ja) | 光情報記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH01229439A (ja) | 光学的記録媒体及びその製造方法 | |
| EP0287394A2 (en) | Process for producing optical recording medium | |
| JP2001006222A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH01208741A (ja) | 光カード及びその製造方法 |