JPH021910B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH021910B2 JPH021910B2 JP12076181A JP12076181A JPH021910B2 JP H021910 B2 JPH021910 B2 JP H021910B2 JP 12076181 A JP12076181 A JP 12076181A JP 12076181 A JP12076181 A JP 12076181A JP H021910 B2 JPH021910 B2 JP H021910B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- monitor
- rate
- control
- central monitor
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は撮像管のターゲツトの製造に用いて好
適な蒸着方法に係り、特にサチコン（商品名）膜
各層の蒸着源構成比を安定させるのに好適な自動
蒸着制御方法に関する。
適な蒸着方法に係り、特にサチコン（商品名）膜
各層の蒸着源構成比を安定させるのに好適な自動
蒸着制御方法に関する。
従来のサチコン蒸着技術は、レートのコントロ
ールはサイドモニタで、膜厚量は中央モニタを使
つて行なつていた。サイドモニタは面板とは別の
位置にあるためコントロールするレートを中央と
サイドの理論的な比により計算して決めていた
が、この方法では蒸着源のボートのセツト状態、
又は治具等により、サイドと中央の蒸着比が一定
に出てこないという欠点があつた。
ールはサイドモニタで、膜厚量は中央モニタを使
つて行なつていた。サイドモニタは面板とは別の
位置にあるためコントロールするレートを中央と
サイドの理論的な比により計算して決めていた
が、この方法では蒸着源のボートのセツト状態、
又は治具等により、サイドと中央の蒸着比が一定
に出てこないという欠点があつた。
本発明の目的は、サチコン等の蒸着膜各層の蒸
着源構成比を安定させ、特性の安定した蒸着膜を
形成する自動蒸着制御方法を提供することにあ
る。
着源構成比を安定させ、特性の安定した蒸着膜を
形成する自動蒸着制御方法を提供することにあ
る。
従来のレートコントロール方法で、ある程度の
特性が得られていたが、これ以上の安定した特性
を得るにはどうしたら良いかを検討中に、中央モ
ニタで蒸着量を測定しているのでそれを利用して
コントロールすれば安定した特性を得られること
がわかり、本発明にいたつた。
特性が得られていたが、これ以上の安定した特性
を得るにはどうしたら良いかを検討中に、中央モ
ニタで蒸着量を測定しているのでそれを利用して
コントロールすれば安定した特性を得られること
がわかり、本発明にいたつた。
以下、本発明の実施例を第１図および第２図に
より説明する。
より説明する。
第１図ａ，ｂにおいて、ベルジヤー１の中には
一定速度で回転するターンテーブル２が設けら
れ、その上にサイドモニタ３、中央モニタ４およ
び撮像管に用いる面板５が配置されている。スリ
ツト６には開口部が２個所あり、一方はサイドモ
ニタ３用、他方は中央モニタ４および面板５用と
なつているが、シヤツタ７がその開口部にかぶさ
つているため、レートが安定してシヤツタ７を開
ける（横に移動する）までは中央モニタ４および
面板５には蒸着されないようになつている。な
お、８は複数個の穴を持つボートである。
一定速度で回転するターンテーブル２が設けら
れ、その上にサイドモニタ３、中央モニタ４およ
び撮像管に用いる面板５が配置されている。スリ
ツト６には開口部が２個所あり、一方はサイドモ
ニタ３用、他方は中央モニタ４および面板５用と
なつているが、シヤツタ７がその開口部にかぶさ
つているため、レートが安定してシヤツタ７を開
ける（横に移動する）までは中央モニタ４および
面板５には蒸着されないようになつている。な
お、８は複数個の穴を持つボートである。
第２図ａ，ｂにレートコントロールのタイムチ
ヤートを示す。スタートＡと同時にボート８に電
流を通電し、ボート８内の材料を溶かして蒸発
（又は昇華）させる。サイドモニタ３でターンテ
ーブル２の１回転の蒸発量（レート）F1を測定
し、設定レートと比較して電流をコントロール
する。レートF1が安定したらＢ点でシヤツタ７
を開け、中央モニタ４および面板５に蒸着を開始
する。これと同時に中央モニタ４でレートF2を
測定し、電流をコントロールし蒸着をつづけ
る。規定の蒸着量になつたらＣ点でシヤツタ７を
閉じ、蒸着を終了する。設定レートはサイドモニ
タ３用と中央モニタ４用にそれぞれ任意の値を設
定する。
ヤートを示す。スタートＡと同時にボート８に電
流を通電し、ボート８内の材料を溶かして蒸発
（又は昇華）させる。サイドモニタ３でターンテ
ーブル２の１回転の蒸発量（レート）F1を測定
し、設定レートと比較して電流をコントロール
する。レートF1が安定したらＢ点でシヤツタ７
を開け、中央モニタ４および面板５に蒸着を開始
する。これと同時に中央モニタ４でレートF2を
測定し、電流をコントロールし蒸着をつづけ
る。規定の蒸着量になつたらＣ点でシヤツタ７を
閉じ、蒸着を終了する。設定レートはサイドモニ
タ３用と中央モニタ４用にそれぞれ任意の値を設
定する。
なお、蒸着源は数ボジシヨンあり、同時に複数
ボジシヨンのレートコントロールを行ない、全て
のボジシヨンのレートが安定するまではシヤツタ
７は開けない。
ボジシヨンのレートコントロールを行ない、全て
のボジシヨンのレートが安定するまではシヤツタ
７は開けない。
本実施例によれば、複数の蒸着源で蒸着をした
場合、その構成比が安定し、特性、歩留り効果が
ある。
場合、その構成比が安定し、特性、歩留り効果が
ある。
本発明によれば、シヤツタを開けると同時に中
央モニタコントロールに切り換えるため、ボート
のかたむき等によるサイドモニタと中央モニタの
比のムラを解消できるので制御性の向上に効果が
ある。
央モニタコントロールに切り換えるため、ボート
のかたむき等によるサイドモニタと中央モニタの
比のムラを解消できるので制御性の向上に効果が
ある。
第１図は本発明の一実施例を適用する蒸着装置
を示すものでａは平面図、ｂは断面図、第２図は
タイムチヤートである。 １……ベルジヤ、２……ターンテーブル、３…
…サイドモニタ、４……中央モニタ、５……面
板、６……スリツト、７……シヤツタ、８……ボ
ート。
を示すものでａは平面図、ｂは断面図、第２図は
タイムチヤートである。 １……ベルジヤ、２……ターンテーブル、３…
…サイドモニタ、４……中央モニタ、５……面
板、６……スリツト、７……シヤツタ、８……ボ
ート。
Claims (1)
- １ 複数の蒸着源を有する真空蒸着装置の自動蒸
着制御方法において、レートコントロール用のモ
ニタとしてサイドモニタと被蒸着物と同じ位置に
ある中央モニタとを設け、レートが安定し蒸着を
開始するまではサイドモニタにてコントロール
し、蒸着を開始してからは自動的に切換えて中央
モニタにてコントロールするようにした自動蒸着
制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12076181A JPS5822378A (ja) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | 自動蒸着制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12076181A JPS5822378A (ja) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | 自動蒸着制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5822378A JPS5822378A (ja) | 1983-02-09 |
| JPH021910B2 true JPH021910B2 (ja) | 1990-01-16 |
Family
ID=14794331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12076181A Granted JPS5822378A (ja) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | 自動蒸着制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5822378A (ja) |
-
1981
- 1981-08-03 JP JP12076181A patent/JPS5822378A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5822378A (ja) | 1983-02-09 |
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