JPH02191295A - 3,4―ジデヒドロ―3―デオキシ マイカミノシルタイロノライド誘導体 - Google Patents
3,4―ジデヒドロ―3―デオキシ マイカミノシルタイロノライド誘導体Info
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- JPH02191295A JPH02191295A JP1009159A JP915989A JPH02191295A JP H02191295 A JPH02191295 A JP H02191295A JP 1009159 A JP1009159 A JP 1009159A JP 915989 A JP915989 A JP 915989A JP H02191295 A JPH02191295 A JP H02191295A
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- didehydro
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はすぐれた抗菌作用を有するマクロラクトン化合
物に関する。
物に関する。
即ち9本発明の化合物は、下記一般式(I)で示される
3、4−ジデヒドロ−3−デオキシ マイカミノシルタ
イロノライド誘導体又はその塩である。
3、4−ジデヒドロ−3−デオキシ マイカミノシルタ
イロノライド誘導体又はその塩である。
C式中、R1は水素原子又は水酸基を意味する。)
で示される3、4−ジデヒドロ−3−デオキシマイカミ
ノシルタイロノライド誘導体又はその塩。
ノシルタイロノライド誘導体又はその塩。
(式中 11は水素原子又は水酸基を意味する。以下同
様) (従来の技術) 本発明の目的化合物はマイカミノシルクイロノライドま
たは該化合物の4′位の水酸基が脱離された4′−デオ
キシマイカミノシルタイロノライドの3,4位に二重結
合を有する点に化学構造上の特徴を有する新規化合物で
ある。従来。
様) (従来の技術) 本発明の目的化合物はマイカミノシルクイロノライドま
たは該化合物の4′位の水酸基が脱離された4′−デオ
キシマイカミノシルタイロノライドの3,4位に二重結
合を有する点に化学構造上の特徴を有する新規化合物で
ある。従来。
このような化合物は知られていない。
(化合物)
すなわち9本発明は頭記一般式(I)で示される3、4
−ジデヒドロ−3−デオキシ マイカミノシルタイロノ
ライド誘導体又はその塩である。
−ジデヒドロ−3−デオキシ マイカミノシルタイロノ
ライド誘導体又はその塩である。
頭記一般式(I)で示される化合物は塩も形成すること
ができる。このような塩としては2例えば塩酸塩、硫酸
塩等の無機酸との塩、ギ酸。
ができる。このような塩としては2例えば塩酸塩、硫酸
塩等の無機酸との塩、ギ酸。
酢酸、トルエンスルホン酸等の有機酸との塩が挙げられ
る。
る。
(製造法)
本発明化合物(I)は、以下の方法により製造すること
ができる。
ができる。
第1製法
(式中、Aは保護されていてもよいカルボニル基を。
Bは保護されていてもよいアルデヒド基を R2はアル
キルシリル基を、Xは)−ロゲン原子を、Yは1乃至3
個の低級アルキル基で置換されていてもよいフェニル基
を意味する。以下同様) 本発明化合物のうち9式(Ia)で示される3、4−ジ
デヒドロ−3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロ
ノライドは、以下の工程により製造される。
キルシリル基を、Xは)−ロゲン原子を、Yは1乃至3
個の低級アルキル基で置換されていてもよいフェニル基
を意味する。以下同様) 本発明化合物のうち9式(Ia)で示される3、4−ジ
デヒドロ−3,4′−ジデオキシマイカミノシルタイロ
ノライドは、以下の工程により製造される。
(第1工程)
一般式(III)で示される化合物は、一般式(II)
で示される化合物に式(■)で示されるノ・ロゲン化ア
ルキルシリル化合物を反応させることにより製造される
。
で示される化合物に式(■)で示されるノ・ロゲン化ア
ルキルシリル化合物を反応させることにより製造される
。
式(II)で示される化合物のカルボニル基又はアルデ
ヒドの保護基としてはアセタール(またはチオアセター
ル)、ケタール(またはチオケタール)等で保護された
もので、具体的には、ジメチルアセタール(ジメチルケ
タール)、ジエチルアセタール(ジエチルケタール)、
ジエチルチオアセタール(ジエチルチオケタール)、エ
チレンアセタール(エチレンチオケタール)、プロピレ
ンアセタール(プロピレンケタール)等である。
ヒドの保護基としてはアセタール(またはチオアセター
ル)、ケタール(またはチオケタール)等で保護された
もので、具体的には、ジメチルアセタール(ジメチルケ
タール)、ジエチルアセタール(ジエチルケタール)、
ジエチルチオアセタール(ジエチルチオケタール)、エ
チレンアセタール(エチレンチオケタール)、プロピレ
ンアセタール(プロピレンケタール)等である。
また2式(VII)で示されるハロゲン化アルキルシリ
ル化合物としては、塩化トリメチルシラン、臭化トリエ
チルシラン、塩化トリ(tart−ブチル)シラン、塩
化tert−ブチルジメチルシラン、塩化セキシルジメ
チルシラン等である。
ル化合物としては、塩化トリメチルシラン、臭化トリエ
チルシラン、塩化トリ(tart−ブチル)シラン、塩
化tert−ブチルジメチルシラン、塩化セキシルジメ
チルシラン等である。
反応は、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン、ベンゼン、クロロホルム、ジメチルホルムアミドの
溶媒中、好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム、ピリジン、ルチジン、ピコリン、イ
ミダゾール等の無機若しくは有機塩基存在下に反応させ
る。反応温度は室温下乃至加温下である。
ン、ベンゼン、クロロホルム、ジメチルホルムアミドの
溶媒中、好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素ナトリウム、ピリジン、ルチジン、ピコリン、イ
ミダゾール等の無機若しくは有機塩基存在下に反応させ
る。反応温度は室温下乃至加温下である。
(第2工程)
この工程は、化合物GII)にベンジルスルホン酸又は
その反応性誘導体(Vlll)を反応させるものである
。ここで使用されるベンジルスルホン酸はベンゼン環に
1乃至3個のメチル基、エチル基等の置換基を有するこ
とができる。また、ベンジルスルホン酸の反応性誘導体
としてはクロライド、ブロマイド等のハライドや酸無水
物が用いられる。
その反応性誘導体(Vlll)を反応させるものである
。ここで使用されるベンジルスルホン酸はベンゼン環に
1乃至3個のメチル基、エチル基等の置換基を有するこ
とができる。また、ベンジルスルホン酸の反応性誘導体
としてはクロライド、ブロマイド等のハライドや酸無水
物が用いられる。
この反応は2通常冷却下乃至室温下、溶媒中で行われる
。溶媒としてはアセトニトリル、アセトン、ジメチルス
ルホキシド、ジオキサン等の溶媒が使用できる。また、
ピリジン、トリエチルアミン等も塩基性触媒としである
いは溶媒としても使用することができる。
。溶媒としてはアセトニトリル、アセトン、ジメチルス
ルホキシド、ジオキサン等の溶媒が使用できる。また、
ピリジン、トリエチルアミン等も塩基性触媒としである
いは溶媒としても使用することができる。
(第3工程)
一般式(Vl)で示される3、4位に二重結合を有する
化合物は2式(IV)で示される化合物に、ヨウ化ナト
リウム、ヨウ化カリウム、臭化リチウム等のアルカリ金
属ハロゲン化物を反応させることにより得ることができ
る。反応溶媒としてはアセトン。
化合物は2式(IV)で示される化合物に、ヨウ化ナト
リウム、ヨウ化カリウム、臭化リチウム等のアルカリ金
属ハロゲン化物を反応させることにより得ることができ
る。反応溶媒としてはアセトン。
メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、ジオサン等
である。
である。
また反応温度は、室温下乃至加熱下である。加温は、溶
媒の沸点付近あるいは封管中でそれ以上の温度で行なっ
てもよい。
媒の沸点付近あるいは封管中でそれ以上の温度で行なっ
てもよい。
尚2不反応において、短時間で反応を終了させる場合、
若しくは、低温下に反応を行う場合には。
若しくは、低温下に反応を行う場合には。
化合物(′Iv)の4′位ベンジルスルホニル基のみが
ノーロゲン原子で置換された化合物(V)を単離するこ
ともできる。
ノーロゲン原子で置換された化合物(V)を単離するこ
ともできる。
(第4工程)
本工程は、化合物(Vl)の4′位ハロゲン原子な水素
原子に置換したのち、所望により保護基を除去する工程
である。
原子に置換したのち、所望により保護基を除去する工程
である。
まず、ハロゲン原子の置換は、トリエチルスズハイドラ
イド、トリーn−ブチルスズハイドライド等のトリアル
キルスズハイドライド及びトリフェニルスズハイドライ
ド等のトリアリールスズハイドライドが挙げられる。
イド、トリーn−ブチルスズハイドライド等のトリアル
キルスズハイドライド及びトリフェニルスズハイドライ
ド等のトリアリールスズハイドライドが挙げられる。
反応溶媒として好適なものはトルエン、ベンゼン、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等の溶媒である。この反応
は、室温下乃至加熱下で進行するが反応を促進させるた
めにラジカル開始剤1例えばα・α′−アゾビスイソブ
チロニトリル(AIBN)等を添加するのが好ましい。
キサン、テトラヒドロフラン等の溶媒である。この反応
は、室温下乃至加熱下で進行するが反応を促進させるた
めにラジカル開始剤1例えばα・α′−アゾビスイソブ
チロニトリル(AIBN)等を添加するのが好ましい。
以上の工程で得られた化合物が保護基を有する場合は、
所望により保護基を除去する。アルデヒド基の保護基の
除去は1通常水の存在下に塩酸。
所望により保護基を除去する。アルデヒド基の保護基の
除去は1通常水の存在下に塩酸。
酢酸等の鉱酸又はトリフルオロ酢酸、トリクロル酢酸な
どの有機酸で処理する。また、ケタール系の保護基の除
去は、上記アルデヒド基の除去に使用された酸の他に、
p−)ルエンスルホン酸%のアリールスルホン酸、メタ
ンスルホン酸等のアルキルスルホン酸で処理することも
できる。この反応は、ジオキサン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の溶媒中
。
どの有機酸で処理する。また、ケタール系の保護基の除
去は、上記アルデヒド基の除去に使用された酸の他に、
p−)ルエンスルホン酸%のアリールスルホン酸、メタ
ンスルホン酸等のアルキルスルホン酸で処理することも
できる。この反応は、ジオキサン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の溶媒中
。
室温乃至加熱下に行われる。
(第2製法)
本発明化合物のうち式(Ib)で示される3、4−ジデ
ヒドロ−3−デオキシマイカミノシルタイ戸ノラライド
は以下の反応式で示される方法により得ることができる
。
ヒドロ−3−デオキシマイカミノシルタイ戸ノラライド
は以下の反応式で示される方法により得ることができる
。
(式中R3は、アシル基を意味する。以下同様)(第1
の2工程) 式(IX)で示される化合物は (m)で示される化合
物をアシル化することにより製造される。
の2工程) 式(IX)で示される化合物は (m)で示される化合
物をアシル化することにより製造される。
アシル化反応は、アセチルクロライド、アセチルブロマ
イド、プロピオニルクロライド、ピバロイルクロライド
、ベンゾイルクロライド等の酸ハロゲン化物、無水酢酸
、安息香酸無水物等の酸無水物、 又G!酸、!−p−
ニトロフェニルエステル、2.4−ジニトロフェニルエ
ステル等トの活性エステルなど反応条件を考慮して適宜
採用することができる。また、酸は遊離酸又はその塩の
状態で使用することもでき、この場合は塩酸、硫酸等の
脱水剤の存在下に行われる。
イド、プロピオニルクロライド、ピバロイルクロライド
、ベンゾイルクロライド等の酸ハロゲン化物、無水酢酸
、安息香酸無水物等の酸無水物、 又G!酸、!−p−
ニトロフェニルエステル、2.4−ジニトロフェニルエ
ステル等トの活性エステルなど反応条件を考慮して適宜
採用することができる。また、酸は遊離酸又はその塩の
状態で使用することもでき、この場合は塩酸、硫酸等の
脱水剤の存在下に行われる。
反応溶媒としては、水、アセトン、ジオキサン。
アセトニトリル、クロロホルム、ベンゼン、ジクロロメ
タン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル。
タン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル。
N、N−ジメチルホルムアミド、ピリジン等の反応に悪
影響を及ぼさない慣用溶媒又はこれらの混合溶媒である
。反応温度は特に限定されないが2通常冷却下乃至加温
下である。
影響を及ぼさない慣用溶媒又はこれらの混合溶媒である
。反応温度は特に限定されないが2通常冷却下乃至加温
下である。
以下、第2の2工程、第3の2工程及び第4工程は、夫
々第1製法の第2工程、第3工程及び第4工程の脱保護
方法に準じて行われる。
々第1製法の第2工程、第3工程及び第4工程の脱保護
方法に準じて行われる。
このようにして生成した目的化合物(I)は有機溶媒に
よる抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィー等に付し
て単離、精製される。
よる抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィー等に付し
て単離、精製される。
(発明の効果)
本発明の化合物(I)はダラム陽性及び陰性に属する広
範囲の微生物に対し抗菌活性を示す。
範囲の微生物に対し抗菌活性を示す。
殊に本発明の化合物(1)は、従来のマクロライド化合
物が抗菌作用を示さなかりたS taphylococ
cusaureus (スタフィロコッカスアウレウス
)MS8710 、5taphylocoeeua a
ureus (スタフ40コツカス アウレウス) M
S9610等のマクロライドA群耐性菌に対しても優れ
た抗菌活性を有する。
物が抗菌作用を示さなかりたS taphylococ
cusaureus (スタフィロコッカスアウレウス
)MS8710 、5taphylocoeeua a
ureus (スタフ40コツカス アウレウス) M
S9610等のマクロライドA群耐性菌に対しても優れ
た抗菌活性を有する。
本発明の化合物を医薬として使用するには。
通常の製剤用担体な用いて錠剤、散剤、顆粒剤。
カプセル、注射剤等に調製して、経口的または非経口的
に投与する。投与は、成人1日につき50〜2,000
■を1〜4回に分けて行う。
に投与する。投与は、成人1日につき50〜2,000
■を1〜4回に分けて行う。
(実施例)
以下に実施例を掲記し9本発明化合物を更に詳細に説明
する。実施例中の原料化合物の製法を参考例として示し
た。
する。実施例中の原料化合物の製法を参考例として示し
た。
実施例中Massはマススペクトルを、’H−nmrは
水素核磁気共鳴スペクトルを夫々意味する。
水素核磁気共鳴スペクトルを夫々意味する。
実施例
(1) 23−0− t−プチルジメチルシリルフィ
ヵミ/’/にタイロンライド9.20−ビス(エチレン
マイカミノシルクイロノライド9.20−ビス(エチレ
ンアセタール)3.00gを無水ジメチルホルムアミド
24mZに溶解し、イミダゾール536ff1gと塩化
t−ブチルジメチルシランた。反応液を濃縮後残渣を飽
和炭酸水素す) IJウム水溶液300mAに加え、ク
ロロホルムにて抽出し、有機層を水洗、乾燥後濃縮しシ
ロップを得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(
フコ−ゲルC−200;120 : 0.1 )にて精製し、23−o−t−ブチルジメ
チルシリル マイ力ミノシルクイロノライド9.20−
ビス(エチレンアセタール)(3,01g(収率86%
)を無色固体として得た。
ヵミ/’/にタイロンライド9.20−ビス(エチレン
マイカミノシルクイロノライド9.20−ビス(エチレ
ンアセタール)3.00gを無水ジメチルホルムアミド
24mZに溶解し、イミダゾール536ff1gと塩化
t−ブチルジメチルシランた。反応液を濃縮後残渣を飽
和炭酸水素す) IJウム水溶液300mAに加え、ク
ロロホルムにて抽出し、有機層を水洗、乾燥後濃縮しシ
ロップを得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(
フコ−ゲルC−200;120 : 0.1 )にて精製し、23−o−t−ブチルジメ
チルシリル マイ力ミノシルクイロノライド9.20−
ビス(エチレンアセタール)(3,01g(収率86%
)を無色固体として得た。
理化学的性状
(1)[α]u 10°(c 1. CHCl5)(
11)元素分析(C41HtsNOu S i・1/2
H10として)C(%) H(%) N(%) 実験値 60.84 9.04 1.83計算値
60.86 9.22 1.73(fti)
Mass m/z=800 (M”)(2)
3.4’−ジー0−ベンジルスルホニル−23−〇−1
−ブチルジメチルシリル マイ力ミノシルクイロノライ
ド9.20−ビス(エチレンアセ23−0−t−ブチル
ジメチルシリル マイ力ミノシルタイロノライド9,2
0−ビス(エチレンアセタール)1.00gを無水ピリ
ジン20m1に溶解し一40℃に冷却し、塩化ベンジル
スルホニル0.67gを加え−20℃昇温し90分反応
せしめた。水0.67 mlを加えた後室温に戻し1時
間攪拌した後濃縮し、飽和炭酸水素す) IJウウ水溶
液100m7を加えた後クロロホルムで抽出した。有機
層を飽和食塩水で水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃
縮し、不安定な、未精製の34′−ジー0−ベンジルス
ルホニル23−〇−t−ブチルジメチルシリル マイカ
ミノシルタイ9ノライド9.20−ビス(エチレンアセ
タール)(1,38g)を淡黄色固体として得た。
11)元素分析(C41HtsNOu S i・1/2
H10として)C(%) H(%) N(%) 実験値 60.84 9.04 1.83計算値
60.86 9.22 1.73(fti)
Mass m/z=800 (M”)(2)
3.4’−ジー0−ベンジルスルホニル−23−〇−1
−ブチルジメチルシリル マイ力ミノシルクイロノライ
ド9.20−ビス(エチレンアセ23−0−t−ブチル
ジメチルシリル マイ力ミノシルタイロノライド9,2
0−ビス(エチレンアセタール)1.00gを無水ピリ
ジン20m1に溶解し一40℃に冷却し、塩化ベンジル
スルホニル0.67gを加え−20℃昇温し90分反応
せしめた。水0.67 mlを加えた後室温に戻し1時
間攪拌した後濃縮し、飽和炭酸水素す) IJウウ水溶
液100m7を加えた後クロロホルムで抽出した。有機
層を飽和食塩水で水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後濃
縮し、不安定な、未精製の34′−ジー0−ベンジルス
ルホニル23−〇−t−ブチルジメチルシリル マイカ
ミノシルタイ9ノライド9.20−ビス(エチレンアセ
タール)(1,38g)を淡黄色固体として得た。
(3) 23−0− t−ブチルジメチルシリル−3
,4−ジデヒドロ−3,4′−ジデオキシ−4′−ヨー
ドマイカミノシルクイロノライド9.20−ビス(エチ
レンアセタール) 参考例2で得られた。 3.4’−ジー0−ベンジル
スルホニル−23−0−t−7”チルジメチルシリル
マイ力ミノシルタイロノライ)’ 9.20−ビス(エ
チレンアセタール)の粗生成物1.32gを無水2−ブ
タノン25mAに溶解し、ヨウ化ナトリウム0.94
gを加え、アルゴン雰囲気下80℃で、6時間加熱攪拌
した。反応液を室温まで冷却し、濾過しアセトンで洗浄
し、P洗液を合して濃縮し、残漬を酢酸エチルで抽出し
た。
,4−ジデヒドロ−3,4′−ジデオキシ−4′−ヨー
ドマイカミノシルクイロノライド9.20−ビス(エチ
レンアセタール) 参考例2で得られた。 3.4’−ジー0−ベンジル
スルホニル−23−0−t−7”チルジメチルシリル
マイ力ミノシルタイロノライ)’ 9.20−ビス(エ
チレンアセタール)の粗生成物1.32gを無水2−ブ
タノン25mAに溶解し、ヨウ化ナトリウム0.94
gを加え、アルゴン雰囲気下80℃で、6時間加熱攪拌
した。反応液を室温まで冷却し、濾過しアセトンで洗浄
し、P洗液を合して濃縮し、残漬を酢酸エチルで抽出し
た。
有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液、0.1Mチオ硫酸
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後濃縮し、黄色シロップを得た。これを
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ワコーゲルC−
200.60g、ベンゼン:酢酸エチル=55:10)
”C1製り、 23−0−t−ブチルジメチルシリル
3.4−ジデヒドロ−3,4′−ジデオキシ−4′−ヨ
ード マイカミノシルタイ9ノライド9.20−ビス(
エチレンアセタール)の無色固体0.33gを得た。
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後濃縮し、黄色シロップを得た。これを
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ワコーゲルC−
200.60g、ベンゼン:酢酸エチル=55:10)
”C1製り、 23−0−t−ブチルジメチルシリル
3.4−ジデヒドロ−3,4′−ジデオキシ−4′−ヨ
ード マイカミノシルタイ9ノライド9.20−ビス(
エチレンアセタール)の無色固体0.33gを得た。
理化学的性状
(1)[α37.−72°(c 1. CHCl3 )
(11)元素分析(C41H?。NIO,。Siとして
)C(%)H■)N(%) I(%)実験値 55
.09 7.80 1.47 13.97計算値 55
.21 ?、91 1.57 14.23(flD
Mams m/z = 892 (M” )(4
) 23−0− t−ブチルジメチルシリル−3,4
−ジデヒドロ−3,4′−ジデオキシ マイ力ミノシル
タイロノライド9.20−ビス(エチレンア23−0−
t−ブチルジメチルシリル−3,4−ジデヒドロ−3,
4′−ジデオキシ−4′−ヨードマイカミノシルタイロ
ノライド9.20−ビス(エチレンアセタール) 0.
23 g’を無水ヘンゼン?、 5 mlに溶解し水素
化トリブチルスズ0.22m1.アゾジイソブチロニト
リル10■を加え。
(11)元素分析(C41H?。NIO,。Siとして
)C(%)H■)N(%) I(%)実験値 55
.09 7.80 1.47 13.97計算値 55
.21 ?、91 1.57 14.23(flD
Mams m/z = 892 (M” )(4
) 23−0− t−ブチルジメチルシリル−3,4
−ジデヒドロ−3,4′−ジデオキシ マイ力ミノシル
タイロノライド9.20−ビス(エチレンア23−0−
t−ブチルジメチルシリル−3,4−ジデヒドロ−3,
4′−ジデオキシ−4′−ヨードマイカミノシルタイロ
ノライド9.20−ビス(エチレンアセタール) 0.
23 g’を無水ヘンゼン?、 5 mlに溶解し水素
化トリブチルスズ0.22m1.アゾジイソブチロニト
リル10■を加え。
アルゴン置換後80℃2時間反応せしめた。2時間後2
反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ワコーゲルC−200゜30g、ヘキサン:ア
セトン(3:1)80mA→クロロホルム(120ml
)→クロロホルム:メタノール:@アンモニア水=10
:1:0.1)にて分離精製し23−0−t−ブチルジ
メチルシリル−3,4−ジデヒドロ−3,4′−ジデオ
キシマイカミノシルクイロノライド9.20−ビス(エ
チレンアセタール)の無色固体185rQg(収率94
%)を得た。
反応液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ワコーゲルC−200゜30g、ヘキサン:ア
セトン(3:1)80mA→クロロホルム(120ml
)→クロロホルム:メタノール:@アンモニア水=10
:1:0.1)にて分離精製し23−0−t−ブチルジ
メチルシリル−3,4−ジデヒドロ−3,4′−ジデオ
キシマイカミノシルクイロノライド9.20−ビス(エ
チレンアセタール)の無色固体185rQg(収率94
%)を得た。
理化学的性状
(1)[α]l’+ 53°(c 1. CHO5)
(II)元素分析(C++ Hlt No t。5t−
H,oとして)C(%) H(%) N(%)
実験値 63.02 9.12 1.76計算値
62.80 9.13 1.79(i!OMI
LBII m/z = 766 (M” )(5
) 3.4−ジデヒドロ−3,4′−ジデオキシカミ
ノシルクイロノライド マイ 23−0−t−ブチルジメチルシリル−3,4−ジデヒ
ドロ−3,4′−ジデオキシ マイカミノシルタイロノ
ライド9.20−ビス(エチレンアセタール) 155
ff1gをアセトニトリル2.3 rnlに溶解し、0
.5M塩酸水4.6 mlを加え40°Cで2時間放置
した。反応液に飽和重そう水20m/、を加えクロロホ
ルムで抽出し、抽出液を飽和食塩水で水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後濃縮し黄色シロップを得た。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで1#製しくワコー
ゲルC−200,7,5g、 クロロホルム:メタノ
ール:濃アンモニア水=10:1:0.1)3.4−ジ
デヒドロ−3,4′−ジデオキシ マイ力ミノシルタイ
ロノライド(86,6mg 収率76%)を無色固体
として得た。
(II)元素分析(C++ Hlt No t。5t−
H,oとして)C(%) H(%) N(%)
実験値 63.02 9.12 1.76計算値
62.80 9.13 1.79(i!OMI
LBII m/z = 766 (M” )(5
) 3.4−ジデヒドロ−3,4′−ジデオキシカミ
ノシルクイロノライド マイ 23−0−t−ブチルジメチルシリル−3,4−ジデヒ
ドロ−3,4′−ジデオキシ マイカミノシルタイロノ
ライド9.20−ビス(エチレンアセタール) 155
ff1gをアセトニトリル2.3 rnlに溶解し、0
.5M塩酸水4.6 mlを加え40°Cで2時間放置
した。反応液に飽和重そう水20m/、を加えクロロホ
ルムで抽出し、抽出液を飽和食塩水で水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後濃縮し黄色シロップを得た。これをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで1#製しくワコー
ゲルC−200,7,5g、 クロロホルム:メタノ
ール:濃アンモニア水=10:1:0.1)3.4−ジ
デヒドロ−3,4′−ジデオキシ マイ力ミノシルタイ
ロノライド(86,6mg 収率76%)を無色固体
として得た。
理化学的性状
(1) [αコB −28° (c 1. C
HCl5 )(11) 元素分析(Cs+ H*e
NOaとして)C(%) H(%1 N(%) 実験値 65.55 8.57 2.13計算値
66.05 8.76 2.48(iiOMa
sa m/z = 564 (M”+ 1 )
(iV) ’H−nmr (CDCl、、 TMS内
部標準)δ0.96(3H,t、 CHs−17)1.
76(3H,s、 CHs 18) 1.83(3H,
d、 CHs 22)2.27(6H,s、 3’−N
Met) 2.35(IH,m、 H−2a)2.4
5(IH,m、H−3’) 2.75(IH,m、H
−2b)〜3.7 (2H,m、 H−23a、 b)
4.00(IH,d、 H−1’。
HCl5 )(11) 元素分析(Cs+ H*e
NOaとして)C(%) H(%1 N(%) 実験値 65.55 8.57 2.13計算値
66.05 8.76 2.48(iiOMa
sa m/z = 564 (M”+ 1 )
(iV) ’H−nmr (CDCl、、 TMS内
部標準)δ0.96(3H,t、 CHs−17)1.
76(3H,s、 CHs 18) 1.83(3H,
d、 CHs 22)2.27(6H,s、 3’−N
Met) 2.35(IH,m、 H−2a)2.4
5(IH,m、H−3’) 2.75(IH,m、H
−2b)〜3.7 (2H,m、 H−23a、 b)
4.00(IH,d、 H−1’。
J+’ zI= 7.3 Hz )
4.36 (IH,b:、 )(−s )5.55 (
IH,t、 H−3) =10Hz)6.23(IH。
IH,t、 H−3) =10Hz)6.23(IH。
7.14 (IH,d、 H−11)
4.94 (IH,m、 H−15)
5.75 (I H,d、 H13,Jrs 14d、
H−10,J、。、 、、 =16Hz)9.76
(IH,s、 2O−CHO)特許出願人財団法人微生
物化学研究会 代理人 弁理士 藤 野 清 也
H−10,J、。、 、、 =16Hz)9.76
(IH,s、 2O−CHO)特許出願人財団法人微生
物化学研究会 代理人 弁理士 藤 野 清 也
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子又は水酸基を意 味する。) で示される3,4−ジデヒドロ−3−デオキシマイカミ
ノシルタイロノライド誘導体又はその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1009159A JPH02191295A (ja) | 1989-01-18 | 1989-01-18 | 3,4―ジデヒドロ―3―デオキシ マイカミノシルタイロノライド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1009159A JPH02191295A (ja) | 1989-01-18 | 1989-01-18 | 3,4―ジデヒドロ―3―デオキシ マイカミノシルタイロノライド誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02191295A true JPH02191295A (ja) | 1990-07-27 |
Family
ID=11712840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1009159A Pending JPH02191295A (ja) | 1989-01-18 | 1989-01-18 | 3,4―ジデヒドロ―3―デオキシ マイカミノシルタイロノライド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02191295A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993014101A1 (fr) * | 1992-01-14 | 1993-07-22 | Zaidan Hojin Biseibutsu Kagaku Kenkyukai | Derive de 3,4'-didesoxymycaminosyltylonolide et production de ce compose |
-
1989
- 1989-01-18 JP JP1009159A patent/JPH02191295A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993014101A1 (fr) * | 1992-01-14 | 1993-07-22 | Zaidan Hojin Biseibutsu Kagaku Kenkyukai | Derive de 3,4'-didesoxymycaminosyltylonolide et production de ce compose |
| US5541303A (en) * | 1992-01-14 | 1996-07-30 | Zaidan Hojin Biseibutsu Kagaku Kenkyukai | 3,4'-dideoxymycaminosltylonolide derivative and process for producing the same |
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