JPH02187940A - 光ディスク基板 - Google Patents

光ディスク基板

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Publication number
JPH02187940A
JPH02187940A JP1004962A JP496289A JPH02187940A JP H02187940 A JPH02187940 A JP H02187940A JP 1004962 A JP1004962 A JP 1004962A JP 496289 A JP496289 A JP 496289A JP H02187940 A JPH02187940 A JP H02187940A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
outer peripheral
optical disc
film material
end part
Prior art date
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Pending
Application number
JP1004962A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Ikeda
宏明 池田
Nobuhiro Tokujiyuku
徳宿 伸弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH02187940A publication Critical patent/JPH02187940A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学的に情報の記録再生が可能な光ディスク
基板に関し、特に、反射膜または記録膜または保@膜を
回転塗布する際に発生する、外周端部の膜材料の盛り上
がりを防止することが可能な光ディスク基板に関するも
のである。
〔従来の技術〕
一般に光ディスク基板は、中心に回転軸を差し込む穴を
有し、厚さが1−前後の円盤状の回転体である。この基
板の外周端部の断面形状は矩形であり、その端部は2つ
の不連続な面(基板の主面と外周面)により構成されて
いるが、その端部の断面形状については従来、特に配慮
がなされていなかった。
また一方、この様な光ディスク基板上に反射膜または記
録膜または保護膜を形成する方法とじては、高速で回転
する光ディスク基板の中心あるいは中心付近に、上記膜
材料を滴下し、遠心力を利用して光ディスク基板上に均
一に広げる方法が知られている。
なお、この様な回転筐布法に関するものとしては、例え
ば、特開昭56−90430号公報、特開昭56−22
222号公報、特開昭61−20224号公報等が挙げ
られる。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、光ディスク基板上に反射膜または記録膜また
は保護膜を、上記した様にして回転塗布する場合、光デ
ィスク基板の外周端部の断面形状が矩形になっていて、
前述のように、2つの不連続な面で構成されていると、
この不連続面が交わる境界線上に膜材料が溜まり、表面
張力で盛り上がってしまう。
従来、この様な盛り上がりに対しては、塗布時の回転条
件を最適化して、むだな膜材料を振り切り飛散させる方
法がとられていた。
一般に、塗布膜の厚さは1μmから数μmの範囲であっ
て、光ディスク基板の外周端部の膜材料の盛り上がり量
も少ないため、上記した方法により十分振り切ることが
でき、従って、上記端部の断面形状に関して特に考慮す
る必要はなかった。
ところが、塗布膜の経時安定性、例えば、耐湿性、耐熱
性を考慮して塗布膜厚さを厚くした場合、塗布膜の厚さ
が十数μmから数十μmの範囲では、光ディスク基板の
外周端部の膜材料の盛り上がり量が増大し、光ディスク
基板を高速で回転させても振り切れないことがわかった
。従って、それにより外周部の塗布膜の厚さが内周部に
比べて厚くなるため、応力が生じて、簡単にひび割れや
剥離が生じて問題になった。また、2枚の光ディスク基
板を向い合わせて貼り合わせる密着貼合せ仕様の光ディ
スクを作成した場合、膜材料の盛り上がり厚さが影響し
て、基板の傾き角度が増大し問題になった。
また、振り切れずに塗布面から流れ落ち始めた膜材料は
、そのまま光ディスク基板の裏面にまわり込み、そのた
め外観を著しく損ねるという問題が生じていた。
本発明の第1の目的は、光ディスク基板の外周端部の膜
材料の盛り上がりを少なくすることにある。
また、本発明の第2の目的は、塗布面の裏面への膜材料
のまわり込みを無くすことにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記した第1の目的は、光ディスク基板外周端。
部の断面形状を丸くすることにより達成される。
また、上記した第2の目的は、丸い端部に続いて基板の
外側に突出した肩部を形成することにより達成される。
〔作用〕
光ディスク基板の外周端部の断面形状を丸くすると、基
板表面は外周端部でゆるやかに円弧を描きながら連続的
に下向きに傾斜する。この面に沿って流れ落ちる膜材料
は、はとんど溜まることなく遠心力により振り切られ飛
散する。
それによって、光ディスク基板の外周端部の膜材料の盛
り上がりは少なくなり、均一な厚さの塗布膜を形成でき
るので、応力によるひび割れや剥離が生じない。また、
貼り合わせ時の光ディスク基板の傾斜角度は増大しない
また、上記の丸い端部に続いて基板外側に突出したM部
な形成することにより、丸い端部で振り切れずに、流れ
落ち始めた膜材料がこのM部に溜り、とどまる。
それによって、膜材料塗布時に、塗布面の裏面への膜材
料のまわり込みは生じない。また、M部に溜まる膜材料
はわずかな量なので、M部における盛り上りは、塗布面
の高さを越えることはない。
また、M部から流れ落ちて裏面へまわり込むこともない
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
第1図は本発明の光ディスク基板の一実施例の断面を示
す断面図である。
本実施例では、第1図に示す様に、ポリカーボネート樹
脂より成る、φ130m+厚さ1.2.の光ディスク基
板1において、膜材料塗布面2の外周の端部5の断面形
状を、曲率半径Rの円弧となるように丸くしている。
この様な光ディスク基板を回転数150Orpmで30
秒回転させ、保護膜材料として、粘度が50cpsまた
は500 cpsの紫外線硬化型樹脂5を10cc塗布
する。このとき、曲率半径RQ、1+++sから1.2
鱈まで変化させ、この樹脂5の盛り上がり量りを測定す
る。
第2図にその測定結果、即ち1曲率半径Rと盛り上がり
ihとの関係を示す。第2図から明らかな様に、曲率半
径Rがα3IIIlから1,2■の範囲で盛り上がり量
りを少なくすることができる。
つまり、第3図(a) 、 (b)に示すように、外周
端部の断面形状が矩形であり、不連続な2つの面で構成
されている従来の光ディスク基板6に比べ、曲率をもっ
た丸い面で構成されている本実施例の光ディスク基板1
の方が、紫外線硬化型樹脂5の盛り上がりlhが少なく
なることがわかる。
この様な曲率半径Rが0.3mから1.2瓢の範囲では
、外周部において、紫外線硬化型樹脂5のひび割れ、は
く離は生じなかった。また、貼り合せ後の光ディスク基
板の傾き角度も小さくて問題にはならなかった。
本実施列では、光ディスク基板1としてポリカーボネー
ト樹脂を用いたが、ポリメチルメタクリレート(PMM
A)、その他のプラスチックでもよい。
あるいは、ガラスでもよい。また、光ディスク基板1と
して厚さ1.2.のものを用いたが、これよりも薄くて
も、厚くてもよい。このとき、膜材料の盛り上がり量の
少ない曲率半径Rの最大値は、光ディスク基板の厚さと
する。
第4図は本発明の他の実施例としての光ディスク基板の
断面を示す断面図である。
本実施例では、第4図に示す様C二、ポリカーボネート
樹脂より成る直径φが1601.厚さ1.2園の光ディ
スク基板7において、膜材料塗布面2の外周の端部3の
断面形状を、曲率半径Rの円弧となるように丸くシ、更
に、この端部6に続いて、基板外側に突き出した長さt
、淳さdの肩部9を形成している。
この様な光ディスク基板7を回転数150Orpmで3
0秒回転させ、保穫膜材料として、粘度が50cpsま
たは500opsの紫外線硬化tJl樹脂5を10cc
塗布する。このとき、曲率半径Rを1,0頷とし、肩部
9の突出し長さtをOmから5諺まで変化させ、膜材料
塗布面2の裏面11への紫外線硬化型樹脂5のまわり込
み量mを測定する。
第5図に、その測定結果、aち、肩部9の突出し長さt
とまわり込み量mとの関係を示す。第5図から明らかな
様に、突出し長さtをα1ffi11以上にすると、紫
外線硬化型樹脂は膜材料塗布面2の裏面11にまわり込
まなくなる。
つまり、第6図(a) 、 (b)に示すように、肩部
9を形成しない第1図の実施例の光ディスク基板1では
、紫外線硬化型樹脂5が膜材料塗布面2の裏面11に、
まわり込みinだけまわり込んでしまうが、肩部9を形
成した本実施例の光ディスク基板7では、肩部9の突出
し長さtを適当な長さにすると、紫外線硬化型樹脂5が
膜材料塗布面2の裏面11にまわり込まないことがわか
る。
また、端部3の曲率半径RをO,S、とし、肩部9の突
出し長さtを0.1簡とし、肩部9の厚さdを0.1m
から09瓢まで変化させ、膜材料塗布面2の裏面11へ
の紫外線硬化型樹脂5のまわり込みtmを測定する。
第7図に、その測定結果、即ち、肩部9の淳さdとまわ
り込み量mとの関係を示す。第7図から明らかな様に、
肩部9の厚さdをt12fi以上にすると、紫外線硬化
型樹脂5はまわり込まなくなる。
本実施例では、光ディスク基板7としてポリカーボネー
ト樹脂を用いたが、PMMA、その他プラスチックでも
よい。あるいは、ガラスでもよい。
また、光ディスク基板7として厚さ1.2gmのものを
用いたが、これよりも薄くても厚くてもよい。
また、端部3の曲率半径Rは0.3tmrから1.0簡
の間の値を自由に選択できる。
〔発明の効果〕
本発明では、光ディスク基板上に膜材料を塗布するとき
、外周端部の膜材料の盛り上がりを少なくできるので、
外周部における塗布膜のひび割れや剥離を防止する効果
がある。また、貼り合せ後の光ディスク基板の傾斜角度
を小さくする効果がある。
また、本発明では、光ディスク基板上に膜材料を塗布す
るとき、塗布面の裏面への膜材料のまわり込みを無くす
こともできるので、光ディスク基板の外観を良好に保つ
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光ディスク基板の一実施例の断面を示
す断面図、第2図は第1図に記載の実施例における曲率
半径Rと盛り上がり量りとの関係を示す特性図、第3図
軸)は従来の光ディスク基板に紫外線硬化型樹脂を塗布
した時の状態の一例を示す断面図、第3図(b)は第1
図に記載の実施例に紫外線硬化型樹脂を塗布した時の状
態の一例を示す断面図、第4図は本発明の光ディスク基
板の他の実施例の断面を示す断面図、第5図は第4図゛
に記載の実施例における突出し長さtとまわり込み量m
との関係を示す説明図、第6図(a)は第1図に記載の
実施例に紫外線硬化型樹脂を塗布した時の状態の他の例
を示す断面図、第6図(b)は第4図に記載の実施例に
紫外線硬化型樹脂を塗布した時の状態の一例な示す断面
図、第7図は第4図に記載の実施例における肩部の厚さ
dとまわり込み量mとの関係を示す説明図である。 1.6.7・・・光ディスク基板、 2・・・膜材料塗布面(主面)、 3・・・端部、 5・・・紫外線硬化型樹脂、 9・・・肩部、 11・・・裏面。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、円盤状をしたガラスまたはプラスチックから成り、
    その一方の面にデータの記録・再生を行うための案内溝
    や凹凸のピットが形成される光ディスク基板において、 前記案内溝や凹凸のピットが形成される側の主面と外周
    面との境界部分である端部の断面形状を丸くしたことを
    特徴とする光ディスク基板。 2、前記端部の断面形状は、曲率半径0.3mm以上の
    円弧であることを特徴とする請求項1に記載の光ディス
    ク基板。 3、前記外周面に外側に向かって突出する肩部を設けた
    ことを特徴とする請求項1または2に記載の光ディスク
    基板。 4、前記肩部は、外側に向かって突出する長さが0.1
    mm以上5mm以下であることを特徴とする請求項3に
    記載の光ディスク基板。 5、前記肩部は、その厚さが0.2mm以上0.9mm
    以下であることを特徴とする請求項3に記載の光ディス
    ク基板。
JP1004962A 1989-01-13 1989-01-13 光ディスク基板 Pending JPH02187940A (ja)

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JP1004962A JPH02187940A (ja) 1989-01-13 1989-01-13 光ディスク基板

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004107333A1 (ja) * 2003-05-30 2004-12-09 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. インクジェット用受理層形成方法及び装置、並びにインクジェット用受理層を形成したディスク
CN115497856A (zh) * 2022-09-29 2022-12-20 英利能源发展有限公司 一种消除太阳能电池绕扩、绕度的装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004107333A1 (ja) * 2003-05-30 2004-12-09 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. インクジェット用受理層形成方法及び装置、並びにインクジェット用受理層を形成したディスク
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