JPH0219138B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は被処理物を真空処理室内で処理する真
空処理装置に関するものである。

プラスチツク、特に塩化ビニル系樹脂フイルム
の例えばプラズマ処理については、それにより可
塑剤移行防止、表面ぬれ性、帯電防止、ブロツキ
ング防止、印刷特性の向上、知摩耗性、耐候性、
耐汚染性等有用な特性が賦与されることから、バ
ツチ処理等小スケールの装置で従来より行われて
きたが、工業的規模で行う場合には、種々の問題
があつた。

たとえば、バツチ連続処理装置についても、二
三提委されているが、軟質塩化ビニル系樹脂フイ
ルムのように、可塑剤、安定剤、その他の内部添
加剤を含有している場合には、フイルム巻物を装
置内部にセツトし、初期圧力設定時にこれら内部
添加剤の揮発、逸散によりフイルムの変質が起る
と同時に、この揮発分およびフイルム巻物中に共
在するガスの逸散により初期圧力設定までかなり
長時間を要するというような本質的欠点を有す
る。

しかして、一般に低温プラズマ処理は圧力0.01
〜10トールの範囲で数ＫHz〜数百ＫHzの高周波電
力を印加することにより行われ、プラズマ発生の
ために供給されるガスは目的とする処理特性に対
応して選択されるのであるが、この際均一な処理
を行なうためには圧力が一定に保持されること、
選択されたガス以外のガスたとえば空気等の混入
は極力回避されること等が重要である。

特にそれがプラズマ処理効果に悪影響をおよぼ
す場合には、上記問題を致命的欠点である。

更に又、低温プラズマ処理を行う場合、処理効
果を効率的に賦与するためには、真空処理室の圧
力を0.1トール前後に保持することが必要である
が、バツチ毎にこの様な操作を行つていたので、
ロスタイムが大きすぎて生産性悪く、処理コスト
の面から実用に供することは困難である。

本発明者らは以上の点を考慮した上で被処理物
を連続的に真空処理するための装置を開発すべく
鋭意研究の結果、本発明を完成した。

本発明は上記の点に鑑み、被処物理の真空処理
における良好な処理を行い、得ることは勿論、大
量生産に適した真空処理装置を提供することを目
的とする。

以下多段シールロールよりなる予備真空室、特
に３段シールロールよりなる予備真空室につい
て、実施例により説明する。

第１図および第２図において、１はプラスチツ
ク成形品など可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連
続的にプラズマ処理する真空処理室で、この真空
処理室１内はこれに接続する真空ポンプ４により
10^-2トール程度の真空圧力に保持するように排気
管５を介して真空排気される。また、この真空処
理室１内には図示していないが、真空状態でプラ
ズマ処理を施すための陽極、陰極などが内蔵され
ている。２は真空処理室１の前方側に複数個配置
される予備真空室、３は真空処理室１の後方側に
配置される複数個の予備真空室で、これら予備真
空室２，３内は、これに接続する真空ポンプ６に
より前記真空処理室空１内の真空圧力より若干高
い程度の真空圧力に保持するように排気管７を介
して真空排気される。

第３図および第４図は前記予備真空室２，３の
詳細を示すもので、８，９は両端側がハウジング
１０にラジアル軸受１１および偏心軸受ハウジン
グ１２を介して回転自在に、かつ上、下方向へ移
動可能に支持されるシール用の上、下ロール（第
１及び第２ロール）で、この上、下ロール８，９
の表面には硬質のニツケルクロム層１３が施され
ている。１４は上、下ロール８，９と間に対接す
るように配設され、かつ表面にゴム、フツソ樹脂
などの弾性材１５を一体的に焼着したシール用の
中ロール（第１のロール）で、この中ロール１４
は両端側が横ケース１０にラジアル軸受１１およ
び固定軸受ハウジング１６を介して回転自在に支
持されている。そして下ロール９と中ロール１４
との間には被処理物Ｆが挿入される。１７は上ケ
ース１８に固定され、かつ上ロール８の外周面側
に配設される上ロール支持受けで、この上ロール
支持受１７の内周面には上ロール８のニツケルク
ロム層１３に対接する低摩擦係数のフツソ樹脂膜
１９が焼着されている。２０は下ケース２１に固
定され、かつ下ロール９の外周面側に配設される
下ロール支持受けで、この下ロール支持受け２０
の内周面には下ロール９の表面に対接する低摩擦
係数のフツソ樹脂膜２２が焼着されている。第５
図は上、下、中ロール８，９，１４および上、下
ケース１８，２１の両端側と横ケース１０、偏心
軸受ハウジング１２との間に介在されるサイドピ
ース２３の取付状態を示したもので、サイドピー
ス２３の上、下、中ロール８，９，１４の端面と
対向する面には、低摩擦係数のフツソ樹脂膜２４
が焼着されており、このサイドピース２３はボル
ト２５を締付けることによりコイルバネ２６を介
して横ケース１０に押付けられる。このとき、前
記上、下、中ロール８，９，１４とサイドピース
２３のフツソ樹脂膜２４との間には20μｍ程度の
隙間が形成される。また、サイドピース２３の押
付力はサイドピース２３とボルト２５との隙間Ｈ
によつて規制される。

第６図は上、下、中ロール８，９を偏心軸受ハ
ウジング１２により上、下方向へ移動させるため
の説明図である。第６図において、偏心軸受ハウ
ジング１２の中心位置Ａは、上、下ロール８，９
の中心位置Ｂに対し偏心（偏心量Ｃ）して設けら
れており、この偏心軸受ハウジング１２は中心位
置Ａを回動中心に図示しない油圧シリンダ装置に
より図示矢印方向へ回動する。このとき、上、下
ロール８，９は上方向または下方向へ、すなわ
ち、中ロール１４に対して押付ける方向または中
ロール１４から離れる方向へ移動する。したがつ
て、偏心軸受ハウジング１２の回動角を調整する
ことにより、上ロール８と中ロール１４または下
ロール９と中心ロール１４との押圧力を任意に変
えることができると共に下ロール９と中ロール１
４の隙間への被処理物Ｆの挿入が容易になる。

第１図および第２図に押つて、２７は被処理物
Ｆを予備真空室２を経て真空処理室内へ移送する
送り出し装置、２８は真空処理室１内でプラズマ
処理された被処理物Ｆを巻き取る巻き取り装置、
２９は駆動用モータで、この駆動用モータ２９の
駆動力により回転軸３０および動力分配機３１を
介して予備真空室２，３の上、下、中ロール８，
９，１４を回転させる。

上記のように構成される予備真空室２，３にお
いて、上ロール８と中ロール１４の間のシール
は、上ロール８を偏心軸受ハウジング１２により
中ロール１４に対して押しつけ、中ロール１４の
弾性材１５をたわませることにより施される。同
様に下ロール９と中ロール１４の間のシールは、
下ロール９を中ロール１４に対して押しつけ、中
ロール１４の弾性材１５をたわませることにより
施される。また、上ロール８と上ロール支持受け
および下ロール９と下ロール支持受け２０の間の
シールは、両者間の隙間を非常に小さく、例えば
20μｍ程度にすることにより可能である。

次に本発明の真空処理装置の作動を説明する。

先ず、真空ポンプ４，６を作動させることによ
り、真空処理室１内および予備真空室２，３内を
真空排気する。このとき、真空処理室１内の圧力
は予備真空室２，３内の圧力より低く保持され
る。また、真空処理室１内には、プラズマ特性を
良くするためのアルゴンガス、窒素ガスなどを通
気する。次に予備真空室２，３の上、下、中ロー
ル８，９，１４を駆動用モータ２９の駆動力によ
り回転させると共に真空処理室１のプラズマ装置
を操作する。この状態で被処理物Ｆは送り出し装
置２７から予備真空室２の下ロール９と中ロール
１４との間を経て真空処理室１へ連続的に導入さ
れる。真空処理室１内では、陽極と陰極間で発生
するプラズマ放電により被処理物Ｆの表面にプラ
ズマ処理が施される。真空処理室１内のプラズマ
表面処理された被処理物Ｆは、直ちに予備真空室
３の下ロール９と中ロール１４との間を経て巻き
取り装置２８により巻き取られる。このように被
処理物Ｆは装備真空室で良好なシール効果が得ら
れると共に真空処理室１内で短時間にプラズマ処
理されるため、プラスチツク成形品などに含有し
ている可塑剤などの内部添加剤の揮発、逸散が制
御されると共に、連続的に被処理物Ｆが真空装置
内に導入されるため、空気等の混入も少なく、目
的とするガス、目的とする圧力で定常的に処理可
能であり、良好な改質特性を賦与することが可能
にする。

また、表面がニツケルクロム層１３の上、下ロ
ール８，９と表面が弾性材１５の中ロール１４お
よび前記上、下ロール８，９と表面がフツソ樹脂
膜１９，２２の上、下ロール支持受け１７，２０
は金属層と非金属層の摺動であるため、摩擦力も
小さく、長時間の運転にも充分耐えられる。

第７図は本発明における予備真空室のロールと
ケースおよびロール間の軸方向シール手段の他の
実施例を示すものである。

第７図において、第３図および第４図と同一符
号のものは同一部分を示す。

３２，３３は前記上ロール８と下ロール９の一
部と軸方向に沿つて連続的に対接し、且つ上、下
ケース１８，２１に取外し可能に支持されるウレ
タンゴムなどのリツプ部材で、このリツプ部材３
２，３３はリツプシール、３４，３５とリツプ取
付台３６，３７から成つている。

このように上ロール８、下ロール９の一部と対
接するようにリツプ部材３２，３３を配設するこ
とにより、ロールとケースおよびロール間に軸方
向の良好なシール効果を得ることは勿論、耐久性
が向上する。

また、リツプ部材３２，３３を上、下ケースに
取外し可能に支持させるため、たとえリツプ部材
が摩擦力により使用不能になつた場合でも容易に
交換が可能となる。

尚、本発明の一実施例においては、真空処理室
１の前後方側にそれぞれ予備真空室２を配置した
場合について説明したが、第８図に示す如く真空
処理室１の前方側に予備真空室２を配置し、被処
理物Ｆを真空処理室１内に予備真空室２の中ロー
ルと下ロールとの間から送り込み、上ロールと中
ロールとの間から送り出すことも可能である。

このように予備真空室２を真空処理室１の前方
側に配置することにより、予備真空室２を構成す
るシールロールの個数が半分にできるため、真空
のもれ個所が低滅されると共に低コストの装置が
可能となる。

また、本発明の一実施例においては、ロールシ
ールを３段シールロールについても説明したが、
勿論２段シールロールについても同様の効果を奏
する。

また、シールロールを上下に配置する構造のも
のについて説明したが、シールロールを水平方向
に配置しても同様の効果が奏される。

以上説明したように、本発明によれば、予備真
空室内のシールおよびシール部分における耐久性
を大幅に向上させることができるため、被処理物
の真空処理における処理を良好に行い得ることは
勿論、生産性の大幅な向上を図ることを可能にす
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明装置の一実施例を示す正面図、
第２図は第１図の平面図、第３図および第４図は
本発明装置における予備真空室のシールロールと
ケースおよびロール間のシール手段を説明するた
めの要部拡大図で、第３図は側面図、第４図は第
３図の−線矢視図、第５図は本発明の装置に
おけるシールロール端面間のシール手段を説明す
るための要部拡大図、第６図は本発明装置におけ
る上、下ロールを偏心軸受により上下方向へ移動
させるための説明図、第７図および第８図は本発
明装置の他の実施例を示す図である。 １……真空処理室、２，３……予備真空室、８
……上ロール、９……下ロール、１４……中ロー
ル、Ｆ……被処理物。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 真空処理室の両方側または一方側に予備真空
   室を少なくとも１個配置し、前記真空処理室で被
   処理物を真空処理する真空処理装置において、前
   記予備真空室は第１のシールロールと、この第１
   のシールロールに対接する第２及び第３のシール
   ロールと、これらシールロールを囲むケースおよ
   び前記シールロールとケース間の軸方向のシール
   を施すシール手段とを備えることを特徴とする真
   空処理装置。 ２ シールロールとケース間のシール手段を、シ
   ールロールの軸方向に沿つてシールロールに連続
   的に対接するシール部材によつて構成することを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空処理
   装置。 ３ シールロールを上下方向に配置することを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空処理装
   置。 ４ シールロールを、弾性材により、形成した第
   １のロールと、剛性材により形成した第２及び第
   ３のロールとから構成したことを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の真空処理装置。