JPH0686541B2 - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
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- JPH0686541B2 JPH0686541B2 JP6601791A JP6601791A JPH0686541B2 JP H0686541 B2 JPH0686541 B2 JP H0686541B2 JP 6601791 A JP6601791 A JP 6601791A JP 6601791 A JP6601791 A JP 6601791A JP H0686541 B2 JPH0686541 B2 JP H0686541B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- seal
- seal roll
- roll
- vacuum
- vacuum processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は被処理物を真空処理室内
で処理する真空処理装置に関するものである。
で処理する真空処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック、特に塩化ビニル系樹脂フ
ィルム、例えばプラズマ処理については、それにより可
塑剤移行防止、表面ぬれ性、帯電防止、ブロッキング防
止、印刷特性の向上、耐摩耗性、耐候性、耐汚染性等有
用な特性が付与されることから、バッチ処理等小スケー
ルの装置で従来より行われてきた。
ィルム、例えばプラズマ処理については、それにより可
塑剤移行防止、表面ぬれ性、帯電防止、ブロッキング防
止、印刷特性の向上、耐摩耗性、耐候性、耐汚染性等有
用な特性が付与されることから、バッチ処理等小スケー
ルの装置で従来より行われてきた。
【０００３】なお、この種のものとしては、例えば特開
昭５０−１５２０７４号公報が挙げられる。
昭５０−１５２０７４号公報が挙げられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】バッチ連続処理装置に
ついては、二三提案されているが、軟質塩化ビニル系統
脂フィルムのように、可塑性、安定剤、その他の内部添
加剤を含有している場合には、フィルム巻物を装置内部
にセットし、初期圧力設定時にこれら内部添加剤の揮
発、逸散によりフィルムの変質が起ると同時に、この揮
発分およびフィルム巻物中に共存するガスの逸散により
初期圧力設定までかなり長時間を要するというような本
質的欠点を有する。
ついては、二三提案されているが、軟質塩化ビニル系統
脂フィルムのように、可塑性、安定剤、その他の内部添
加剤を含有している場合には、フィルム巻物を装置内部
にセットし、初期圧力設定時にこれら内部添加剤の揮
発、逸散によりフィルムの変質が起ると同時に、この揮
発分およびフィルム巻物中に共存するガスの逸散により
初期圧力設定までかなり長時間を要するというような本
質的欠点を有する。
【０００５】しかして、一般に低温プラズマ処理は圧力
０.０１〜１０ トールの範囲で数ＫＨｚ〜数百ＫＨｚの
高周波電力を印加することにより行われ、プラズマ発生
のために供給されるのであるが、この際均一な処理を行
うためには圧力が一定に保持されること、選択されたガ
ス以外のガスたとえば空気等の混入は極力回避されるこ
と等が重要である。
０.０１〜１０ トールの範囲で数ＫＨｚ〜数百ＫＨｚの
高周波電力を印加することにより行われ、プラズマ発生
のために供給されるのであるが、この際均一な処理を行
うためには圧力が一定に保持されること、選択されたガ
ス以外のガスたとえば空気等の混入は極力回避されるこ
と等が重要である。
【０００６】特にそれがプラズマ処理を行う場合、処理
効果を効率的に賦与するためには、真空処理室の圧力を
０.１ トール前後に保持することが必要であるが、バッ
チ毎にこの様な操作を行っていたので、ロスタイムが大
きすぎて生産性悪く、処理コストの面から実用に供する
ことは困難である。
効果を効率的に賦与するためには、真空処理室の圧力を
０.１ トール前後に保持することが必要であるが、バッ
チ毎にこの様な操作を行っていたので、ロスタイムが大
きすぎて生産性悪く、処理コストの面から実用に供する
ことは困難である。
【０００７】本発明は上記の点に鑑み、被処理物の真空
処理を良好に行なうことができ、又、生産性の向上を図
るのに適した真空処理装置を提供することを目的とす
る。
処理を良好に行なうことができ、又、生産性の向上を図
るのに適した真空処理装置を提供することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的は真空処理室の
両方側または一方側に予備真空室を少なくとも１個配置
し、前記真空処理室で被処理物を真空処理する真空処理
装置において、前記予備真空室は被処理物の搬送方向に
対向して配置された第１、第２のシールロール群と、こ
の第１、第２のシールロール群を囲むケースと、前記第
１、第２のシールロール群とこのケース間をそれぞれシ
ールするシール手段とにより構成され、前記第１、第２
のシールロール群は第１のシールロールと、この第１の
シールロールに隣接する第２、第３のシールロールで形
成される３本一組のシールロールからなり、第１、第２
のシールロール群は第１のシールロールを基準に、第
２、第３のシールロールを被処理物の搬送方向と交差す
る方向に水平に配置すること、によって達成される。
両方側または一方側に予備真空室を少なくとも１個配置
し、前記真空処理室で被処理物を真空処理する真空処理
装置において、前記予備真空室は被処理物の搬送方向に
対向して配置された第１、第２のシールロール群と、こ
の第１、第２のシールロール群を囲むケースと、前記第
１、第２のシールロール群とこのケース間をそれぞれシ
ールするシール手段とにより構成され、前記第１、第２
のシールロール群は第１のシールロールと、この第１の
シールロールに隣接する第２、第３のシールロールで形
成される３本一組のシールロールからなり、第１、第２
のシールロール群は第１のシールロールを基準に、第
２、第３のシールロールを被処理物の搬送方向と交差す
る方向に水平に配置すること、によって達成される。
【０００９】
【作用】第１、第２のシールロール群と、この第１、第
２のシールロール群を囲むケースと、前記第１、第２の
シールロール群とこのケース間をそれぞれシールするシ
ール手段とによって構成し、前記第１、第２のシールロ
ール群はそれぞれ第１のシールロールと、この第１のシ
ールロールに隣接する第２、第３のシールロールで形成
したので、このため例えば前記第１のシールロールと第
２のシールロール間に往路の被処理物をはさみ、又第３
のシールロールと第１のシールロール間に複路の被処理
物をはさんで搬送することができるので、被処理物の真
空処理を良好に行なうことができ、又、生産性の向上が
図れる。
２のシールロール群を囲むケースと、前記第１、第２の
シールロール群とこのケース間をそれぞれシールするシ
ール手段とによって構成し、前記第１、第２のシールロ
ール群はそれぞれ第１のシールロールと、この第１のシ
ールロールに隣接する第２、第３のシールロールで形成
したので、このため例えば前記第１のシールロールと第
２のシールロール間に往路の被処理物をはさみ、又第３
のシールロールと第１のシールロール間に複路の被処理
物をはさんで搬送することができるので、被処理物の真
空処理を良好に行なうことができ、又、生産性の向上が
図れる。
【００１０】
【実施例】以下本発明の実施例を図面によって説明す
る。
る。
【００１１】図１及び図２において、１はプラスチック
成形品など可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的にプ
ラズマ処理する真空処理室で、この真空処理室１内はこ
れに接続する真空ポンプ４により１０〜2トール程度の
真空圧力に保持するように排気管５を介して真空排気さ
れる。また、この真空処理室１内には図示していない
が、真空状態でプラズマ処理を施すための陽極、陰極が
内蔵されている。２は真空処理室１の前方側に複数個配
置される予備真空室、３は真空処理室１の後方側に配置
される複数個の予備真空室で、これら予備真空室２、３
内は、これに接続する真空ポンプ６により前記真空処理
室１内の真空圧力より若干高い程度の真空圧力に保持す
るように排気管７を介して真空排気される。
成形品など可撓性の被処理物Ｆを真空状態で連続的にプ
ラズマ処理する真空処理室で、この真空処理室１内はこ
れに接続する真空ポンプ４により１０〜2トール程度の
真空圧力に保持するように排気管５を介して真空排気さ
れる。また、この真空処理室１内には図示していない
が、真空状態でプラズマ処理を施すための陽極、陰極が
内蔵されている。２は真空処理室１の前方側に複数個配
置される予備真空室、３は真空処理室１の後方側に配置
される複数個の予備真空室で、これら予備真空室２、３
内は、これに接続する真空ポンプ６により前記真空処理
室１内の真空圧力より若干高い程度の真空圧力に保持す
るように排気管７を介して真空排気される。
【００１２】図３及び図４はシールロール部横断面を示
すもので、８、９は両端側がハウジング１０にラジアル
軸受１１および偏心軸受ハウジング１２を介して回転自
在に、かつ上、下方向へ移動可能に支持されるシール用
の第２及び第３シールロールで、この第２及び第３のシ
ールロール８、９の表面には硬質ニッケルクロム層１３
が施されている。１４は前記第２及び第３のシールロー
ル８、９に隣接するように配設され、かつ表面にゴム、
フッソ樹脂などの弾性材１５を一体的に焼着した第１の
シールロール）で、この第１のシールロール１４は両端
側が横ケース１０にラジアル軸受１１及び固定軸受ハウ
ジング１６を介して回転自在に支持されている。
すもので、８、９は両端側がハウジング１０にラジアル
軸受１１および偏心軸受ハウジング１２を介して回転自
在に、かつ上、下方向へ移動可能に支持されるシール用
の第２及び第３シールロールで、この第２及び第３のシ
ールロール８、９の表面には硬質ニッケルクロム層１３
が施されている。１４は前記第２及び第３のシールロー
ル８、９に隣接するように配設され、かつ表面にゴム、
フッソ樹脂などの弾性材１５を一体的に焼着した第１の
シールロール）で、この第１のシールロール１４は両端
側が横ケース１０にラジアル軸受１１及び固定軸受ハウ
ジング１６を介して回転自在に支持されている。
【００１３】１７は上ケース１８に固定され、かつ第２
のシールロール８の外周面側に配設される上シールロー
ル支持受けで、この上シールロール支援受け１７の内周
面には第２のシールロール８のニッケルクロム層１３に
接する低摩擦係数のフッソ樹脂膜１９が焼着されてい
る。２０は下ケース２１に固定され、かつ第３のシール
ロール９の外周面側に配設される下シールロール支持受
けで、この下シールロール支持受け２０の内周面には第
３のシールロール９の表面に接する低摩擦係数のフッソ
樹脂膜２２が焼着されている。
のシールロール８の外周面側に配設される上シールロー
ル支持受けで、この上シールロール支援受け１７の内周
面には第２のシールロール８のニッケルクロム層１３に
接する低摩擦係数のフッソ樹脂膜１９が焼着されてい
る。２０は下ケース２１に固定され、かつ第３のシール
ロール９の外周面側に配設される下シールロール支持受
けで、この下シールロール支持受け２０の内周面には第
３のシールロール９の表面に接する低摩擦係数のフッソ
樹脂膜２２が焼着されている。
【００１４】第１、第２及び第３のシールロールが形成
する３本一組のシールロールでシールロール群を構成
し、このシールロール群を被処理物Ｆの搬送方向と直角
に２列すなわち第１、第２のシールロール群を並べるこ
とによって１個の予備真空室を構成する。したがって、
例えば３列にシールロール群を並べることによって２個
の相隣る予備真空室が構成される。
する３本一組のシールロールでシールロール群を構成
し、このシールロール群を被処理物Ｆの搬送方向と直角
に２列すなわち第１、第２のシールロール群を並べるこ
とによって１個の予備真空室を構成する。したがって、
例えば３列にシールロール群を並べることによって２個
の相隣る予備真空室が構成される。
【００１５】図５は第２、第３及び第１のシールロール
８、９、１４および上、下ケース１８、２１の両端側と
横ケース１０、偏心軸受ハウジング１２との間に介在さ
れるサイドピース２３の取付状態を示したもので、サイ
ドピース２３の第２、第３及び第１のシールロール８、
９、１４の端面と対向する面には、低摩擦係数のフッソ
樹脂膜２４が焼着されており、このサイドピース２３は
ボルト２５を締付けることによりコイルバネ２６を介し
て横ケース１０に押付けられる。このとき、前記第２、
第３及び第１のシールロール８、９、１４の端面と対向
する面には、低摩擦係数のフッソ樹脂膜２４が焼着され
ており、このサイドピース２３はボルト２５を締付ける
ことによりコイルバネ２６を介して横ケース１０に押付
けられる。このとき、前記第２、第３及び第１のシール
ロール８、９、１４とサイドピース２３のフッソ樹脂膜
２４との間には２０μｍ程度の隙間が形成される。ま
た、サイドピース２３の押付力はサイドピース２３とボ
ルト２５との隙間Ｈによって規制される。
８、９、１４および上、下ケース１８、２１の両端側と
横ケース１０、偏心軸受ハウジング１２との間に介在さ
れるサイドピース２３の取付状態を示したもので、サイ
ドピース２３の第２、第３及び第１のシールロール８、
９、１４の端面と対向する面には、低摩擦係数のフッソ
樹脂膜２４が焼着されており、このサイドピース２３は
ボルト２５を締付けることによりコイルバネ２６を介し
て横ケース１０に押付けられる。このとき、前記第２、
第３及び第１のシールロール８、９、１４の端面と対向
する面には、低摩擦係数のフッソ樹脂膜２４が焼着され
ており、このサイドピース２３はボルト２５を締付ける
ことによりコイルバネ２６を介して横ケース１０に押付
けられる。このとき、前記第２、第３及び第１のシール
ロール８、９、１４とサイドピース２３のフッソ樹脂膜
２４との間には２０μｍ程度の隙間が形成される。ま
た、サイドピース２３の押付力はサイドピース２３とボ
ルト２５との隙間Ｈによって規制される。
【００１６】図６は第２及び第３のシールロール８、９
を偏心軸受ハウジング１２により上、下方向へ移動させ
るための説明図である。偏心軸受ハウジング１２の中心
位置Ａは、第２及び第３のシールロール８、９の中心位
置Ｂに対し偏心（偏心量Ｃ）して設けられており、この
偏心軸受ハウジング１２は中心位置Ａを回転中心に図示
しない油圧シリンダ装置により図示矢印方向へ回動す
る。このとき、第２及び第３のシールロール８、９は上
方向または下方向へ、すなわち、第１のシールロール１
４に対いて押付ける方向または第１のシールロール１４
から離れる方向へ移動する。したがって、偏心軸受ハウ
ジング１２の回動角を調整することにより、第２のシー
ルロール８と第１のシールロール１４または第３のシー
ルロール９と第１のシールロール１４との押圧力を任意
に変えることができると共に第３のシールロール９と第
１のシールロール１４の隙間への被処理物Ｆの挿入が容
易になる。
を偏心軸受ハウジング１２により上、下方向へ移動させ
るための説明図である。偏心軸受ハウジング１２の中心
位置Ａは、第２及び第３のシールロール８、９の中心位
置Ｂに対し偏心（偏心量Ｃ）して設けられており、この
偏心軸受ハウジング１２は中心位置Ａを回転中心に図示
しない油圧シリンダ装置により図示矢印方向へ回動す
る。このとき、第２及び第３のシールロール８、９は上
方向または下方向へ、すなわち、第１のシールロール１
４に対いて押付ける方向または第１のシールロール１４
から離れる方向へ移動する。したがって、偏心軸受ハウ
ジング１２の回動角を調整することにより、第２のシー
ルロール８と第１のシールロール１４または第３のシー
ルロール９と第１のシールロール１４との押圧力を任意
に変えることができると共に第３のシールロール９と第
１のシールロール１４の隙間への被処理物Ｆの挿入が容
易になる。
【００１７】図１及び図２にもどって、２７は被処理物
Ｆを予備真空室２を経て真空処理室へ移送する送り出し
装置、２８は真空処理室１内でプラズマ処理された被処
理物Ｆを巻き取る巻き取り装置、２９は駆動用モータ
で、この駆動用モータ２９の駆動力により回転軸３０お
よび動力分配機３１を介して予備真空室２、３の第２、
第３及び第１のシールロール８、９、１４を回転させ
る。
Ｆを予備真空室２を経て真空処理室へ移送する送り出し
装置、２８は真空処理室１内でプラズマ処理された被処
理物Ｆを巻き取る巻き取り装置、２９は駆動用モータ
で、この駆動用モータ２９の駆動力により回転軸３０お
よび動力分配機３１を介して予備真空室２、３の第２、
第３及び第１のシールロール８、９、１４を回転させ
る。
【００１８】上記のように構成される予備真空室２、３
において、第２のシールロール８と第１のシールロール
１４の間のシールは、第２のシールロール８を偏心軸受
ハウジング１２により第１のシールロール１４に対して
押しつけ、第１のシールロール１４の弾性材１５をたわ
ませることにより施される。同様に第３のシールロール
９と第１のシールロール１４の間のシールは、第３のシ
ールロール９を第１のシールロール１４に対して押しつ
け、中シールロール１４の弾性材１５をたわませること
により施される。また、第２のシールロール８と上シー
ルロール支持受けおよび第３のシールロール９と下シー
ルロール支持受け２０の間のシールは、両者間の隙間を
非常に小さく、例えば２０μｍ程度にすることにより可
能である。
において、第２のシールロール８と第１のシールロール
１４の間のシールは、第２のシールロール８を偏心軸受
ハウジング１２により第１のシールロール１４に対して
押しつけ、第１のシールロール１４の弾性材１５をたわ
ませることにより施される。同様に第３のシールロール
９と第１のシールロール１４の間のシールは、第３のシ
ールロール９を第１のシールロール１４に対して押しつ
け、中シールロール１４の弾性材１５をたわませること
により施される。また、第２のシールロール８と上シー
ルロール支持受けおよび第３のシールロール９と下シー
ルロール支持受け２０の間のシールは、両者間の隙間を
非常に小さく、例えば２０μｍ程度にすることにより可
能である。
【００１９】次に本発明の真空処理装置の動作を説明す
る。
る。
【００２０】先ず、真空ポンプ４、６を作動させること
により、真空処理室１内および予備真空室２、３内を真
空排気する。このとき、真空処理室１内の圧力は予備真
空室２、３内の圧力より低く保持される。また、真空処
理室１内には、プラズマ特性を良くするためのアルゴン
ガス、窒素ガスなどを通気する。次に予備真空室２、３
の第２、第３及び第１のシールロール８、９、１４を駆
動用モータ２９の駆動力により回転させると共に真空処
理室１のプラズマ装置を操作する。この状態で被処理物
Ｆは送り出し装置２７から予備真空室２の第３のシール
ロール９と第１のシールロール１４との間を経て真空処
理室１へ連続的に導入される。真空処理室１内では、陽
極と陰極間で発生するプラズマ放電により被処理物Ｆの
表面にプラズマ処理が施される。真空処理室１内のプラ
ズマ表面処理された被処理物Ｆは、直ちに予備真空室３
の第３のシールロール９と第１のシールロール１４との
間を経て巻きとり装置２８により巻き取られる。このよ
うに被処理物Ｆは予備真空室で良好なシール効果が得ら
れると共に真空処理室１内で短時間にプラズマ処理され
るため、プラスチック成形品などに含有している可塑剤
などの内部添加剤の揮発、逸散が制御されると共に、連
続的に被処理物Ｆが真空装置内に導入されるため空気等
の混入も少なく、目的とするガス、目的とする圧力で定
常的に処理可能であり、良好な改質特性を付与すること
が可能にする。
により、真空処理室１内および予備真空室２、３内を真
空排気する。このとき、真空処理室１内の圧力は予備真
空室２、３内の圧力より低く保持される。また、真空処
理室１内には、プラズマ特性を良くするためのアルゴン
ガス、窒素ガスなどを通気する。次に予備真空室２、３
の第２、第３及び第１のシールロール８、９、１４を駆
動用モータ２９の駆動力により回転させると共に真空処
理室１のプラズマ装置を操作する。この状態で被処理物
Ｆは送り出し装置２７から予備真空室２の第３のシール
ロール９と第１のシールロール１４との間を経て真空処
理室１へ連続的に導入される。真空処理室１内では、陽
極と陰極間で発生するプラズマ放電により被処理物Ｆの
表面にプラズマ処理が施される。真空処理室１内のプラ
ズマ表面処理された被処理物Ｆは、直ちに予備真空室３
の第３のシールロール９と第１のシールロール１４との
間を経て巻きとり装置２８により巻き取られる。このよ
うに被処理物Ｆは予備真空室で良好なシール効果が得ら
れると共に真空処理室１内で短時間にプラズマ処理され
るため、プラスチック成形品などに含有している可塑剤
などの内部添加剤の揮発、逸散が制御されると共に、連
続的に被処理物Ｆが真空装置内に導入されるため空気等
の混入も少なく、目的とするガス、目的とする圧力で定
常的に処理可能であり、良好な改質特性を付与すること
が可能にする。
【００２１】また、表面がニッケルクロム層１３の第２
及び第３のシールロール８、９と表面が弾性材１５の第
１のシールロール１４および前記第２及び第３のシール
ロール８、９と表面がフッソ樹脂膜１９、２２の上、下
シールロール支持受け１７、２０は金属層と非金属層の
摺動でもあるため、摩擦力も小さく、長時間の運転にも
十分耐えられる。
及び第３のシールロール８、９と表面が弾性材１５の第
１のシールロール１４および前記第２及び第３のシール
ロール８、９と表面がフッソ樹脂膜１９、２２の上、下
シールロール支持受け１７、２０は金属層と非金属層の
摺動でもあるため、摩擦力も小さく、長時間の運転にも
十分耐えられる。
【００２２】尚、上記実施例では第１のシールロールを
基準に、第２及び第３のシールロ−ルを被処理物の搬送
方向と交差する方向に上、下に隣接して配置するもので
あるが、第１のシールロールを基準に第２及び第３のシ
ールロールを被処理物の搬送方向と交差する方向に水平
に隣接して配置しても同様の効果が得られる。
基準に、第２及び第３のシールロ−ルを被処理物の搬送
方向と交差する方向に上、下に隣接して配置するもので
あるが、第１のシールロールを基準に第２及び第３のシ
ールロールを被処理物の搬送方向と交差する方向に水平
に隣接して配置しても同様の効果が得られる。
【００２３】図７は本発明における予備真空室のロール
とケースおよびロール間の軸方向シール手段の他の実施
例を示すものである。
とケースおよびロール間の軸方向シール手段の他の実施
例を示すものである。
【００２４】第７図において、第３図及び第４図と同一
符号のものは同一部分を示す。
符号のものは同一部分を示す。
【００２５】３２、３３は前記第２のシールロール８と
第３のシールロール９の一部と軸方向に沿って連続的に
隣接し、且つ上、下ケース１８、２１に取外し可能に支
持されるウレタンゴムなどのリップ部材で、このリップ
部材３２、３３はリップシール３４、３５とリップ取付
台３６、３７から成っている。
第３のシールロール９の一部と軸方向に沿って連続的に
隣接し、且つ上、下ケース１８、２１に取外し可能に支
持されるウレタンゴムなどのリップ部材で、このリップ
部材３２、３３はリップシール３４、３５とリップ取付
台３６、３７から成っている。
【００２６】このように第２のシールロール８、第３の
シールロール９の一部と接するようにリップ部材３２、
３３を配設することにより、ロールとケースおよびロー
ル間に軸方向の良好なシール効果を得ることはもちろ
ん、耐久性が向上する。
シールロール９の一部と接するようにリップ部材３２、
３３を配設することにより、ロールとケースおよびロー
ル間に軸方向の良好なシール効果を得ることはもちろ
ん、耐久性が向上する。
【００２７】また、リップ部材３２、３３を上、下ケー
スに取外し可能に支持させるため、たとえリップ部材が
摩擦力により使用不能になった場合でも容易に交換が可
能となる。
スに取外し可能に支持させるため、たとえリップ部材が
摩擦力により使用不能になった場合でも容易に交換が可
能となる。
【００２８】尚、本発明の一実施例においては、真空処
理室１の前後方側にそれぞれ予備真空室２を配置した場
合について説明したが、第８図に示す如く真空処理室１
の前方側に予備真空室２を配置し、被処理物Ｆを真空処
理室１内に予備真空室２の第１のシールロールと第３の
シールロールとの間から送り込み、第２のシールロール
と第１のシールロールとの間から送り出すことも可能で
ある。
理室１の前後方側にそれぞれ予備真空室２を配置した場
合について説明したが、第８図に示す如く真空処理室１
の前方側に予備真空室２を配置し、被処理物Ｆを真空処
理室１内に予備真空室２の第１のシールロールと第３の
シールロールとの間から送り込み、第２のシールロール
と第１のシールロールとの間から送り出すことも可能で
ある。
【００２９】このように予備真空室２を真空処理室１の
前方側に配置することにより、予備真空室２を構成する
シールロールの個数が半分にできるため、真空のもれ個
所が低減されると共に設置面積が少なくてすむ。
前方側に配置することにより、予備真空室２を構成する
シールロールの個数が半分にできるため、真空のもれ個
所が低減されると共に設置面積が少なくてすむ。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、予備真空室内のシール
およびシール部分における耐久性を大幅に向上させるこ
とができるため、被処理物の真空処理を良好に行なうこ
とができ、又、生産性の大幅な向上が図れるという効果
がある。
およびシール部分における耐久性を大幅に向上させるこ
とができるため、被処理物の真空処理を良好に行なうこ
とができ、又、生産性の大幅な向上が図れるという効果
がある。
【図１】本発明の原理説明図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】シールロール部横断面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ線矢視図である。
【図５】シールロール端面詳細図である。
【図６】シールロールの偏心軸受詳細図である。
【図７】シールロールの他の実施例の横断面図である。
【図８】本発明の他の実施例の原理説明図である。
【符号の説明】１…真空処理室、２、３…予備真空室、
８…第２のシールロール、９…第３のシールロール、１
４…第１のシールロール、Ｆ…被処理物。
８…第２のシールロール、９…第３のシールロール、１
４…第１のシールロール、Ｆ…被処理物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 東海 正家 茨城県土浦市神立町603番地 株式会社 日立製作所 土浦工場内 (72)発明者 畑 慶忠 茨城県土浦市神立町603番地 株式会社 日立製作所 土浦工場内 (72)発明者 加藤 健一 東京都千代田区大手町二丁目６番２号 株 式会社 日立製作所内 (56)参考文献 特開 昭57−18737（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】真空処理室の両方側または一方側に予備真
空室を少なくとも１個配置し、前記真空処理室で被処理
物を真空処理する真空処理装置において、前記予備真空
室は被処理物の搬送方向に対向して配置された第１、第
２のシールロール群と、この第１、第２のシールロール
群を囲むケースと、前記第１、第２のシールロール群と
このケース間をそれぞれシールするシール手段とにより
構成され、前記第１、第２のシールロール群はそれぞれ
第１のシールロールと、この第１のシールロールに隣接
する第２、第３のシールロールで形成される３本一組の
シールロールからなり、この第１、第２のシールロール
群は第１のシールロールを基準に、第２、第３のシール
ロールを被処理物の搬送方向と交差する方向に水平に配
置することを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6601791A JPH0686541B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6601791A JPH0686541B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 真空処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14946280A Division JPS5773026A (en) | 1980-10-27 | 1980-10-27 | Apparatus for continuous plasma treatment |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26121795A Division JP2635304B2 (ja) | 1995-10-09 | 1995-10-09 | 真空処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04211436A JPH04211436A (ja) | 1992-08-03 |
| JPH0686541B2 true JPH0686541B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=13303746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6601791A Expired - Lifetime JPH0686541B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0686541B2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP6601791A patent/JPH0686541B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04211436A (ja) | 1992-08-03 |
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