JPS6236430A - 真空連続処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は合成繊維やプラスチック成形品、たとえば塩化
ビニール系樹脂など可撓性の被処理物を連続的に真空状
態で処理する装置に関するものである。

〔発明の背景〕

この種の真空連続処理装置は１本願出願人によりすでに
特開昭５７−１９５７５１号公報などで出願されている
。この装置は、プラスチック成形品など可撓性の被処理
物を真空処理室内で連続的にプラズマ処理するものであ
る。そしてこの真空処理室の前後側には少なくとも１個
の予備真空室が段階的に真空度を下げるために設けられ
ており、この予備真空室は、上下方向に対接し、被処理
物の搬送方向に並置する一方のシールロールと、このシ
ールロールの一部に軸方向に沿って連続的な対接するリ
ップル部材とシールロールの両端面にサイドピースなど
を備えている。

しかしながら、従来の装置においては、シールロールの
軸方向の位置決めをサイドピースで行なっていたが、こ
のサイドピースは、シールロールの熱膨張を考慮して一
方側の端面をバネ材によってケースとシールロールに対
して押付ける構造となっている。このため、処理する被
処理物（例えばフィルム）の厚みの不均一性などにより
、シールロールの軸方向に力が加わると、シールロール
がサイドピースを押しながら軸方向に移動するため、サ
イドピースとケース間に隙間が生じ、空気の漏れが大き
くなるという問題点を有していた。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、サイドピースとケース間からの漏れを
低減してシール性の向上を図るようにした真空連続処理
装置を提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は一ヒ記目的を達成するために、シールロールの
軸方向の位置を、シールロールを支持する軸受により決
定し、サイドピースとシールロールの相対する位置を一
定になるようにしたものである。

〔発明の実施例〕

以下本発明の一実施例を図面により説明する。

第１図および第２図において、１はプラスチックフィル
ム例えば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可視性の
被処理物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空
処理室、２は真空処理室１の前方側に複数個配置される
予備真空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配置さ
れる予備真空室で、前記真空処理室１内はこれに接続す
る真空ポンプ４により１０−２ト一ル程度の真空圧力に
保持するように排気管５を介して真空排気される。

前記予備真空室２，３内はこれに接続する真空ポンプ６
により前記真空処理室１内の真空圧力により若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空圧力に保持するよう
に排気管７を介して真空排気される。

処理される被処理物Ｆは巻出装置８より前方側の予備真
空室２を経て真空処理室１へ送られ、そこでプラズマ処
理された後、さらに後方側の予備真空室３を経て巻取装
置９で巻取られる。１０は駆動用モータで、この駆動用
モータ１０はラインシャフト１１および無段変速機１２
，１３，１４゜１５を介して真空処理室１、予備真空室
２，３、巻取装置９へ駆動力を伝達し、真空処理室１、
予備真空室２，３および巻取装置９の各駆動系の回転速
度は前記無段変速機１２，１３，１４，１５により適宜
調整される。

第３図〜第６図はＱｆｆ　’Ｅ予備真空室２および３の
主要部を示すもので、上シールロール１６は表面にゴム
などの弾性体１８が一体的に焼着されており、下シール
ロール１７は表面に硬質のクロムニッケル層が施されて
いる。１９．２０は上下シールロール１６．１７の外周
面の１部に軸方向に沿って連続的に対接するリップル部
材で、リップル部材はケース２１にプレート２３．２４
を介してボルト２２により押付けられている。２５．２
６は上下シールロール１６．１７の両端側に対接するサ
イドピースで、このサイドピース２５．２６のシールロ
ールの対接側にはフッソ樹脂膜２７が焼着されており、
このサイドピースは軸受ハウジング２８．２９により支
持されている。前記上下シールロール１６．．１７の軸
方向の位置は°アンギュラコンタクト軸受３１により決
められている。

シールロール１６．１７はブツシュ３２を回転させるこ
とにより、ブツシュ３２に形成したねじ３２ａの作用で
左右方向に移動するが、シールロール１６．１７の両端
側に対接するサイドピース２５．２６からの総合の漏れ
が最も小さくなる位置、すなわち、シールロールの端面
とケース２１の端面が一致する位置にブツシュ３２で調
整し、ナツト３２ｂで固定する。このようにシールロー
ル１６，１７の端面とケース２１の端面を一致する位置
に固定することにより、被処理物Ｊの厚さの不均一など
によりシールロールが軸方向の力を受けた場合でも軸方
向には移動しない。

このため、シールロール１６．１７とサイドピース２５
．２６およびケース２１とシールロール間の隙間は常に
小さく、したがって大気側から真空室内への空気の洩れ
量が少なくなる。

尚、微少ではあるが、シールロールの熱膨張により軸方
向の伸びが発生する。この熱膨張による影響は、サイド
ピースの片側をばねによりケースおよびシールロールに
対して押付ける構造になっているため、シールロールに
は熱膨張による押付力が作用しない。

次に本発明装置の作動を説明する。

先ず、真空ポンプ４，６を作動させることにより、真空
処理室１内および予備真空室２，３内を真空排気する。

真空処理室１内の圧力は予備真空室２，３内の圧力より
低く保持される。また、真空処理室１内には、プラズマ
特性を良好にするためのアルゴンガス、窒素ガスなどを
供給する。

次に予備真空室２，３に備えられる一対の上シールロー
ル１６．１７を駆動モータ１０の駆動力により回転させ
ると共に真空処理室１の両電極間に高周波電力を供給す
る。この状態で被処理物Ｆは巻出装置８から予備真空室
２の上、下シールロール１６．１７を経て真空処理室１
内へ導入される。真空処理室１内では、両電極間でプラ
ズマ放電を発生させるため、両電極間に挿入されている
被処理物Ｆのフィルム面にはプラズマ処理が施される。

このとき、予備真空室を構成するシールロール１６．１
７とサイドピース２５．２６およびケース２１とシール
ロール１６．１７間の隙間量は、前記の構成により常に
小さく維持されるため、隙間からの空気の洩れ量が少な
くなり、予備真空Ｊ内の高真空度が常に保持できる。そ
して、真空処理室１内でプラズマ処理された被処理物Ｆ
は、直ちに予備真空室３の上下シールロールとの間を経
て巻取装置９により巻取られる。

［発明の効果〕 本発明装置によれば、予備真空室を構成するサイドピー
スおよびケースとシールロール間の漏れが大幅に減少さ
せることができるので、シール性の向上が図れる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明の真空連続処理装置の一実
施例を示すもので、第１図は正面図、第２図は第１図の
平面図、第３図は本発明装置における予備真空室の要部
を示す拡大図、第４図は第３図のＩＶ−ＩＶ線矢視断面
図、第５図は本発明装置におけるリップル部材の取付状
態を説明するための拡大図、第６図は第３図のＶＩ−Ｖ
Ｉ線矢視断面図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、１６゜
１７・・・シールロール、１９，２０・・・リップル部
材、２５．２６・・・サイドピース、３１・・・軸受。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個配置さ
   れる予備真空室を有し、この予備真空室が、上下方向に
   対接し、かつ可撓性の被処理物の搬送方向に並置された
   一対のシールロールと、このシールロールの一部に軸方
   向に沿って連続的に対接するリップル部材と、前記シー
   ルロールの両端面に対接するサイドピースから成る真空
   連続処理装置において、前記シールロールの軸方向の位
   置を、シールロールを支持する軸受により決定し、サイ
   ドピースとシールロールの相対する位置を一定になるよ
   うにしたことを特徴とする真空連続処理装置。